「line pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

The main antenna pattern 2 includes a central radiator 5 which becomes line symmetrical for a line symmetrical axis 4 of the line symmetry; and antenna elements 7a, 7b which are prepared symmetrically in line in a predetermined interval in a length direction of folded conductors 5a, 5b of the central radiators 5.例文帳に追加

メインのアンテナパターン２は、線対称の線対称軸４に対して線対称になる中央放射器５と、中央放射器５の折り返し導体５ａ，５ｂの長手方向に所定間隔で線対称に設けたアンテナ素子７ａ，７ｂとを備える。 - 特許庁

The block pattern is arranged so that the bottom-up part 6 of a block row farther from the tread center line 7 has a center line 8 in the circumferential direction located nearer the tread center line 7 than the center line 9 in the circumferential direction of the blocks to be coupled together.例文帳に追加

この発明は、トレッドセンターライン７から離れたブロック列における底上げ部６ほど、底上げ部６の周方向中心線８が、連結されるブロックの周方向中心線９よりもトレッドセンターライン７寄りとなるブロックパターンを備えることを特徴としている。 - 特許庁

To provide a sliding device for arranging line stones, a pattern for arranging line stones and a set of tools for arranging line stones, capable of decreasing labor and shortening working time by making works of arranging line stones at a predetermined positions based on a predetermined information easy.例文帳に追加

ラインストーンを所定の情報に沿った所定の位置に配置する作業を容易にして、労力の軽減と作業時間の短縮化を図ることが可能なラインストーン配置用スライド具とラインストーン配置型とラインストーン配置用具セットを提供すること。 - 特許庁

Edges which form a cut-off line CL of a low-beam light distribution pattern LP are provided in a shade 5.例文帳に追加

この発明は、シェード５にはすれ違い用配光パターンＬＰのカットオフラインＣＬを形成するエッジが設けられている。 - 特許庁

To improve uniformity in a resist residual film after development and to suppress variations in the line width and pitches of a wiring pattern.例文帳に追加

現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。 - 特許庁

A property of an extended pattern formed by at least one line generally extending in a first direction is detected.例文帳に追加

概ね第一方向に延在する少なくとも１本の線によって形成された延在パターンの特性を検出する。 - 特許庁

The distance between the line of the first wiring pattern and the contact pad is the predetermined pitch, and the predetermined pitch is 100 nm or less.例文帳に追加

第１配線パターンのラインとコンタクトパッドとの間隔は所定ピッチであり、所定ピッチは１００ｎｍ以下である。 - 特許庁

To provide a method for producing an optical sheet which is excellent in the accuracy of a straight line-shaped array pattern on the surface.例文帳に追加

本発明は、表面に直線状の配列パターンの精度に優れた光学シートの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus that can reduce alignment errors or focus errors, thus achieving a pattern form and a line width as targets.例文帳に追加

アライメント誤差又はフォーカス誤差を低減し、目標とするパターン形状、線幅を達成する露光装置を提供する。 - 特許庁

A display example 1 is the display example to change drawing color of a wiring pattern only by the length of a violating line length of a wiring path.例文帳に追加

表示例１は、配線パスの違反線長の長さだけ配線パターンの描画色を変更する表示例である。 - 特許庁

The focusing chart 11 is constituted of a glass substrate 20 and a parallel line pattern group 21 which is obtained by depositing aluminum on the glass substrate 20.例文帳に追加

ピント調整チャート１１を、ガラス基板２０とこれにアルミ蒸着した平行線パターン群２１とから構成する。 - 特許庁

A wiring pattern includes a signal line 14 formed between the connector and the controller to connect between the connector and the controller.例文帳に追加

配線パターンには、コネクタとコントローラとの間に形成されてコネクタとコントローラとを接続する信号線１４が含まれる。 - 特許庁

To decrease the work labor for evaluating a receding amount in the edge of a line pattern and to simplify the mask CAD process therefor.例文帳に追加

ラインパタン端部の後退量を評価する作業による労力の低減と、そのマスクＣＡＤ処理の簡易化を図る。 - 特許庁

The slit 3 is composed of a line-and-space pattern P having a pitch smaller than the resolution limit of the reducing stepper.例文帳に追加

スリット３を、縮小投影露光装置の解像限界以下のピッチを有するラインアンドスペースパターンＰにより構成する。 - 特許庁

An SiN film 9 is deposited thin on the pattern 4a of the SiN film, having comparatively deep irregularities 4b at line edges.例文帳に追加

ラインエッジに比較的深い凹凸４ｂを有したＳｉＮ膜のパターン４ａ上にＳｉＮ膜９を薄く堆積する。 - 特許庁

Therefore, the fine pattern with a uniform line width can be continuously drawn on the plane 5 to be drawn such as a substrate.例文帳に追加

これにより、基板などの被描画平面５上に連続して線幅が均一の微細パターンを描画することができる。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, pattern shape, etc., and ensuring small line edge roughness.例文帳に追加

感度、解像度、パターン形状等に優れ、かつラインエッジラフネスの小さい感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer compound which is used for photoresists and is excellent in line edge roughness resistance, pattern collapse resistance, development defect resistance, dry etching resistance and the like.例文帳に追加

