「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(47ページ目) - Weblio英語例文検索

The compound semiconductor device is provided with: a p-type GaN layer 2; an n-type GaN layer 3 formed on the p-type GaN layer 2 and depleted; and an undoped GaN layer 4 with thickness of ≥30 μm formed on the n-type GaN layer 3.例文帳に追加

ｐ型ＧａＮ層２と、ｐ型ＧａＮ層２上に形成され、空乏化されたｎ型ＧａＮ層３と、ｎ型ＧａＮ層３上に形成された厚さが３０μｍ以上のアンドープのＧａＮ層４と、が設けられている。 - 特許庁

A CrMo based alloy base layer 4 having 80-300 Å thickness and <140 Ågrain size, an intermediate layer 5, a CoCrPtB based magnetic layer 6, a protective layer 7 and a lubrication layer 8 are successively layered thereon.例文帳に追加

そして、その上に、厚さが８０〜３００Åでかつ結晶粒サイズが１４０Å未満であるＣｒＭｏ系合金下地層４、中間層５、ＣｏＣｒＰｔＢ系磁性層６、保護層７、潤滑層８を、順次積層させる。 - 特許庁

The semiconductor laser element 100 is constituted by successively laminating an n-buffer layer 2, n-clad layer 3, active layer 4, p-clad layer 5, and p-contact layer 6 on one surface of an n-GaN substrate 1 having a thickness of 120-200 μm.例文帳に追加

半導体レーザ素子１００は、厚さ１２０〜２００μｍのｎ−ＧａＮ基板１の一方の面上に、ｎ−バッファ層２、ｎ−クラッド層３、活性層４、ｐ−クラッド層５およびｐ−コンタクト層６が順に積層されてなる。 - 特許庁

The releasing sheet comprises a ultra high molecular weight polyethylene layer and a silicone rubber layer, wherein the ultra high molecular weight polyethylene layer and the silicone rubber layer are integrated with each other, and the thickness of the ultra high molecular weight polyethylene layer is at least 30 μm.例文帳に追加

超高分子量ポリエチレン層とシリコーンゴム層とを含み、超高分子量ポリエチレン層とシリコーンゴム層とが互いに一体化されており、超高分子量ポリエチレン層の厚さが３０μｍ以上である圧着離型シートとする。 - 特許庁

The light-emitting element 100 is constituted of the light-emitting layer 24 composed of a compound semiconductor, and the current diffusing layer 91 composed of a compound semiconductor layer 24 having a thickness larger than that of the light-emitting layer 24 and laminated upon the light-emitting layer 24.例文帳に追加

発光素子１００は、化合物半導体からなる発光層部２４と、該発光層部２４よりも厚膜の化合物半導体層２４からなる、発光層部２４に積層された電流拡散層９１とを有する。 - 特許庁

In the perpendicular magnetic recording medium constructed by successively laminating an intermediate layer and a perpendicularly magnetized layer on the soft magnetic base layer, the film thickness of the intermediate layer is set to be thicker than that of the perpendicularly magnetized layer.例文帳に追加

軟磁性下地層の上に中間層及び垂直磁化層が順次積層された構造の垂直磁気記録媒体において、中間層の膜厚は、垂直磁化層の膜厚以上に設定されているように構成する。 - 特許庁

The recording/reproducing device is provided with the storage medium 7 having a second heatsink layer 62 formed of an Al film having a thickness of 50 μm, a backing layer 63, a heat barrier layer 64, a first heatsink layer 65, a magnetic recording layer 66 and a protection film 67 on a glass substrate 61.例文帳に追加

ガラス基板６１上に、厚さ５０μｍのＡｌ膜からなる第２のヒートシンク層６２、裏打ち層６３、熱障壁層６４、第１のヒートシンク層６５、磁気記録層６６、保護膜６７を備えた記録媒体７を備える。 - 特許庁

The multilayer ceramic capacitor includes: an effective layer formed by alternately laminating inner electrodes and dielectric layers; and a protection layer formed by stacking dielectric layers on upper and lower surfaces of the effective layer, wherein the thickness of the protection layer is 10.0 to 30.0 times the sum of an average thickness of the inner electrodes and an average thickness of the dielectric layers within the effective layer.例文帳に追加

