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light patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7053件
ASPERITY PATTERN FORMING SHEET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, LIGHT DIFFUSION BODY, STAMPER FOR MANUFACTURING LIGHT DIFFUSION BODY, AND MANUFACTURING METHOD FOR LIGHT DIFFUSION BODY例文帳に追加
凹凸パターン形成シートおよびその製造方法、光拡散体、光拡散体製造用スタンパならびに光拡散体の製造方法 - 特許庁
The light source 40 and the light detector 50 are electrically connected with the conductive wiring pattern 62 and are fixed to the light transmission material 60.例文帳に追加
光源40と光検出器50は、導電配線パターン62に電気的に接続されて光透過材60に固定されている。 - 特許庁
An imaging part 6 is configured to receive light reflected by the test pattern image from a plurality of vertical positions and to measure the light quantity of each reflected light.例文帳に追加
撮像部6は、そのテストパターン画像の複数の上下位置からの反射光を受光し、各反射光の光量を測定する。 - 特許庁
The method includes an exposure step of irradiating the transfer object body with exposure light using a photomask, wherein the photomask 5 used in the exposure step has a first light shielding pattern 53 and a second light shielding pattern 55 different from the first light shielding pattern formed on the same transparent substrate 51.例文帳に追加
フォトマスクを用いて被転写体に露光光を照射する露光工程を有し、露光工程で用いるフォトマスク5は、同一の透明基板51上に形成された、第1遮光パターン53と、該第1遮光パターンとは異なる第2遮光パターン55とを有する。 - 特許庁
The gray tone mask has a light-shielding film pattern formed on a transparent substrate and a semi-translucent film pattern, wherein the light-shielding part is formed of at least a light-shielding film of the light-shielding film pattern, and the semi-translucent part is formed of a semi-translucent film formed in a substrate exposure part.例文帳に追加
該グレートーンマスクは、透明基板上に形成された遮光膜パターンと半透光膜パターンを有し、遮光部は少なくとも遮光膜パターンの遮光膜により形成され、半透光部は基板露出部に形成された半透光膜により形成される。 - 特許庁
The insulating resin is exposed by a divided exposure method with different masks for the non-separated pattern and for the separated pattern, and the non- separated pattern is exposed to specified quantity of light by 20 to 80% of the exposure light quantity for the separated pattern.例文帳に追加
絶縁性樹脂の露光は、非分離パターンと分離パターンを異なるマスクに配置した分割露光により行い、非分離パターンを分離パターンの露光量に対して20〜80%内の所定の露光量で露光する。 - 特許庁
An auxiliary pattern 102 that diffracts exposure light, but is not transferred through the exposure is formed in a side of the main pattern 101 on the transmissive substrate 100, so as to interpose a light-transmitting portion between the auxiliary pattern and the main pattern 101.例文帳に追加
透過性基板100上における主パターン101の側方には、露光光を回折させ且つ露光により転写されない補助パターン102が、主パターン101との間に透光部を挟むように設けられている。 - 特許庁
The photomask includes a base, a plurality of chip pattern regions where a light-shielding pattern comprising a metal material is formed on the base, and scribe regions comprising a light-shielding pattern formed between the chip pattern regions.例文帳に追加
基体と、基体に金属材料による遮光パターンが形成されている複数のチップパターン領域と、チップパターン領域同士の間に形成されている遮光パターンからなるスクライブ領域とを備えるフォトマスクを構成する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method in which a sensitivity change of a pattern forming material due to a light source such as a safe light is suppressed, and which ensures excellent storage stability and allows efficient formation of a permanent pattern such as a wiring pattern with high definition.例文帳に追加
セーフライトなどの光源によるパターン形成材料の感度変化を良好に抑制し、保存安定性に優れ、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁
A first film pattern is formed on a substrate, a second film pattern is formed with curvature on the surface of the first film pattern, and a film pattern is formed by irradiating the first film pattern with light through the second film pattern and a part of the second film pattern.例文帳に追加
本発明は、基板上に第1の膜パターンを形成し、第1の膜パターン表面に曲率を有する第2の膜パターンを形成し、第2の膜パターンを介して第1の膜パターンに光を照射して第2の膜パターンの一部を改質して膜パターンを形成することを特徴とする。 - 特許庁
By this, the light distribution pattern for low beam with the intended pattern form and lightness distribution is obtained as a synthesized light distribution pattern of light irradiated from the three kinds of lighting fixture units.例文帳に追加
そしてこれにより、これら3種類の灯具ユニットからの光照射により形成される配光パターンの合成配光パターンとして、所望するパターン形状および光度分布を有するロービーム用配光パターンが得られるようにする。 - 特許庁
The light guide plate 22 on the back surface side, in which the display pattern 28 is formed in a display pattern forming area 29 and the light guide plate 24 on the front surface side, in which the display pattern 34 is formed are piled up with a light-shielding sheet 23 held therebetween.例文帳に追加
表示パターン形成領域29に表示パターン28を形成された背面側の導光板22と、表示パターン34を形成された前面側の導光板24とを、遮光シート23を挟んで重ね合わせる。 - 特許庁
To provide a silver halide photographic sensitive material which is hardly affected by a change in the line width of a mask pattern and ensures good smoothness of the edges of a formed pattern when an original pattern is formed with a photo-plotter using laser light or light of a light emitting diode.例文帳に追加
レーザー光または発光ダイオード光を用いたフォトプロッターで原画パターンを描画する際に、マスクパターンの線巾変動を受けにく、描画パターンエッジのスムースネスが良いハロゲン化銀写真感光材料を提供すること。 - 特許庁
A photomask is exposed by using an exposure means that reproduces exposure conditions simulating actual exposure conditions; a transmitted light pattern of the photomask is acquired by an imaging means; and transmitted light pattern data are obtained based on the acquired transmitted light pattern.例文帳に追加
露光条件を模した露光条件を再現する露光手段を用いてフォトマスクに露光を行い、このフォトマスクの透過光パターンを撮像手段により取得し、取得された透過光パターンに基づいて透過光パターンデータを得る。 - 特許庁
Then a composition for a light shielding layer is applied all over the surface of the pattern forming substrate where the wettable pattern is formed so as to deposit and fix the composition for the light shielding layer on the lyophilic region only to form the light shielding layer pattern.例文帳に追加
そして、前記濡れ性パターンが形成されたパターン形成体用基板表面に、遮光層用組成物を全面に塗布し、親液性領域にのみ遮光層用組成物を付着、固着させて、遮光層パターンを形成する。 - 特許庁
A pattern (2) is made up of a diagonal line pattern 31 whose angle of inclination is 45° drawn by a beam from the LD0 and a horizontal line pattern 30 drawn by a light beam from the LD1.例文帳に追加
パターン(2)はLD0からのビームで描く傾き45°の斜め線パターン31と、LD1からのビームで描く水平線パターン30からなる。 - 特許庁
Further, a pattern consisting of a (second segment group in a relation corresponding to the first pattern (about the inversion of the intensity of light and complementary colors) is formed adjacent to the first pattern.例文帳に追加
さらに、前記パターンと対応関係(光強度の反転,補色関係)にある(第2の)セグメント群からなるパターンを隣接させて形成する。 - 特許庁
To provide a novel pattern-shaped polarizing element and a pattern-shaped polarizing polymer light emitting diode by using a uniaxially oriented conjugated polymer thin film pattern.例文帳に追加
一軸配向共役系高分子薄膜パターンを用いて、新規なパターン状偏光素子とパターン状偏光高分子発光ダイオードを提供する。 - 特許庁
Part of each reticle pattern 15 which does not overlap a light shielding band pattern 16 is extracted, and an exposure pattern 23 to be transferred onto a substrate by an aligner is created.例文帳に追加
