「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

To easily measure the film thickness of a translucent reflection layer by a transmission method, in an optical recording medium wherein an another layer such as a recording layer is provided between a substrate and the translucent reflection layer.例文帳に追加

基板と半透明反射層との間に記録層等の他の層が設けられた光記録媒体において、透過法により前記半透明反射層の膜厚を容易に測定できるようにする。 - 特許庁

Since a lower core layer (shielding layer) 8 is formed gradually thinly toward both end parts, the film thickness of the gap layer 9 formed on the lower core layer 8 can be uniformly formed.例文帳に追加

下部コア層（シールド層）８は側端部に向かうにしたがって徐々に薄くなるように形成されているため、下部コア層８上に形成されるギャップ層９の膜厚を均一に形成することができる。 - 特許庁

The fluid analysis means executes fluid analysis in a mold in injection molding by using respective shell meshes of the base layer and the surface layer to calculate plate thickness distribution of the base layer and the surface layer.例文帳に追加

流動解析手段は、基材層と表皮層のそれぞれのシェルメッシュを用い、射出成形時における成形型内の流動解析を実行して、基材層と表皮層の板厚分布を算出する。 - 特許庁

The lower layer of the fuse element, the lower layer of the capacitance element, the intermediate layer and the first upper electrode, and upper layer and the second upper electrode, are formed respectively with the same material in the same thickness.例文帳に追加

ヒューズ素子の下層と容量素子の下部電極、中層と第１の上部電極、上層と第２の上部電極が、それぞれ同一の材料で形成され、かつ同一の厚さを有する。 - 特許庁

In a single layer disk and a multilayer disk, the first layer which is the recording layer L0 has the same distance from the cover layer surface CVLs to be irradiated with the laser beam in the thickness direction.例文帳に追加

１層ディスクと複数層ディスクとしての種別において、第１層となる記録層Ｌ０はディスク厚み方向において、レーザ光が入射されるカバー層表面ＣＶＬｓからの距離を同一とする。 - 特許庁

The photosensitive transfer material has at least an alkali-soluble thermoplastic resin layer, an intermediate layer and a photosensitive resin layer in sequence from a temporary support side, wherein a thickness of the thermoplastic resin layer is 0.1-8.0 μm.例文帳に追加

仮支持体側から順に少なくともアルカリ可溶な熱可塑性樹脂層と中間層と感光性樹脂層とを有すると共に、前記熱可塑性樹脂層の層厚を０．１〜８．０μｍとする。 - 特許庁

To provide a polishing apparatus of a substrate, along with a polishing method thereof, which provides a flat surface of a plating layer by chemical polishing, with constant thickness of the plating layer, and with no residual plating layer on an insulating layer.例文帳に追加

化学的研磨を行うが、メッキ層の表面が平坦であり、メッキ層の厚さが一定であるうえ、絶縁層に残余メッキ層が残らない基板の研磨装置および研磨方法を提供する。 - 特許庁

After forming a magnetized fixing layer or a magnetized free layer, an oxidized layer is formed by effecting the oxidization of a surface and, thereafter, the thickness of the oxidized layer is thinned by applying ion beam irradiation or plasma irradiation.例文帳に追加

磁化固着層あるいは磁化自由層作成後、表面の酸化を行うことで酸化層を形成した後、イオンビーム照射、あるいはプラズマ照射を施すことで酸化層を薄膜化する。 - 特許庁

Furthermore, reduction in the capacity of the pin diode 1 is realized by decreasing the product of the width D of the p+ type diffusion layer 5 and the n+ type diffusion layer 6 and the thickness t of an epitaxial layer (i layer) 4.例文帳に追加

さらに、ｐ^+型拡散層５およびｎ^+型拡散層６の幅Ｄとエピタキシャル層（ｉ層）４の厚さｔとの積とを小さくすることによりｐｉｎダイオード１の低容量化を実現する。 - 特許庁

A thickness ratio of the layer (I) to the layer (II) is preferably (50/50) to (95/5) and the freshness keeping film is preferably produced by stretching at a stretch ratio of 3-10 times after stacking the layer (I) and the layer (II).例文帳に追加

この鮮度保持フィルムは層（Ｉ）と層（II）の厚み比が５０／５０〜９５／５であることが好ましく、層（Ｉ）と層（II）を積層後に延伸倍率３〜１０倍に延伸して得られることが好ましい。 - 特許庁