本発明による積層セラミックキャパシタは、内部電極及び誘電体層が交互に積層されて形成された有効層と、上記有効層の上面及び下面に誘電体層が積層されて形成された保護層とを含み、上記保護層の厚さは上記有効層内の内部電極の平均厚さと誘電体層の平均厚さの和の１０．０から３０．０倍である。 - 特許庁

This substrate used for the adhesive tape having an adhesive layer on the substrate is provided by laminating an adhesive-applied layer, a thermoplastic elastomer layer and a resin layer in this order, wherein, the thermoplastic elastomer layer consists of a resin layer containing ≥70 mass % hydrogenated styrene-butadiene copolymer and the thickness of the layer is ≥30 % based on the thickness of the substrate.例文帳に追加

基材上に粘着剤層を有してなる粘着テープに使用される基材であって、粘着剤被塗布層と、熱可塑性エラストマー層と、樹脂層とがこの順に積層され、前記熱可塑性エラストマー層が、水素添加したスチレン−ブタジエン共重合体を７０質量％以上含む樹脂組成物からなり、層厚が基材肉厚に対して３０％以上である粘着テープ用基材。 - 特許庁

In the transparent gas-barrier film roll having an inorganic oxide layer and a heat-sealable resin layer, in the positional relationship among the oxide layer, the base film of the oxide layer, and the resin layer, the resin layer is arranged at least on the side of the base film, and the maximum film thickness of the oxide layer is 1.5 times or below as large as the minimum film thickness.例文帳に追加

無機酸化物層とヒートシール性樹脂層を有する透明ガスバリアフィルムロールにおいて、無機酸化物層、該無機酸化物層のベースフィルム及びヒートシール性樹脂層の３者の位置関係において、ヒートシール性樹脂層がすくなくとも、ベースフィルム側にあり、かつ、該無機酸化物層の膜厚の最大値が最小値の１．５倍以下であることを特徴とするガスバリアフィルムロール。 - 特許庁

The packaging material comprises a polyolefin outermost layer, for example, polyethylene 1, a printing layer 2, a base material 5 and a polyolefin innermost layer, for example, polyethylene 8, wherein a metal deposited polyester film layer 3 having a thickness of 3 to 10 μm is laminated as an intermediate layer of the packaging material via an adhesive resin layer 4 having a thickness of 4 to 8 μm.例文帳に追加

包装材料が、ポリオレフィン最外層、例えばポリエチレン１、印刷層２、基材５及びポリオレフィン最内層、例えばポリエチレン８を含む包装材料であって、該包装材料の中間層として、厚さ３〜１０μmの金属蒸着ポリエステルフィルム層３が、厚さ４〜８μmの接着性樹脂層４を介して、積層されている。 - 特許庁

To provide a compound thin film magnetic head equipped with an MR head element of CPP structure which can adjust parasitic capacitance without changing thickness of insulation layers between a substrate and a lower shield layer and between an upper shield layer and a lower magnetic pole layer, thickness, shape and area of a lower shield layer, an upper shield layer and a lower magnetic pole layer.例文帳に追加

基板と下部シールド層との間及び上部シールド層と下部磁極層との間の絶縁層の層厚、下部シールド層、上部シールド層及び下部磁極層の層厚、形状及び面積を変更することなく、寄生キャパシタンスの調整可能な、ＣＰＰ構造のＭＲヘッド素子を備えた複合型薄膜磁気ヘッドを提供する。 - 特許庁

In the laminated piezoelectric element in which the piezoelectric substrate layer 1 containing a Pb constituent and a conductive layer 2 containing a Pd constituent are alternately laminated each, the thickness of the reaction layer R of Pb and Pd on the interface between the piezoelectric substrate layer 1 and the conductive layer 2 should be 3% or smaller of the maximum thickness of the piezoelectric substrate layer 1.例文帳に追加