各レチクルパターン15毎に遮光帯パターン16と重ならない部分を抜き出して、露光機によって基板上に露光される露光パターン23を作る。 - 特許庁
The optical sheet applied for the display optical filter includes a transparent substrate, including a plurality of pattern grooves and a light shielding pattern filled in the plurality of pattern grooves.例文帳に追加
ディスプレイ光学フィルタに適用される光学シートは、複数のパターン溝を含む透明基材と、パターン溝に充填される遮光パターンとを含む。 - 特許庁
To provide an illuminator for pattern inspection which can obtain reflected light having sufficient luminance even at a fine pattern section when a pattern is inspected for propriety.例文帳に追加
パターンの良否検査の際にファインパターン部においても、十分な輝度を有する反射光を得ることができるパターン検査用照明装置を提供すること。 - 特許庁
An optical pattern 7 is formed on a pattern surface 2b of a light guide plate 2 which forms the display device 1 by reflecting only light rays from light sources 5a to 5d facing each other among emission light rays from the light sources 5a to 5d onto a display surface to form bright spots.例文帳に追加
表示装置1を形成する導光板2のパターン面2bに、光源5a〜5dからの出射光のうち対向する光源5a〜5dからの光のみを表示面に反射して輝点を形成する光学パターン7を形成する。 - 特許庁
Further, the second lens makes emit the direct light from the planar light source as the light diffusing in the horizontal direction and is configured to form a second light distribution pattern having a horizontal cut-off line which is irradiated superimposed on the first light distribution pattern.例文帳に追加
また、第2レンズは、面状光源からの直射光を水平方向に拡散する光として出射させ、第1配光パターンに重畳して照射される、水平カットオフラインを有する第2配光パターンを形成するように構成される。 - 特許庁
A light emission control CPU 14 references a light emission pattern table stored in a light emission control information storage section 12 and sets a combination of light emission levels of R, G, B corresponding to a divided bit string (light emission pattern) to an LED driver 19 (S2).例文帳に追加
発光制御CPU14は、発光制御情報記憶部12に記憶された発光パターンテーブルを参照し、分割ビット列に対応するR,G,Bの発光レベルの組み合わせ(発光パターン)をLEDドライバ19に設定する(S2)。 - 特許庁
A signal light pattern is displayed in a signal light area 20S set in the fixed position of a spatial optical modulator 20, and a ring-shaped reference light area 20R is slid to display a reference light pattern in the moved reference light area 20R.例文帳に追加
空間光変調器20の固定配置された信号光領域20Sに信号光パターンを表示すると共に、リング状の参照光領域20Rをスライドさせて、移動させた参照光領域20Rに参照光パターンを表示する。 - 特許庁
A vehicle lamp system includes a vehicle lamp that forms a light distribution pattern for a right side high beam and a light distribution pattern for a left side high beam, wherein the light distribution pattern for the left side high beam has an irradiation area where at least a portion thereof is shifted from the irradiation area formed by the light distribution pattern for the right side high beam; and a control unit that controls the vehicle lamp.例文帳に追加
車両用灯具システムは、右片ハイ用配光パターン、および右片ハイ用配光パターンの照射領域に対して少なくとも一部がずれた照射領域を有する左片ハイ用配光パターンを形成するための車両用灯具と、車両用灯具を制御するための制御部と、を備える。 - 特許庁
A light-emitting element 9 and a light- receiving element 11 are die-bonded on each wiring pattern 7 so that a light- emitting part and a light-receiving part face the light-emitting side window 8a and the light-receiving side window 8b, respectively.例文帳に追加
各配線パターン7上には、それぞれの発光部および受光部が発光側窓部8aおよび受光側窓部8bとそれぞれ対向するように、発光素子9および受光素子11がダイボンドされている。 - 特許庁
The plug body is formed of a plurality of insulator layers, and in the different insulator layers, a wiring pattern for the light emitting element is arranged between the light emitting element and the IC for the light emitting element, and a wiring pattern for the light receiving element is arranged between the light receiving element and the IC for the light receiving element.例文帳に追加
