「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(51ページ目) - Weblio英語例文検索

In particular, the outer wall layer 5 is formed by winding a thermoplastic elastomer tape of a thickness of 1.0 mm or less around the outer side of the foam insulation layer 4.例文帳に追加

とくに外壁層５は、厚さ１．０ｍｍ以下の熱可塑性エラストマーテープを発泡断熱材層４の外側に巻き付けて構成した。 - 特許庁

(b) A coating amount in a part of the substrate and per unit area, or the thickness of the layer is measured while the formed layer is not dried.例文帳に追加

b)形成された該層が乾燥しない状態で、該基板の一部と単位面積あたりの塗工量または、該層の厚さを測定する工程。 - 特許庁

A surface roughness Rmax of a luminous side face of the electron transport layer is preferred to be 50% or less of a film thickness of the electron transport layer.例文帳に追加

電子輸送層の発光層側の面の表面粗さＲｍａｘが、電子輸送層の膜厚の５０％以下であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a wavefront aberration correction mirror for fixing an adhesive layer thickness and forming an adhesive layer thin.例文帳に追加

接着層厚みを一定にすると共に、接着層を薄く形成することの可能な波面収差補正ミラーの製造方法を提供する。 - 特許庁

The thickness of the MgO layer 14A formed on the side face is smaller than that of the MgO layer 14 formed on the bottom face.例文帳に追加

側面上に形成されたＭｇＯ層１４Ａは底面上に形成されたＭｇＯ層１４より膜厚が薄いことを特徴とする。 - 特許庁

An ITO film 11 is formed, as a window layer, on the p-contact layer 6 and protrusions and recesses 12 of a specified thickness are formed on the surface thereof.例文帳に追加

ｐコンタクト層６上には、窓層としてのＩＴＯ膜１１が形成され、その表面には所定の厚みに凹凸１２が形成される。 - 特許庁

A first portion 115a having 1/2 of the thickness of the metal layer, such as thick aluminum, is deposited by spattering on a dielectric layer.例文帳に追加

誘電体層の上に、厚いアルミニウムなどの金属層の２分の１の厚さを持つ第１部分１１５ａがスパッタ法により堆積される。 - 特許庁

To provide a display panel allowing an organic compound layer suppressing film thickness irregularity of the organic compound layer to be formed; and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

有機化合物層の膜厚むらを抑える有機化合物層を形成することができる表示パネル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, the electroless plating layer 2 is formed so that the thickness thereof is 1 μm or below and the surface of the electrolytic plating layer 3 is formed as a roughened surface 4.例文帳に追加

そして、無電解めっき層２の厚みを１μｍ以下に形成すると共に電解めっき層３の表面を粗化面４に形成する。 - 特許庁

To provide a dielectric ceramic composition which is capable of layer-thinning a dielectric ceramic layer down to a thickness of the order of 1 μm and to provide a laminated ceramic capacitor.例文帳に追加

誘電体セラミック層が１μｍ程度まで薄層化した場合には積層セラミックコンデンサとしての信頼性を確保することが難しい。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing substrate suitable for manufacturing a substrate, provided with a silicon layer whose thickness is adjusted precisely and that is formed on an insulating layer.例文帳に追加

精密に調整された膜厚のシリコン層を絶縁層上に有する基板の製造に好適な基板製造方法を提供する。 - 特許庁

The compression function layer 60 gives a function for compression by receiving pressurization in the direction of board thickness to a resin substrate 10 including the layer.例文帳に追加

圧縮機能層６０は、この層を含む樹脂基板１０に、基板厚み方向の加圧を受けて圧縮する機能を付与するものである。 - 特許庁

A plurality of upper through holes 18 penetrating the upper thin film insulating layer 13 in the thickness direction are formed at the upper thin film insulating layer 13.例文帳に追加

上薄膜絶縁層１３には、その厚さ方向に上薄膜絶縁層１３を貫通する複数の上貫通孔１８が形成されている。 - 特許庁

PLATING BODY LOCALLY VARYING IN PLATING THICKNESS, METHOD FOR FORMING ITS PLATING LAYER, PTC ELEMENT AND METHOD FOR FORMING PLATING LAYER OF PTC ELEMENT例文帳に追加

局部的にめっき厚さの異なるめっき体、そのめっき層の形成方法、ＰＴＣ素子、およびＰＴＣ素子のめっき層の形成方法。 - 特許庁

On an intermediate layer 104, an MQW active layer 160, of about 500 Å thickness is formed of a total of five semiconductor layers.例文帳に追加

中間層１０４の上には、計５層の半導体層により厚さ約５００ÅのＭＱＷ活性層１６０が形成されている。 - 特許庁

To provide a light emitting panel and a method of manufacturing the same, in which an organic compound layer for suppressing thickness unevenness of the organic compound layer is formed.例文帳に追加

