「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目) - Weblio英語例文検索

In addition, a cell thickness adjustment layer 115 is provided on a substrate and a second light shielding area 120B that regulates boundaries of a plurality of pixel areas is provided on the cell thickness adjustment layer 115 in the display area.例文帳に追加

また、表示領域内においては、基板上にセル厚調整層１１５が設けられ、その上に複数の画素領域の境界を規定する第２の遮光領域１２０Ｂが設けられる。 - 特許庁

A plurality of apertures 46, penetrating into the thickness direction of the light-shielding layer 46, are formed in the light-shielding layer 45 so as to overlap in the thickness direction of the translucent base material 41 at the optical axis of each optical element 43.例文帳に追加

遮光層４５には、各光学素子４３の光軸と透光性基材４１の厚さ方向に重なるように遮光層４５の厚さ方向に貫通する開口部４６を複数形成する。 - 特許庁

Alternatively, the thermal conductive sheet having a thickness of 0.5-2.0 mm may be obtained by preparing thin layer sheets each having a thickness of 0.1-0.5 mm by the above process and then subjecting a laminate comprising a plurality of the thin layer sheets to hot press molding or rolling molding.例文帳に追加

また、前記製造方法で厚さ０．１〜０．５ｍｍに成形した薄層シートを複数枚重ねて熱プレス成形または圧延ロール成形して、厚さ０．５〜２．０ｍｍのシートとしてもよい。 - 特許庁

In the pneumatic tire, the oil-resistant rubber layer is provided on a base tread 2 part, the thickness of the oil-resistant rubber layer is preferably 1.0-2.0 mm, and ≤ 1/4 of the thickness of the entire tread.例文帳に追加

前記空気入りタイヤにおいて、耐油性ゴム層はベーストレッド２部分に設けられ、該耐油性ゴム層の厚さが１．０〜２．０ｍｍであり、かつトレッド全体の厚さの１／４以下であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a method for measuring the thickness of an adhesive layer in a cemented body, which properly measures the thickness of an adhesive layer regardless of the magnitude of a difference in refractive index of elements in a cemented body.例文帳に追加

接合体における各構成の屈折率差の大小に関係なく、好適に接着層の厚さを測定することができる、接合体における接着層の厚さの測定方法を提供する。 - 特許庁

In addition, on the outer circumferential face of the clad 22 of this optical fiber 2, there is provided a copper coating layer 23 with a thickness of 2 nm, on which a gold coating layer 24 with a thickness of 200 nm is provided.例文帳に追加

また、この光ファイバ２のクラッド２２の外周面上には厚さが２ｎｍの銅コーティング層２３が設けられ、この上には厚さが２００ｎｍの金コーティング層２４が設けられている。 - 特許庁

To provide a developer layer thickness control member that stably carries out control of developer layer thickness while suppressing a striped image, a developing apparatus, a cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

本発明の目的は、スジ画像を抑制しながら、安定した現像剤層厚規制を行うことができる現像剤層厚規制部材、現像装置、カートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Furthermore, by the use of this connection film, a very large connection magnetic field can be ensured without increasing the antiferromagnetic layer in thickness or decreasing the ferromagnetic layer in thickness.例文帳に追加

しかも、こうした交換結合膜によれば、極めて大きな交換結合磁界を確保するにあたって、反強磁性層の膜厚を増大させたり強磁性層の膜厚を減少させたりする必要はない。 - 特許庁

The thickness T_a of the heat-treated hardened layer 16a of an outer ring raceway 12a part on the outside in the axial direction, is set larger than the thickness T_b of the heat-treated hardened layer 16b of an outer ring raceway 12b part on the inside.例文帳に追加

更に、軸方向外側の外輪軌道１２ａ部分の熱処理硬化層１６ａの厚さＴ_a が、同内側の外輪軌道１２ｂ部分の熱処理硬化層１６ｂの厚さＴ_b よりも大きい。 - 特許庁

A diaphragm/liquid chamber substrate 41 and a nozzle plate 43 are bonded through an adhesive layer 105 wherein a partial thickness is present on the bonding face side of the nozzle plate 43 and the adhesive layer 105 is varied along the partial thickness.例文帳に追加