それぞれ、Ｐｂ成分を含む圧電体層１と、Ｐｄ成分を含む導体層２とを交互に積層してなる積層型圧電素子において、前記圧電体層１と前記導体層２との界面における前記ＰｂおよびＰｄとの反応層Ｒの厚みが、前記圧電体層１の最大厚みの３％以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The wiring substrate is manufactured by a method, wherein an insulating resin layer for covering the uppermost layer wiring layer 4, comprising a wiring having the thickness of a part larger than the other part, is formed, and a part of this insulating resin layer is removed, until the upper part of a part 6 whose thickness is large in the uppermost layer wiring layer is removed, until the same becomes exposed.例文帳に追加

一部の厚みが他の部分より大きい配線を含む最上層配線層４を覆う絶縁樹脂層を形成し、そしてこの絶縁樹脂層の一部を、最上層配線増の厚みの大きい部分６の上部を露出するまで除去してパッドを形成することを特徴とする方法により、配線基板を製造する。 - 特許庁

First and second buffer layers 4 and 8 each having a thickness of 50-100 nm are inserted into an interface between an intermediate transparent electrode layer 6 and a first photoelectric conversion layer (silicon layer) 3 and into an interface between a back transparent electrode layer 10 and a second photoelectric conversion layer (silicon layer) 7, respectively.例文帳に追加

中間透明電極層６と第１光電変換層（シリコン層）３との界面に及び裏面透明電極層１０と第２光電変換層（シリコン層）７との界面に、夫々、厚さ５０〜１００ｎｍの第１及び第２バッファ層４，８を挿入する。 - 特許庁

A surface plated layer made of an Ni layer, a Cu-Sn alloy layer and an Sn layer is formed in that order on the surface of a parent material made of Cu or a Cu alloy, with the Cu-Sn alloy layer made of a η layer (Cu_6Sn_5) of a thickness of 0.5 to 100 μm.例文帳に追加

Ｃｕ又はＣｕ合金からなる母材表面に、Ｎｉ層、Ｃｕ−Ｓｎ合金層及びＳｎ層からなる表面めっき層がこの順に形成され、前記Ｃｕ−Ｓｎ合金層はη層（Ｃｕ_６Ｓｎ_５）からなり、その厚さが０．５〜１００μｍである。 - 特許庁

In this case, a tread rubber layer 9 disposed outward in the tire radius direction of the belt layer 7 is composed of a reinforcing rubber layer 10 disposed in the outside of the belt layer 7 and having a thickness of 0.2 to 1.0 mm, and a tread rubber layer 11 disposed outward in the tire radius direction of the reinforcing rubber layer 10.例文帳に追加

ベルト層７のタイヤ半径方向外側に配されるトレッドゴム９は、該ベルト層７の外側に配されかつ厚さが０．２〜１．０mmである補強ゴム層１０と、この補強ゴム層１０のタイヤ半径方向外側に配されるトレッドゴム層１１とからなる。 - 特許庁

Moreover, the undercoat layer is a galvanizing layer formed by using a chloride bath among acid baths; the galvanizing layer formed on the undercoat layer by using an alkaline bath is a galvanizing layer using a zincate bath; and the thickness of the undercoat layer is ≤5 μm.例文帳に追加

また、この下地メッキ層は、酸性浴のなかの塩化浴により形成した亜鉛メッキ層とし、この下地メッキ層の上に形成するアルカリ浴による亜鉛メッキ層は、ジンケート浴による亜鉛メッキ層とし、下地メッキ層の膜厚は５μｍ以下とした鋳物部材である。 - 特許庁

An outer wall 10 of the fuel tank 1 comprises a skin layer 11, an outer body layer 12, an outer adhesive layer 13, a barrier layer 14, an inner adhesive layer 15 and an inner body layer 16 in this order from the outer side, and the entire wall thickness is 3-8 mm.例文帳に追加

燃料タンク１の外壁１０は、外側から順に、表皮層１１、外部本体層１２、外部接着剤層１４、バリヤ層１４、内部接着剤層１５及び内部本体層１６から形成され、全体の肉厚が３ｍｍ〜８ｍｍである。 - 特許庁

In the base layer 3, a p^+ layer 12, whose p-type impurity concentration is higher than an average value of the p-type impurity concentration of the base layer 3 and is smaller in thickness than the base layer is formed adjacent to the boundary between the base layer 3 and p-type polysilicon layer 8.例文帳に追加