有機化合物層の膜厚むらを抑える有機化合物層を形成することができる発光パネル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The sponge rubber layer is formed as a sponge rubber sheet layer with a uniform thickness which is a polished sponge rubber sheet wound around the outer peripheral face of the core material.例文帳に追加

スポンジゴム層は、芯材の外周面に巻付けられたスポンジゴムシートを研磨処理により均一な厚さのスポンジゴムシート層として形成する。 - 特許庁

Further, thickness of an insulation rubber between a cord of the inner belt layer and a cord of the outer belt layer is thicker than 0.6 mm and is thinner than 1.3 mm.例文帳に追加

さらに、内側ベルト層のコードと外側ベルト層のコード間のインシュレーションゴムの厚さが０．６ｍｍより厚く、１．３ｍｍより薄い。 - 特許庁

The thickness of the buffer layer 102 is formed into nearly 250 nm and that of the superconductor layer is formed into nearly 100 to 120 nm.例文帳に追加

緩衝層１０２は、膜厚２５０ｎｍ程度に形成され、超伝導体層１０３は、膜厚１００〜１２０ｎｍ程度に形成されている。 - 特許庁

At first, the semiconductor film layer (36) is formed from a substrate (18) of standard thickness, and next, a thin surface layer of the substrate is etched or polished.例文帳に追加

最初に、標準厚さの基板（１８）から半導体膜層（３６）を形成し、次いで、基板の薄い表面層をエッチングまたは研磨する。 - 特許庁

The laminated film is formed by laminating a coating layer (B) having 0.2-5 μm thickness on one surface of the porous film layer (A) and has no gas permeability.例文帳に追加

多孔性フィルム層（Ａ）の片面に、厚みが０．２〜５μｍの被覆層（Ｂ）を積層してなり、透気性を有していない積層フィルムとする。 - 特許庁

A side wall insulating film 18 whose film thickness is larger than the gate insulating film 21 positioned above the active layer 12 is disposed by surrounding a periphery of the active layer 12.例文帳に追加

活性層12上に位置するゲート絶縁膜21よりも膜厚が大きい側壁絶縁膜18を、活性層12の周囲を囲んで設ける。 - 特許庁

The substrate layer has a thickness of 2 nm or more and 100 nm or less and includes an Al-containing intermediate layer that contains a nitride semiconductor containing Al.例文帳に追加

下地層は、２ｎｍ以上１００ｎｍ以下の厚さを有し、Ａｌを含む窒化物半導体を含むＡｌ含有中間層を含む。 - 特許庁

The substrate 3 is composed of a resin film made of polyimide, whose thickness is 175 μm, and is a flexible resin layer constituted of a resin film single layer.例文帳に追加

基板３は、厚さ１７５μｍのポリイミド製の樹脂フィルムからなり、この樹脂フィルム単層で構成されたフレキシブルな樹脂層である。 - 特許庁

The movement is constituted to be separated into two layers comprising one layer part in a dial plate 3 side and two-layer part in a backcover 30 side along a thickness direction of the time piece.例文帳に追加

ムーブメントは、時計の厚み方向において、文字板３側の一層部と裏蓋３０側の二層部との２層に分かれて構成される。 - 特許庁

A stacked body 100 is a polycrystalline structure formed of a monocrystal layer (crystal gain 110) including a C-surface standing up along a thickness direction of the layer.例文帳に追加

積層体１００は、Ｃ面が層の厚さ方向に沿って起立した単結晶（結晶粒１１０）の層からなる多結晶構造である。 - 特許庁

The thickness of a rubber layer 33m and the like at a rigid end member 36 side is thicker than that of a rubber layer 33a and the like at a rigid end member 35 side.例文帳に追加

剛性端部材36側におけるラバー層33m等の厚さを、剛性端部材35側におけるラバー層33a等の厚さよりも厚く構成する。 - 特許庁

The thickness of the magnetic layer is 0.01-0.1 μm and the proportion of the exposure area of the nonmagnetie powder in the surface of the magnetic layer is ≤10%.例文帳に追加

前記磁性層厚みが0.01〜0.1μmであり、磁性層表面に於ける前記非磁性粉末の露出面積の比率が１０％以下である。 - 特許庁

To provide a material of a surface protecting layer for an optical recording medium, forming the protecting layer excellent in transparency, film thickness uniformity and adhesive properties.例文帳に追加

透明性、膜厚均一性に優れ、密着性に優れた保護層を形成する光記録媒体用表面保護層材料を提供する。 - 特許庁

Preferably, the thickness of the surface layer part is controlled to ≥0.1 mm from the surface of the steel, and the volume ratio of the internal layer part is controlled to ≥70% of the whole of the steel.例文帳に追加

表層部の厚みは鋼材表面から0.1mm 以上、内層部の体積比率は鋼材全体の70％以上とするのが好ましい。 - 特許庁

Due to such a formation of holes around the joint surface, the depth of depletion layer becomes equivalent to the thickness tSOI1 of single-crystal layer 21.例文帳に追加