振動板／液室基板４１とノズル板４３とを接着層１０５を介して接合し、ノズル板４３の接合面側には偏肉があり、接着層１０５が偏肉に沿って変化している。 - 特許庁

The resin-based powder has a particle diameter larger than the thickness of a printed layer formed by applying the printing liquid on the base material and preferably has a particle diameter 2 to 50 times as large as the thickness of the printed layer.例文帳に追加

樹脂系粉末は、印刷液を基材に塗工してなる印刷層の厚みよりも大きな粒子径を有しており、好ましくは印刷層の厚みに対して２〜５０倍の粒子径を有する。 - 特許庁

The method for inspecting the photocatalytic body is performed by detecting the difference of the color tone of the coating layer to inspect the thickness of the photocatalyst layer or the unevenness of the thickness in the manufacture of the photocatalytic body.例文帳に追加

(2) 前記記載の光触媒体の製造時に前記コーティング層の色調差を検出し、光触媒層の厚さまたは厚み斑を検査することを特徴とする光触媒体の検査方法。 - 特許庁

In a process for inserting the thickness directed fibers, the thickness directed fibers 14 are inserted into the laminated fiber layer 13 to cross the laminated fiber layer 13 to form a flat plate-like primary structure 21.例文帳に追加

厚さ方向糸挿入工程で積層繊維層１３に厚さ方向糸１４を積層繊維層１３と直交するように挿入して平板状の一次構造体２１を形成する。 - 特許庁

The first node moving means moves each mesh node of the surface layer in a plate thickness direction in accordance with a deviation in the plate thickness of the surface layer calculated by the fluid analysis means from a design value.例文帳に追加

第１節点移動手段は、流動解析手段によって算出された表皮層の板厚の設計値に対する偏差に応じて、表皮層の各メッシュ節点を板厚方向に移動させる。 - 特許庁

Thickness (t) of the transparent protective layer 3 is so selected as to satisfy Θ≤84.115.λ/{(NA)3.t}, when the permissible inclination angle of the optical recording medium is defined as Θ(°) and the thickness of the transparent protective layer 3 as t (μm).例文帳に追加

光学記録媒体の許容傾き角をΘ（°）、透明保護層３の厚さをｔ（μｍ）としたとき、Θ≦８４．１１５・λ／｛（ＮＡ）^3 ・ｔ｝を満足するように透明保護層３の厚さｔを選ぶ。 - 特許庁

A plurality of openings part 45a passing through the shading layer 45 in the direction of the thickness are formed on the shading layer 45 to overlap on optical axes of the optical elements 43 and the direction of the thickness of the translucent base member 41.例文帳に追加

遮光層４５には、各光学素子４３の光軸と透光性基材４１の厚さ方向に重なるように遮光層４５の厚さ方向に貫通する開口部４５ａを複数形成する。 - 特許庁

The thickness of the organic light-emitting layer 4 is designed on the basis of a correlation between the amount of components of the emitted light and thickness of the organic light-emitting layer 4 derived from the measured results.例文帳に追加

前記計測結果から導出された前記出射する光の成分の量と有機発光層４の厚みとの間の相関関係に基づいて、有機発光層４の厚みを設計する。 - 特許庁

Diameter of the abrasive grain of diamond 3 is set at #60/70-#325/400, thickness of the plating layer 2 is set as 50% or more and less than 70% of the diameter of the abrasive grain of diamond, and thickness of the resin layer is set at 5-30 μm, preferably.例文帳に追加

前記ダイヤモンド砥粒３の径は＃６０／７０〜＃３２５／４００、前記めっき層２の厚みが前記ダイヤモンド砥粒径の５０％以上７０％未満、前記樹脂層の厚みが５〜３０μｍとするのが好ましい。 - 特許庁

On the contrary, in a semiconductor device 1 according to the embodiment, a thickness of an active layer 3 is thinned so as to equalize the depths of drain regions 4A and 4B and source regions 5A and 5B with the thickness of the active layer 3.例文帳に追加

これに対して本実施形態の半導体装置１では、活性層３の厚みを薄くしてドレイン領域４Ａ，４Ｂやソース領域５Ａ，５Ｂの深さを活性層３の厚みと同じにしている。 - 特許庁

Thickness of the coating layer on the main guide member 33 formed by the anodizing process is different from thickness of the coating layer on the pipe members 32 formed by the anodizing process since the main guide member 33 and the pipe members 32 are made of different materials.例文帳に追加