ベース層３において、ベース層３とｐ型ポリシリコン層８との界面近傍には、ｐ型不純物濃度がベース層３のｐ型不純物濃度の平均値より高く、厚さがベース層の厚さに比して極めて薄いｐ^+層１２が形成されている。 - 特許庁

In the perpendicular magnetic recording medium 1 composed by successively laminating a hard magnetic pinning layer 4, a soft magnetic layer 5 and a perpendicular recording layer 6 on a non-magnetic substrate 2, an Ru layer 3 with the thickness of 1∼10 nm is inserted between the hard magnetic pinning layer 4 and the soft magnetic layer 5.例文帳に追加

非磁性基板２上に硬磁性ピンニング層４と、軟磁性層５と、垂直記録層６と、を順次積層してなる垂直磁気記録媒体１において、硬磁性ピンニング層４と軟磁性層５との間に厚さ１〜１０ｎｍのＲｕ層３を挿入した。 - 特許庁

The degree of progression of the polishing treatment is controlled by the stopper layer 32 and therefore at the point of the time the polishing is applied up to the stopper layer 32, the polishing hardly progress beyond that point and the thickness T of the main magnetic pole layer is regulated based on the thickness of the precursor magnetic pole layer at the point of the time the polishing is applied up to the stopper layer 32.例文帳に追加

ストッパ層３２により研磨処理の進行度が制御されるため、研磨加工がストッパ層３２に到達した時点でそれ以上進行しにくくなり、その研磨加工がストッパ層３２に到達した時点の前駆磁極層の厚さに基づいて主磁極層１１の厚さＴが規定される。 - 特許庁

The light absorption layer of the photodiode comprises a first semiconductor light absorption layer where a layer thickness WD is depleted, and a p-type neutral second semiconductor light absorption layer having a layer thickness of WA.例文帳に追加

フォトダイオードの光吸収層を、層厚Ｗ_Ｄの空乏化した第１の半導体光吸収層と、層厚Ｗ_Ａのｐ型中性の第２の半導体光吸収層とで構成し、Ｗ_ＡとＷ_Ｄの比率を、光吸収層内での全体のキャリア走行時間τ_ｔｏｔが最小となるように設定した。 - 特許庁

The color filter having an overcoat layer between a transparent electrode layer and a color pixel layer is characterized in that a product of a tensile stress and thickness of the transparent electrode layer within the color filter plane is larger than a product of a tensile stress and thickness of the overcoat layer.例文帳に追加

透明電極層とカラー画素層との間にオーバーコート層が設けられたカラーフィルタにおいて、前記カラーフィルタ面内における前記透明電極層の引張り応力と厚みの積が前記オーバーコート層の引張り応力と厚みの積より大きいことを特徴とするカラーフィルタ、及びそのカラーフィルタを具備する液晶表示装置。 - 特許庁

To prevent thickness accuracy and thickness uniformity of a liquid crystal layer from being degraded caused by infiltration of a gap material in a sealing material into a cholesteric liquid crystal layer side or a hologram layer side when two substrates with the cholesteric liquid crystal layer or the hologram layer disposed on each are stuck with each other via the sealing material in a liquid crystal display device.例文帳に追加

基板上にコレステリック液晶層またはホログラム層を設けた液晶表示装置において、２枚の基板をシール材を介して貼り合わせる際に、シール材中のギャップ材がコレステリック液晶層側またはホログラム層側にめり込むことに起因する液晶層の厚さ精度および厚さ均一性の低下を防止する。 - 特許庁

The thickness of a semiconductor layer which constitutes a spacer layer of the CPP-GMR element is set within such a range of thickness that a first non-magnetic metal layer/semiconductor layer/second non-magnetic metal layer-junction may shows a conduction characteristic between an ohmic conduction characteristic and a semiconductor conduction characteristic.例文帳に追加

ＣＰＰ−ＧＭＲ素子におけるスペーサー層を構成する半導体層の厚さは、当該半導体層と前記第１の非磁性金属層および第２の非磁性金属層との接合関係において、オーミック伝導特性と半導体伝導特性との間の伝導特性を示す遷移領域の膜厚範囲に設定される。 - 特許庁