プラグボディは、複数の絶縁体層によって形成され、絶縁体層の異なる層に、発光素子と発光素子用ICとの間の発光素子用配線パターンと、受光素子と受光素子用ICとの間の受光素子用配線パターンとを有する。 - 特許庁
The head lamp device control part divides a light distribution pattern PH for a high beam, formed by light irradiation of the light source, into a plurality of regions and controls light irradiation from each of the divided individual regions PHa to PHe so as to additionally irradiate light to a light distribution pattern PL for a low beam.例文帳に追加
前照灯装置制御部は、光源の光照射によって形成されるハイビーム用配光パターンPHを複数に分割して、分割された個別領域PHa〜PHeについて光の照射を制御し、ロービーム用配光パターンPLに付加的に照射するように制御する。 - 特許庁
To suppress displacement of a pattern in each scanning, the pattern drawn with a light beam, on drawing the pattern on a substrate by scanning the substrate with a light beam more than once, and thereby, to improve the accuracy of drawing.例文帳に追加
光ビームによる基板の走査を複数回行って、基板にパターンを描画する際に、光ビームにより描画されるパターンの走査毎のずれを抑制して、描画精度を向上させる。 - 特許庁
To provide a light-to-light type optical signal pattern discriminating method and an optical signal pattern discriminating device that are extremely small-sized and capable of ultra high-speed operation and EX-OR type fully optical pattern discrimination.例文帳に追加
極めて小型で、超高速動作が可能な、EX−OR型の全光パターン識別が可能な、光−光型の光信号パターン識別方法及び光信号パターン識別装置を提供する。 - 特許庁
To reduce luminous intensity of light irradiated on the optical axis 1' of a light-emitting element source 1 from the light-emitting surface 2b of a light guide lens 2, and to clarify the contour of the fringe part P1 of a light distribution pattern P formed by light irradiated from the light-emitting surface 2b of the light guide lens 2.例文帳に追加
導光レンズ2の出射面2bから発光素子光源1の光軸1'上に照射される光の光度を低くすると共に、導光レンズ2の出射面2bから照射される光によって形成される配光パターンPの縁部P1の輪郭を明瞭にする。 - 特許庁
The authenticity judgment medium 1 is produced by laminating on a substrate 2 an orientation film 3 and three types of pattern layers, namely a light selection reflecting pattern layer 4, a low stretchable pattern layer 6, a light reversing pattern layer 7 and a light selection reflecting layer 5.例文帳に追加
基材2、配向膜3、三種類のパターン層、即ち、光選択反射パターン層4、低配向性パターン層6、および光反転パターン層7、並びに光選択反射層5を積層して真偽判定用媒体1とすることにより課題を解決することができた。 - 特許庁
The silicon sensor substrate 4 includes: an LED 401 for irradiating the absolute pattern 100 and the incremental pattern 101 with scattered light; and light-sensitive element arrays 403 and 404 for detecting the scattered light reflected by the absolute pattern 100 and the incremental pattern 101.例文帳に追加
シリコンセンサ基板4には、アブソリュートパターン100およびインクリメンタルパターン101に発散光を照射するLED401と、アブソリュートパターン100およびインクリメンタルパターン101で反射された発散光を検出する受光素子アレイ403,404とが設けられている。 - 特許庁
In a mask used for the first exposure treatment, the whole surface of the mask for an ordinary pattern corresponding to the ordinary pattern forming area is formed of a light shielding pattern, and in a mask used for the second exposure treatment, the whole surface of the mask for a grating pattern corresponding to the grating pattern forming area is formed of the other light shielding pattern.例文帳に追加
上記第1の露光処理用のマスクにおいて、通常パターン形成領域に対応する通常パターン用マスク部は全面が遮光パターンで形成され、第2の露光処理用のマスクにおいて、グレーティングパターン形成領域に対応するグレーティングパターン用マスク部は全面が遮光パターンで形成される。 - 特許庁