主ガイド部材３３と筒状部材３２とが異種材料であることから、陽極酸化処理を行った場合、表面に形成される薄膜の膜厚が異なって形成される。 - 特許庁

To suppress the generation of large frictional heat and to suppress the retention of a developer near a layer thickness regulating member by preventing large pressure from being applied to the developer near the layer thickness regulating member to reduce friction between the developers and between the developer and a screw.例文帳に追加

層厚規制部材付近いおいて、現像剤に大きな圧力がかかるのを防ぎ、現像剤同士又は現像剤とスクリューなどの摩擦を軽減し、大きな摩擦熱の発生を抑える。 - 特許庁

To provide a developing device by which the force of a layer thickness regulating blade pressing to a developing roller is properly maintained while surely preventing toner leakage between a side seal and the layer thickness regulating blade.例文帳に追加

サイドシールと層厚規制ブレードとの間のトナー洩れを確実に防止しつつ、層厚規制ブレードの現像ローラに対する押圧力を適正に保つことのできる現像装置を提供すること。 - 特許庁

The package has a silicone membrane or a silicone layer as the non-adhesive layer 4 and has a thickness smaller than 10 μm, preferably a thickness smaller than 5 μm, is made by spray application, and present in dry form.例文帳に追加

また、不粘着層４としてシリコーン膜またはシリコーン層を備え、１０μｍより小さい、好ましくは５μｍより小さい厚さを有し、スプレー塗布により製造され、乾燥した形態で存在する。 - 特許庁

Here, a thickness in an area corresponding to the internal electrode 4 of the first ceramic layer 3 is thicker than a thickness in an area corresponding to the internal electrode 4 of the second ceramic layer 6.例文帳に追加

ここで、第１のセラミック層３の内部電極４に対応する領域での厚みは、第２のセラミック層６の内部電極４に対応する領域での厚みよりも厚くなるようにする。 - 特許庁

A lower electrode 18a, a piezoelectric layer 20 and an upper electrode 18b are formed on the dielectric layer 14a as a vibration means in a thickness longitudinal oscillation or thickness shear oscillation n-order mode.例文帳に追加

誘電体層１４ａの上には、厚み縦振動または厚みすべり振動ｎ次モードの振動手段として、下部電極１８ａ、圧電体層２０および上部電極１８ｂが形成される。 - 特許庁

It is preferable that the thickness of the conductive portions 7 are smaller than the width of the electrodes and the layer thickness of an insulating layer part between the conductive part 7 is larger than the gap between the electrodes.例文帳に追加

前記導電部分７の厚さが前記電極の幅よりも小さく、導電部分７間の絶縁層部分の層厚が前記電極間の間隙よりも大きくすることが望ましい。 - 特許庁

Thereby, the toner is efficiently loosened and favorably circulated by increase of the flowability, and stay of the toner in the vicinity of the toner layer thickness regulating member 23a of the toner layer thickness regulating member 23 is prevented.例文帳に追加

これにより、効率的にトナーがほぐされ、流動性がアップすることでトナーがうまく循環され、トナー層厚規制部材２３の屈曲先端部２３ａ近傍でのトナー滞留を防ぐことができる。 - 特許庁

The area near the interface on the opposite side to the monomer-absorbing layer is preferable to be a region ranging from the interface on the opposite side to the monomer-absorbing layer in the thickness direction up to 50% of the overall thickness.例文帳に追加

モノマー吸収層とは反対側の界面近傍は、モノマー吸収層とは反対側の界面から厚み方向の全厚みに対して５０％以内の領域であることが好ましい。 - 特許庁

A transparent resin film 51 is formed in the sub-pixel region A1 and thereby the thickness of a liquid crystal layer in the sub-pixel region A2 is made larger than the thickness of the liquid crystal layer in the sub-pixel region A1.例文帳に追加

副画素領域Ａ１には透明樹脂膜５１が形成されており、これにより副画素領域Ａ２の液晶層の厚さが副画素領域Ａ１の厚さよりも厚くなっている。 - 特許庁

The thickness of each 11, 12... is decided so that two laminas (the outermost layer laminas 11, 11 and the inner layer laminas 12, 12) existing in the same distance from a center (a plane C) are mutually made to the same thickness.例文帳に追加