A normal conducting layer works as if an insulator is disposed by optimizing the thickness of a superconducting layer and a normal conducting layer so as to maximize a spin exchange correlation action for each superconducting layer.例文帳に追加

超伝導層ごとのスピン交換相関作用が最大となるように、超伝導層と常伝導層の厚みを最適化することによって、常伝導層が、あたかも、絶縁体を配置したように働く。 - 特許庁

To improve the insulation performance between extraction an electrode layer and a shielding layer connected to a magneto-resistive element without increasing the thickness of the insulating layer between the magneto-resistive element and the shielding layer.例文帳に追加

磁気抵抗効果素子とシールド層との間の絶縁層を厚くすることなく、磁気抵抗効果素子に接続される引き出し電極層とシールド層との間の絶縁性能を向上させる。 - 特許庁

A first insulation layer 28 is formed, a resist layer 32 is formed, the insulation layer 28 is etched through an opening 36, the first thickness 42 of the insulation layer is removed, and an S/D opening 40 is formed.例文帳に追加

第一絶縁層２８を形成し、レジスト層３２を形成し、開口部３６を通じて絶縁層２８をエッチングし、絶縁層の第一厚さ４２を除去し、Ｓ／Ｄ開口部４０を形成する。 - 特許庁

In the expressions, Eb represents 100% modulus of the belt edge rubber layer, Ec does 100% modulus of the belt cushion rubber layer, Db does the belt end carcass side width of the belt edge rubber layer, and Dc does the belt end thickness of the belt cushion rubber layer.例文帳に追加

ただし、Ｅｂはベルトエッジゴム層の１００％モジュラス、Ｅｃはベルトクッションゴム層の１００％モジュラス、Ｄｂはベルトエッジゴム層のベルト端カーカス側厚さ、Ｄｃはベルトクッションゴム層のベルト端厚さ。 - 特許庁

The thickness of the protective layer 42 on at least part of the region without the isolation layer 44 is 0 or smaller than that of the protective layer 42 in the region with the isolation layer 44.例文帳に追加

絶縁層４４が存在していない領域の少なくとも一部における保護層４２の厚みは、０であるか、絶縁層４４が存在している領域における保護層４２の厚みよりも小さい。 - 特許庁

(a) The thickness ratio of the second layer to the first layer is in the range of 2 to 10:1, (b) the transmitted optical consistency of the second layer is in the range of 0.2 to 1.5, (c) the transmitted optical consistency of the first layer is in the range of 0.005 to 0.2.例文帳に追加

（ａ）第一層に対する第二層の厚さの比が２〜１０：１の範囲、（ｂ）第二層の透過光学密度が０．２〜１．５の範囲、（ｃ）第一層の透過光学密度が０．００５〜０．２の範囲。 - 特許庁

The membrane electrode assembly is formed by stacking the gas diffusion layer for an anode, a catalyst layer for the anode, an electrolyte membrane, a catalyst layer for the cathode, and a gas diffusion layer for the cathode in the thickness direction in order.例文帳に追加

膜電極接合体は、アノード用ガス拡散層とアノード用触媒層と電解質膜とカソード用触媒層とカソード用ガス拡散層とを厚み方向に順に積層して形成されている。 - 特許庁

The film-depositing method of antireflection layer is characterized in that the antireflection layer is formed on a substrate and a polytetrafluoroethylene film having a thickness of 10 nm or less is laminated on the antireflection layer as an antifouling layer according to a CVD method.例文帳に追加

基材上に反射防止層を成膜し、前記反射防止層上に、厚さ１０ｎｍ以下のポリテトラフルオロエチレン膜を防汚層としてＣＶＤ法により積層することを特徴とする。 - 特許庁

To make the thickness of the carbon layer of electrodes uniform and, when a wound electric double layer capacitor is assembled by winding the carbon layer, to make the carbon layer collectively connectable to terminal members.例文帳に追加

電極のカーボン層の厚みを均一にするとともに、巻回し組立てたときに、まとめて端子部材に接続することが可能な巻回型電気二重層キャパシタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The first layer is brought into contact with the second precursor at a second temperature different from the first temperature, by which the second layer of at least the one single- layer film thickness is chemically adsorbed on the first layer.例文帳に追加

前記第１温度とは異なる第２温度において、第１層は第２前駆体に接触され、前記第１層上に少なくとも１単層膜厚の第２層が化学吸着される。 - 特許庁

The tabular bodies 2, the layer 3 and the layer 4 are stuck fast, and the layer 3 and the layer 4 on the lower sides of the tabular bodies 2 have an overall thickness of 40 to 100 mm.例文帳に追加