The radiowave absorber is constituted by laminating at least one resistance film layer 2, a spacer layer 3, a layer 4 containing an electric loss material, and a reflecting layer 5, the thickness of the layer containing the electric loss material being equal to or larger than d/8 to the overall thickness (d) of the radiowave absorber.例文帳に追加

少なくとも１層の抵抗膜層２、スペーサー層３、電気的損失材料を含有する層４及び反射層５を積層してなる電波吸収体であって、該電気的損失材料を含有する層の厚さが、電波吸収体の全体の厚さｄに対し、ｄ／８以上の電波吸収体である。 - 特許庁

It can be seen that the film thickness of the offset spacer layer 4 has a correlation with the leak current level, and the film thickness of the offset spacer layer 4 is equal to the length from a part of the semiconductor layer 1 touching the outer end of the offset spacer layer 4 to the forward end of an impurity diffusion layer when the leak current level is 0.例文帳に追加

これにより、オフセットスペーサ層４の膜厚値とリーク電流値には相関関係があり、また、リーク電流値が０になるときのオフセットスペーサ層４の膜厚値は、半導体層１のうちオフセットスペーサ層４の外端と接する部分から不純物拡散層の先端までの長さであることがわかる。 - 特許庁

A steel base material is provided with a surface treatment layer comprising a layer mainly consisting of iron boride of 20-50 μm thickness on the base material side and a layer mainly consisting of nickel boride of 10-30 μm thickness thereupon, by means of forming a nickel plated layer on a surface with nickel electroplating and then boronizing the layer in a molten salt bath.例文帳に追加

鋼製基材に電解ニッケルめっき処理を施し、表面にニッケルめっき被膜を形成し、ついで溶融塩浴中で硼化処理を施し、基材側に厚さ20〜50μmの鉄硼化物を主とする層を、その上層として厚さ10〜30μm のニッケル硼化物を主とする層からなる表面処理層を形成する。 - 特許庁

Furthermore, since a screen plate where an adhesive layer 57 is made is used for the spacer adhesive layer 58 and besides it is made by the same squeeze sliding operation as that of an object where an adhesive layer 57 is made, the thickness dimension of the spacer adhesive layer 58 can be easily made roughly the same as the thickness dimension of the adhesive layer 57.例文帳に追加

さらに、スペーサ接着剤層５８は接着剤層５７を形成したスクリーン版を用い、且つ、接着剤層５７を形成したのと同一のスキージ摺動操作により形成されるから、スペーサ接着剤層５８の厚さ寸法を、容易に接着剤層５７の厚さ寸法と略同じにすることができる。 - 特許庁

The soft magnetic member 1 comprises a resin film 2, an underlying metal layer 3 formed on the resin film 2, and a soft magnetic metal layer 4 formed on the underlying metal layer 3 wherein the thickness s of the underlying metal layer 3 and the thickness p of the soft magnetic metal layer 4 satisfy following relations: 5≤p/s<10 and 0<s<100 nm.例文帳に追加

樹脂フィルム２と、樹脂フィルム２上に形成された下地金属層３と、下地金属層３上に配設された軟磁性金属層４と、を備えた軟磁性部材１であって、下地金属層３の厚さをｓ、軟磁性金属層４の厚さをｐとすると、５≦ｐ／ｓ＜１０かつ０＜ｓ＜１００ｎｍとする。 - 特許庁

A metallic mask 48 is provided by growing an Ni-electroformed part of a thickness of 5-10 μm on the surface of a nozzle plate 21 via a seed layer 44 of a thickness of 0.1 μm.例文帳に追加

ノズルプレート２１の表面に、肉厚０．１μｍのシード層４４を介して、肉厚５〜１０μｍのＮｉ電鋳を成長させ、金属マスク４８を設ける。 - 特許庁

The at least one high refractive index layer 18 has the thickness of less than 40 nm, and the coating 14 has the thickness substantially exceeding 380 nm as a whole.例文帳に追加

少なくとも１つの高屈折率層１８は４０ｎｍ未満の厚さをもっており、コーティング１４は全体で約３８０ｎｍを超える厚さをもつ。 - 特許庁

Resistance of charge transfer is reduced on the shaft center 10 side having a small thickness of the mix layer, and the quantity of an active material is increased on the peripheral side having a large thickness.例文帳に追加