中心（面Ｃ）から同じ距離にある二つのラミナ（最外層ラミナ１１、１１、内層ラミナ１２、１２）同士が互いに同じ厚さとなるように各ラミナ１１、１２…の厚さが決められている。 - 特許庁

Then, a scattering developer sealing member 7 by which the space between the developing roll 3 and the layer thickness regulation member 6 is sealed is stuck on a non-contact surface side of the layer thickness regulation member 6 with the developer on the developing roll 3.例文帳に追加

そして、層厚規制部材６の現像ローラ３上の現像剤との非接触面側に、現像ローラ３と層厚規制部材６との間をシールする飛散現像剤シール部材７を貼設している。 - 特許庁

The thickness of the damage layer 16 is adjusted with an irradiation time of the CF_4 gas plasma to adjust the substantial thickness of the i-AlGaN layer 12, thereby adjusting the threshold voltage.例文帳に追加

ＣＦ_4 ガスプラズマの照射時間によってダメージ層１６の厚さを調整することで、実質的なｉ−ＡｌＧａＮ層１２の厚さを調整することができ、これにより閾値電圧を調整することができる。 - 特許庁

Further, if the result of the detection of the film thickness is different from the preset film thickness of the thin developer layer (hereafter described as the set film thickness value), the detected value is corrected by a means for correcting the detected value of the liquid concentration.例文帳に追加

更に、膜厚の検出結果が、予め設定している現像剤薄層の膜厚（以下、膜厚設定値という）と異なる場合、液濃度検出値補正手段によって検出値を補正する。 - 特許庁

Or a sheet-shaped magnetic substance 5-40 μm in thickness is used for the sheet- shaped magnetic substance, where a coil pattern 6 is made, and the thickness dc of the coil layer 4 is made 7-60% of the overall thickness D.例文帳に追加

または、コイルパターン６が形成されたシート状磁性体に、厚みが５〜４０μｍのシート状磁性体を使用し、コイル層４の厚みｄｃを全体の厚みＤの７〜６０％にする。 - 特許庁

The coefficient of thermal expansion and the thickness of the heat sink are same as those of the wiring circuit unit, whereby constitutions in the thickness direction become symmetry with respect to the central axis of thickness of the insulating layer, thereby suppressing the warpage.例文帳に追加

放熱板と配線回路部の熱膨張係数及び厚さが同一であるので、絶縁層の厚さの中心軸に対して厚さ方向の構成が対称となり、反りが抑制される。 - 特許庁

When only charged toner is held on the developing roller 23 to develop an electrostatic latent image on a photoreceptor by non-contact, retention of electric charges to the developing roller 23 is suppressed by making layer thickness (a) of the anodized layer 40 larger than the layer thickness b of the coating layer 41.例文帳に追加

現像ローラ２３上に帯電したトナーのみを保持させて感光体上の静電潜像を非接触で現像する場合、アルマイト層４０の層厚ａをコート層４１の層厚ｂよりも大きくしておくことにより、現像ローラ２３への電荷の滞留を抑制可能となる。 - 特許庁

Therefore, the relationship of the thickness of the buffer layer 30, the position of the bottom surface 42L of the tunnel barrier layer and the position of the top surface 60U of the TaO layer 60 formed around the magnetic tunnel junction element is previously calculated, and the film formation thickness of the buffer layer 30 is determined based on the relationship.例文帳に追加

そのために、バッファ層３０の膜厚と、トンネルバリア層下面位置４２Ｌと、磁気トンネル接合素子周辺に形成されたＴａＯ層６０の上面６０Ｕと、の関係をあらかじめ求めておき、当該関係に基づき、バッファ層３０の成膜膜厚を決定する。 - 特許庁

On at least one face of the film base material 1, a hard coat film 4 with the hard coat layer 2 is provided, and one or two or more belt-like end part hard coat layers 3 are equipped on both ends in the width direction of the hard coat layer 2, and the film thickness of the end part hard coat layer 3 is larger than the film thickness of the hard coat layer 2.例文帳に追加

フィルム基材１の少なくとも片面に、ハードコート層２を備えるハードコートフィルム４が、ハードコート層２の幅方向の両端に、１または２以上の帯状の端部ハードコート層３を備え、端部ハードコート層３の膜厚が、ハードコート層２の膜厚より大きい。 - 特許庁