このように接合面付近にホールが存在することによって、空乏層深さが単結晶層２１の厚さｔ_SOI1に相当することとなる。 - 特許庁

The focus control to the objective layer is performed in such a state that correction of a spherical aberration caused by the thickness of equipment and material up to the objective layer is carried out.例文帳に追加

目的層までの機材厚による球面収差の補正を行った状態で、目的層へフォーカス制御をさせる動作を行う。 - 特許庁

Pref., a glass fiber mat 3 is embedded in the intermediate part of the floor tile in the thickness thereof to laminate a fiber layer 4 to the bottom surface of the substrate layer 2.例文帳に追加

好ましくは、床タイルの厚み方向の中間部にガラス繊維マット３を埋入し、下地層２の底面に繊維層４を積層する。 - 特許庁

By this arrangement, the DC field distribution in radial direction in the insulating layer 13 can be smoothed and the thickness of the insulating layer 13 can be reduced.例文帳に追加

この構成により絶縁層13における径方向の直流電界分布が平滑化でき、絶縁層13の厚み低減を図ることができる。 - 特許庁

The A-layer is a non-oriented layer mainly composed of a substantially amorphous copolymerized polyester resin composition part and having a thickness of 100 μm or less.例文帳に追加

Ａ層：実質的に非晶性である共重合ポリエステル樹脂組成部を主成分としてなる厚みが１００μｍ以下の無配向の層。 - 特許庁

To provide a thin-layer pavement, which displays remarkably excellent durability to a rutting and cracking and in which the thickness of an asphalt layer is thinned particularly.例文帳に追加

轍掘れ及びひび割れに対して著しく優れた耐久性を示し、特にアスファルト層の厚さを薄くした薄層舗装を提供する。 - 特許庁

The active layer 2 may be arranged having the film thickness nearly equal to the carrier diffusion length, or divided and arranged in the center of the optical guide layer.例文帳に追加

活性層２はキャリア拡散長程度の膜厚のまま光ガイド層の中央に配置するか、活性層を分割して配置してもよい。 - 特許庁

Near a center O in a slice direction, thickness of a first piezoelectric layer 3a is made almost equal to that of a second piezoelectric layer 3b.例文帳に追加

スライス方向の中心Ｏ付近においては、第１の圧電体層３ａの厚さと第２の圧電体層３ｂの厚さとをほぼ等しくする。 - 特許庁

Then, the electroless plating layer 2 is formed so that the thickness thereof is 1 μm or below and the surface of the electroless plating layer 2 is formed as a roughened surface 4.例文帳に追加

そして、無電解めっき層２の厚みを１μｍ以下に形成すると共に電解めっき層２の表面を粗化面４に形成する。 - 特許庁

The second coat layer 62 is a Ni-plated layer having a thickness of 1 μm and includes a plurality of PTFE grains 62a having water repellency.例文帳に追加

第２被膜層６２は、１μｍの厚みを有するＮｉメッキ層であり、撥水性を有する複数のＰＴＦＥ粒子６２ａを含んでいる。 - 特許庁

The metal portion has a thickness ranging from 10 nm or more to 100 nm or less along the direction toward the second semiconductor layer from the first semiconductor layer.例文帳に追加

金属部は、第１半導体層から第２半導体層に向かう方向に沿った厚さが１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である。 - 特許庁

Subsequently, an amorphous silicon layer 13 is formed on the silicon substrate 11 through the oxide silicon layer 12 so as to have a thickness of not more than 1nm preferably.例文帳に追加

次いで、シリコン基板１１上に酸化シリコン層１２を介してアモルファスシリコン層１３を好ましくは１ｎｍ以下の厚さに形成する。 - 特許庁

The resin laminate comprises a combination of a resin layer (A) with a thickness of 50 μm having fire retardancy and heat-resistant ageing characteristics and a resin layer (B) having electromagnetic wave absorbability.例文帳に追加

難燃性と耐熱老化性を有する５０μｍ以下の樹脂層（Ａ）と、電磁波吸収性を有する樹脂層（Ｂ）の組み合わせとする。 - 特許庁

and an expression (2):1.20≤N≤1.60, with N representing the refractive index of the antireflection layer and d representing the thickness (nm) of the antireflection layer.例文帳に追加

９２．５／Ｎ ≦ ｄ ≦ ２５０／Ｎ （１） １．２０ ≦ Ｎ ≦ １．６０ （２）（式中、Ｎは反射防止層の屈折率、ｄは反射防止層の厚み（ｎｍ）である。） - 特許庁

The film thickness of the scintillator layer 13 is 500μm or larger, and the filling factor of the columnar crystal 31 in the scintillator layer 13 is 70 to 85%.例文帳に追加

シンチレータ層13の膜厚が５００μｍ以上で、かつシンチレータ層13における柱状結晶31の充填率が７０〜８５％である。 - 特許庁