合剤層の厚みの小さな軸芯１０側で電荷移動の抵抗が小さくなり、厚みの大きな外周側で活物質量が大きくなる。 - 特許庁

The molten resin layer 57 is thinner than the thickness of the electrode laminate 11, and has a multi-level structure that the thickness varies with the distance from the periphery.例文帳に追加

溶融樹脂層５７は、電極積層体１１の厚さよりも薄く、かつ、外周縁からの距離により厚さが異なる多段構造を有している。 - 特許庁

Moreover, the thickness of the interface layer 15 is preferably 10 nm to 1.5 μm, and if the thickness is within this range, the internal resistance of the battery can be reduced effectively.例文帳に追加

また、界面層１５の厚さは、１０ｎｍ〜１．５μｍが好ましく、この範囲の厚さであれば、電池の内部抵抗を効果的に低減することができる。 - 特許庁

An MQW (Multiple Quantum Well) absorption layer 5 is constructed with eight layers of well layers 5A respectively with 10 nm thickness and barrier layers 5B respectively with 5 nm thickness.例文帳に追加

ＭＱＷ吸収層５は、各々の厚さが１０ｎｍである８層の井戸層５Ａと各々の厚さが５ｎｍである障壁層５Ｂで構成される。 - 特許庁

Sn plating layer 2 of thickness 0.05 μm or more is provided on whole surface of conductor 1 having U-shaped section of thickness 0.1 mm or less and width 1.5 mm or less.例文帳に追加

厚さ０．１mm以下、幅１．５mm以下の矩形状断面を有する導体１の表面全体に厚さ０．０５μｍ以上のＳｎ系めっき層２を設ける。 - 特許庁

Each of the base (34) and the sidewall (36) is formed so as to have a thickness that is equal to or greater than a thickness of the adhesive layer (23).例文帳に追加

底面（３４）及び側壁（３６）の各々が、接着剤層（２３）の厚みに等しい又はこれよりも大きい厚みを有するように形成されている。 - 特許庁

It is preferable that the thickness of the transmission screen 1 is from 50 to 500 μm, and preferably, the thickness of the masking layer 2 is from 1 to 250 μm.例文帳に追加

透過型スクリーン１の厚みは５０μｍ〜５００μｍであることが好ましく、隠蔽層２の厚みは１μｍ〜２５０μｍであることが好ましい。 - 特許庁

This multi-layered wiring board has its 2nd conductor layer formed by printing the conductive material and the film thickness of a pattern part is 40 to 90% of the film thickness of a line part.例文帳に追加

第２導体層が導電材を印刷した配線板であり、パターン部の膜厚が、ライン部の膜厚の４０〜９０％としてなる多層配線板。 - 特許庁

A DVD is formed by laminating together a protective substrate 2 of a thickness 0.6 mm onto a recording substrate 1 of a thickness 0.6 mm having an information recording layer.例文帳に追加

情報記録層を有する厚さ０．６ｍｍの記録基板１上に、厚さ０．６ｍｍの保護基板２が貼り合わされてなるＤＶＤである。 - 特許庁

The joint portions with reduced thickness occurred in the joints 14 of the block lining 12 are cleaned, and a joint material 16a of a first layer is filled in the cleaned joint portions with reduced thickness.例文帳に追加

ブロック覆工１２の目地１４に生じた目地やせ部分を掃除し、掃除した目地やせ部分に一層目の目地材１６ａを詰め込む。 - 特許庁

To enable film thickness control for providing a desired thickness for a lower electrode while flattening a surface of the lower electrode used as a base of an organic layer.例文帳に追加

有機層の下地となる下部電極表面の平坦化を図りながら、下部電極に対して所望の厚さを得る膜厚制御を可能にする。 - 特許庁

The phosphor-containing resin layer 7 preferably has the largest thickness in an optical axis 11 of the LED package 3 and decreases in thickness near the end parts.例文帳に追加

蛍光体含有樹脂層7の厚みは、LEDパッケージ3の光軸11方向においてもっとも厚く、端部に近づくにつれ薄くなっていることが望ましい。 - 特許庁