The thickness between a first principal surface 3 and an outermost inner electrode layer 11A is made less than the thickness between an inner electrode layer 21 and an outermost inner electrode layer 51A, so heat of a semiconductor light emitting element LE1 is efficiently conducted to the outermost inner electrode layer 11A.例文帳に追加

第一主面３と最外内部電極層１１Ａとの間の厚みが、内部電極層２１と最外内部電極層５１Ａとの間の厚みよりも薄くされているため、半導体発光素子ＬＥ１の熱を効率よく最外内部電極層１１Ａへ伝達することができる。 - 特許庁

The metal vapor-deposited/metal plated laminated film is obtained by laminating a conductive metal layer with a thickness of 0.5 or higher-below 9 μm on a metal vapor-deposited layer by an electroplating method and providing an insulating layer with a thickness of below 20 μm on the conductive metal layer.例文帳に追加

金属蒸着層上に電気めっき法で０．５μｍ以上９μｍ未満の厚さの導電性金属層を積層し、その導電性金属層上に２０μｍ未満の厚みの絶縁層を設けた金属蒸着／金属メッキ積層フィルムにより達成できる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method including a polishing process of polishing a stepped layer to be polished and a semiconductor wafer polishing device, which are capable of polishing a layer to be polished so as to make it more uniform in thickness without increasing the off-line thickness measurements of the polishing layer in frequency even if the layer to be polished is varied in quality.例文帳に追加

段差を含む被研磨層を研磨する研磨工程を含む半導体装置の製造方法と半導体ウエハの研磨装置において、被研磨膜に膜質のばらつきがあっても、オフラインによる膜厚測定を増やすことなく、より均一な厚さの研磨を行なう。 - 特許庁

When the semiconductor device 10 is turned off, the width of the layer thickness direction of a depletion region formed on the semiconductor intermediate layer 27 of the termination region 14 and the reserve layer 39 is larger than the width in a layer thickness direction of the depletion region formed in the cell region 12.例文帳に追加

半導体装置１０がオフしたときに、終端領域１４の半導体中間層２７とリサーフ層３９に形成される空乏化領域の層厚方向の幅が、セル領域１２に形成される空乏化領域の層厚方向の幅よりも大きいことを特徴としている。 - 特許庁

The layer 17 is a laminate containing a carbon fiber-reinforced resin layer having a thickness of at least one layer oriented in a longitudinal direction of the blade of at least 70% or more of its volume is 16 mm, and the glass fiber-reinforced resin layer having a thickness of 0.2 to 1.5 mm.例文帳に追加

上記複合層１７は、その体積の少なくとも７０％以上が、ブレードの長手方向に配向された１層の厚みが１〜６ｍｍである炭素繊維強化樹脂層と、ガラス繊維強化樹脂層の厚みが０．２〜１．５ｍｍのものとの積層体である。 - 特許庁

A buffer layer 12 composed of silicon dioxide (SiO_2) of a thickness 400 nm, an adhesion layer 13 composed of titanium (Ti), an energy absorption layer 14 composed of molybdenum (Mo) of a thickness 200 nm, and a catalyst layer 15 composed of iron (Fe) are successively formed on the substrate 11 composed of silicon.例文帳に追加

シリコンよりなる基板１１に、厚み４００ｎｍの二酸化シリコン（ＳｉＯ_2 ）よりなるバッファ層１２、チタン（Ｔｉ）よりなる密着層１３、厚み２００ｎｍのモリブデン（Ｍｏ）よりなるエネルギー吸収層１４および鉄（Ｆｅ）よりなる触媒層１５を順に形成する。 - 特許庁

The photoelectric conversion element includes an inorganic glass film having a thickness of 10-70 μm, a transparent conductive layer, a semiconductor layer carrying sensitized dye, an electrolyte layer, a conductive layer, and an inorganic glass film having a thickness of 10-70 μm in this order between a pair of facing flexible films.例文帳に追加

対向する１対の可撓性を有するフィルムの間に、膜厚１０〜７０μｍの無機ガラスフィルム、透明導電層、増感色素を担持した半導体層、電解質層、導電層及び膜厚１０〜７０μｍの無機ガラスフィルムがこの順に設置されてなることを特徴とする光電変換素子。 - 特許庁