The pattern forming method lays the master having at least either two dimensional or three dimensional pattern and a pattern transferred material one on another, the pattern transferred material having at least a recording layer which undergoes a change in a state when irradiated with a light, and irradiates the pattern transferred material with light to transfer the pattern of the master to the recording layer.例文帳に追加
二次元及び三次元の少なくともいずれかのパターンが形成されたマスターと、光の照射を受けると状態が変化する記録層を少なくとも有するパターン被転写材料とを重ね合わせ、光を照射することにより、該記録層中で前記マスターにおけるパターンを転写させるパターンの形成方法である。 - 特許庁
A pattern part of an information recording body 1 having a hidden pattern is illuminated by a light source 24, reflected light is read out by an optical sensor 25 through a check pattern 27 and a lens system 26, a moire pattern is generated, and whether the generated moire pattern is the same as a reference pattern stored in a storage means 29 or not is judged to solve conventional problems.例文帳に追加
隠しパターンを有する情報記録体1のパターン部を光源24で照明し、反射光を確認パターン27およびレンズ系26を介して光センサ25で読み取り、モアレパターンを発生させ、記憶手段29に記憶された標準パターンとの異同の判定を行なうことにより、課題を解決した。 - 特許庁
Further, the light L2 shielded by the shade 5 can be effectively used as a subsidiary light distribution pattern SP.例文帳に追加
また、シェード5により遮られる光L2を補助用の配光パターンSPとして有効利用することができる。 - 特許庁
The light emitting device 1 is provided with a substrate 11, a light emitting element 12 and a first metal material pattern 14.例文帳に追加
発光装置1は、基体11、発光素子12および第1の金属材料パターン14を有している。 - 特許庁
The optical space modulation section flexibly changes the color pattern of an irradiation light by space modulation of the spectrum light.例文帳に追加
光空間変調部は、スペクトル光の空間変調により、照明光の色パターンを柔軟に変更する。 - 特許庁
LIGHT-DIFFUSING PLATE, SURFACE LIGHT SOURCE DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SURFACE PATTERN TRANSFER RESIN SHEET例文帳に追加
光拡散板、面光源装置、液晶表示装置および表面形状転写樹脂シートの製造方法 - 特許庁
As a result, deterioration of a light volume of the first light distribution pattern is prevented, and appearance is improved.例文帳に追加
この結果、この発明は、第1配光パターンの光量の低下を防ぐことができ、また、見栄えが向上される。 - 特許庁
A specific-lamp-performance-mode determining unit 320 selectively controls a pattern light-emission and random-number light-emission.例文帳に追加
特定ランプ演出態様決定部320は、パターン発光制御と乱数発光制御とを選択的に行う。 - 特許庁
During AF processing, an auxiliary light radiation part 38 emits auxiliary light having a predetermined pattern toward the subject.例文帳に追加
AF処理時に補助光照射部38が被写体に向けて所定パターンを有する補助光を照射する。 - 特許庁
A warning light W2 has a casing member 70, a light emitting element 80, a planoconvex lens 90 and a warning pattern P2.例文帳に追加
警告灯W2は、ケーシング部材70、発光素子80、平凸レンズ90及び警告パターンP2を有する。 - 特許庁
A light reflecting pattern 29 is formed in the axial direction of the light guiding bodies 3a and 3b on the surface of the transparent substrate 2.例文帳に追加
透明基板2の表面には、光反射パターン29を導光体3a、3bの軸方向に沿って形成する。 - 特許庁
When the regularity of the array pattern is eliminated, the regularity of the unevenness of light distribution is also removed and the unevenness of light distribution is reduced.例文帳に追加
配列パターンの規則性がなくなると、配光ムラの規則性も排除されて、配光ムラが軽減される。 - 特許庁
The resist film 102 is irradiated with an exposure light comprising extreme ultraviolet light in a selective manner to achieve pattern exposure.例文帳に追加
次に、レジスト膜102に極紫外線からなる露光光を選択的に照射してパターン露光を行う。 - 特許庁
The wavefront distortion imparted to components of the read light other than the zero-order light is corrected with the sub-phase pattern.例文帳に追加
読出し光の0次光以外の成分に与えられる波面歪みは、副位相パターンによって補正される。 - 特許庁
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