板状体２と粉末ゴム含有層３と加硫ゴム層４とは密着しており、板状体２の下側の粉末ゴム含有層３及び加硫ゴム層４が４０〜１００ｍｍの総厚みを有している。 - 特許庁

The bead reinforcing rubber layer 10 comprises a reduced thickness portion 10a that extends from the bead core 5 at low height and has gradually decreasing thickness radially outwardly, and an equal thickness portion 10b that extends radially outwardly from this reduced thickness portion 10a and has a substantially constant and 1-2 mm thickness.例文帳に追加

またビード補強ゴム層１０は、ビードコア５から小高さでのびかつ半径方向外側に向けて厚さが漸減する減厚部１０ａと、この減厚部１０ａに連なって半径方向外側にのびかつ厚さを実質的に一定かつ１〜２mmとした等厚部１０ｂとを含む。 - 特許庁

The method includes measuring the thickness A of the semiconductor wafer before the epitaxial growth step, polishing the epitaxial layer formed on the surface of the semiconductor wafer after the epitaxial growth step, measuring the thickness B of the epitaxial wafer obtained after polishing, and computing the thickness of the epitaxial layer as a difference (B-A) between the thickness B and the thickness A.例文帳に追加

エピタキシャル成長工程前に半導体ウェーハの厚みＡを測定すること、エピタキシャル成長工程後に半導体ウェーハの表面に形成したエピタキシャル層を研磨すること、研磨後に得られたエピタキシャルウェーハの厚みＢを測定すること、前記厚みＢと厚みＡとの差分（Ｂ−Ａ）として、エピタキシャル層の厚みを算出することを含む。 - 特許庁

To provide a substrate with a retardation layer having no fluctuation of a slow phase axis in the layer thickness direction, and to provide a liquid crystal display device and electronic equipment.例文帳に追加

層厚方向で遅層軸がばらつくことのない位相差層付き基板、液晶表示装置、電子機器を提供すること。 - 特許庁

A thick nitrided layer is formed on the surface of the tooth area, and a thin nitrided layer is formed on a body 31 and a diaphragm 33 with extremely small sheet thickness.例文帳に追加

歯部表面では窒化層が厚くなり、板厚が非常に薄い胴部３１、ダイヤフラム３３では窒化層が薄く形成される。 - 特許庁

To provide a numerical aperture of an objective lens and a material for a transparent layer unaffected by the thickness of a transparent layer protecting a recording material.例文帳に追加

記録材料を保護する透明層の厚みの影響を受けない対物レンズの開口数および透明層の材質を提供する。 - 特許庁

The volume of the solder layer 12 increases in comparison with that of the solder ball where the external surface of the core including no recessed area is covered with the solder layer of the equal thickness.例文帳に追加

窪みのない核の外面を同じ厚さの半田層で覆ってなるものに比べ、半田層１２の体積が増加する。 - 特許庁

To provide a heater device, which is enabled to form a conductor layer surely without deteriorating a withstand voltage even if a film thickness of an intermediate layer is thick.例文帳に追加

耐電圧を低下させることなく中間層の膜厚が厚くても確実に導体層を形成できるヒータ装置を提供する。 - 特許庁

The adhesive layer 3 has an adhesively of 0.24-1.6 N/10 mm to SUS304 and a layer thickness of 6.0 μm or more.例文帳に追加

粘着層３の粘着力はＳＵＳ３０４に対して０．２４〜１．６Ｎ／１０ｍｍであり、且つ層厚は６．０μｍ以上である。 - 特許庁

A p-type cladding layer 6 with the film thickness of about 50 nm made of an Mg doped p-type Al_0.15Ga_0.85N is formed on this active layer 5.例文帳に追加

この活性層５の上には、Ｍｇドープのｐ型Ａｌ_0.15Ｇａ_0.85Ｎから成る膜厚約５０ｎｍのｐ型クラッド層６が形成されている。 - 特許庁

Keeping a substrate temperature at 1000°C, a GaN layer 4 of thickness 3 μm is grown in crystal on the AlN intermediate layer 3.例文帳に追加

基板温度を１０００℃に保ったまま、このＡｌＮ中間層３上に厚さ３μｍのＧａＮ層４を結晶成長する。 - 特許庁

To provide a resin layer forming device and method for securing a flat layer with a uniform thickness inexpensively and efficiently with no bubbles remaining.例文帳に追加

平坦で均一な層厚を、安価で効率よく確保でき、気泡の残留がない樹脂層形成装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The first mixture layer and the second mixture layer are then compressively molded in their thickness direction by a press machine 14 as shown in (d).例文帳に追加

次いで、（ｄ）に示すように、プレス機１４で第一混合体層及び前記第二混合体層の厚さ方向を圧縮成形する。 - 特許庁

The air suction/exhaust layer 42 is formed of chemical fiber having one part extending in the layer thickness direction and provides the seat cover with air permeability and flexibility.例文帳に追加

また、吸排気層４２は、その一部が層厚方向に延びた化学繊維により形成し、通気性及び柔軟性を付与する。 - 特許庁

The thickness of the magneto-optical layers and dielectric layer are selected so that magneto-optical reading of a signal received from the data layer is made optimum.例文帳に追加

光磁気層および誘電体層の厚さは、データ層から受けた信号の光磁気的読取りを最適とするように選ばれる。 - 特許庁

OPTICAL INFORMATION PROCESSING SYSTEM BY MAKING USE OF OPTICAL ABERRATION AND INFORMATION MEDIUM HAVING RECORDING LAYER WHICH IS PROTECTED BY TRANSPARENT LAYER WITH UNEVEN THICKNESS例文帳に追加

光学的収差を利用した光情報処理システムおよび厚みムラのある透明層で保護された記録層を持つ情報媒体 - 特許庁

The coat layer B12 has a thickness of 1.0-5.0 μm and a refractive index of 1.50-1.70, which is higher than that of the coat layer A11.例文帳に追加

コート層Ｂ１２は、１．０〜５．０μｍの膜厚と、１．５０〜１．７０の屈折率であって、コート層Ａ１１よりも高い屈折率を有する。 - 特許庁

The dielectric layer 18 may also be further planarized for providing a thickness of the dielectric layer 18 above the electrodes 16 as desired.例文帳に追加

誘電体層１８は、所望の金属電極１６上に誘電体層１８の厚さを提供するために、更に平坦化してよい。 - 特許庁

In addition, a bulky non-woven fabric layer 18b with the thickness in the range between 0.75 mm and 3 mm is disposed on the rear side of the surface layer 18a.例文帳に追加

また、表面層１８ａの裏面には、厚さが０．７５ｍｍ〜３ｍｍの範囲の嵩高不織布層１８ｂを備えている。 - 特許庁

An AlN buffer layer 12 is formed with the film thickness of about 20 nm at a temperature 500°C on an SiC substrate 11, the temperature is turned to 1050°C, and a GaN layer 13 is grown for about 3 μm.例文帳に追加

SiC基板11上に温度500℃でAlNバッファ層12を20nm程度の膜厚で形成し、温度を1050℃にしてGaN層13を3μm程度成長させる。 - 特許庁

The layer thickness of a winding layer 24 of a stator 22 is made uneven in the radial direction so as to correspond to the step in the radial direction of the shield member 26.例文帳に追加

また、シールド部材２６の径方向の段差に対応するように、ステータ２２の巻線層２４の層厚を径方向に不均一にした。 - 特許庁

The thickness of the magnetic layer is within a range of 30-130 nm, and the glossiness of the surface of the magnetic layer is within a range of 155-270%.例文帳に追加

磁性層の厚さは３０〜１３０ｎｍの範囲であり、かつ磁性層表面の光沢度は１５５〜２７０％の範囲である。 - 特許庁

A thickness part 214a is formed on the layer 214 corresponding to the surfaces 212a of the layer 212.例文帳に追加

着色層２１４には、上記透光層２１２の傾斜面２１２ａに対応して形成された厚肉部２１４ａが形成されている。 - 特許庁

A high hardness rubber layer 32 is buried in a cap rubber layer 28 so that one surface of a thickness direction may be located closer to a tread face 12A.例文帳に追加

高硬度ゴム層３２は、厚さ方向の一方の面が踏面１２Ａ寄りに位置するようにキャップゴム層２８に埋め込まれている。 - 特許庁

To provide a development apparatus capable of reducing wear of a surface layer of a developing roller due to a layer thickness regulating blade.例文帳に追加

層厚規制ブレードによる現像ローラ表層の摩耗を低減することができる現像装置を提供することを目的とする。 - 特許庁