ラインエッジラフネス、パターン倒れ、現像欠陥、ドライエッチング耐性等に優れたフォトレジスト用高分子化合物の提供。 - 特許庁

To provide a meander line antenna the conductor pattern of which is formed in a meandered manner that can simply be adapted to a desired frequency band.例文帳に追加

導体パターンをメアンダ状に形成したメアンダラインアンテナに関し、所望の周波数帯に簡単に適用可能とする。 - 特許庁

To determine an end part of a pattern area from the output of a line sensor without setting an inspection area in advance.例文帳に追加

事前に検査領域を設定することなく、ラインセンサの出力からパターン領域の端部を判定可能とする。 - 特許庁

In a PROM of 5 V specification, a wiring pattern 38 is cut off and a PMOS 37 is separated from a word line 11.例文帳に追加

５Ｖ仕様のＰＲＯＭでは、配線パターン３８が切断されてＰＭＯＳ３７はワード線１１から切離される。 - 特許庁

The forming die has a surface of a housing shape, and the surface includes a first fine line pattern formed by the etching.例文帳に追加

成形型は筐体形状をなす表面を有し、表面はエッチングにより形成された第一細線を含む。 - 特許庁

Of the tread pattern, the area ratios of the grooves of both the two regions on both the sides in the tire width direction sandwiching the tire equator line are brought to be different.例文帳に追加

トレッドパターンの、タイヤ赤道線を挟んだタイヤ幅方向の両側の領域の溝面積比が異なる。 - 特許庁

To form a line and space structure where pattern collapse does not occur in a drying process after liquid cleaning.例文帳に追加

液体洗浄後の乾燥工程においてにパターン倒壊が発生しないラインアンドスペース構造を形成することができる。 - 特許庁

To provide a magnetic encoder having an excellent accuracy by controlling an inductive voltage superposing on a detection signal conductor line pattern.例文帳に追加

検出信号導線パターンに重畳する誘起電圧を抑制することで、精度の良い磁気式エンコーダを提供する。 - 特許庁

The line pattern is transferred to a positive photoresist film formed on a wafer by lap-exposing transferring areas 2A and 2B to light.例文帳に追加

転写領域２Ａ，２Ｂを重ね露光することによりウエハ上のポジ型のフォトレジスト膜にラインパターンを転写する。 - 特許庁

The surface acoustic wave device has a pattern 1 for measuring the line width of the metal electrode film on a part of the metal electrode film.例文帳に追加

金属電極膜の一部に、金属電極膜の線幅を測定するための線幅測定用パターン１を有する。 - 特許庁

To expose a pattern, having a fine line width on a resist with high precision by an electron beam exposure method which uses a stencil mask.例文帳に追加

ステンシルマスクを使用する電子ビーム露光方法に関し、微小線幅のパターンを高精度にレジストに露光すること。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive photoresist composition which attains improved shortening of the edge part (longitudinal direction) of a line pattern.例文帳に追加

ラインパターン端部（長手方向）のショートニングが改善された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a positive photoresist composition which ensures improved balance between the dense and coarse patterns of a resist pattern and improved line edge roughness.例文帳に追加

レジストパターンの密パターンと粗パターンのバランスが改良され、ラインエッジラフネスを改良されたポジ型フォトレジスト組成物を得る。 - 特許庁

A pattern 11 for measuring precision in overlapping is constituted of four line patterns 12 provided along each side of a square.例文帳に追加

重ね合わせ精度測定用パターン１１を、正方形の各辺に沿って設けた４つのラインパターン１２から構成する。 - 特許庁

METHOD OF PREDICTING LINE WIDTH ROUGHNESS AND RESIST PATTERN FAILURE, PROGRAM, APPARATUS, AND USING THE SAME IN LITHOGRAPHY SIMULATION PROCESS例文帳に追加

ライン幅粗さおよびレジストパターン不良を予測する方法、プログラム、および装置、ならびにそのリソグラフィシミュレーションプロセスでの使用 - 特許庁

A resist pattern 18 formed on a terminal part 40A of a signal line is restricted on the wires of the terminal part 40A.例文帳に追加

信号線の端子部４０Ａに形成するレジストパターン１８を当該端子部４０Ａの配線上に制限する。 - 特許庁

The terminal section has a terminal pattern 216, formed by the same MoW layer as the capacity line of the TFT array section.例文帳に追加

この端子部は、ＴＦＴアレイ部の容量線と同じＭｏＷ層にて形成される端子パターン２１６を備える。 - 特許庁

The shield member S is composed by connecting a plurality of divided substrates 1, 2 and 3 where a planar pattern 5 is formed with a jumper line 4.例文帳に追加

シールド部材Ｓは、面状パターン５を形成した複数の割り基板１，２，３をジャンパー線４で接続して成る。 - 特許庁

ON-LINE HANDWRITTEN CHARACTER PATTERN RECOGNIZING EDITING DEVICE AND METHOD, AND COMPUTER-AIDED PROGRAM TO REALIZE METHOD例文帳に追加

オンライン手書き文字パターン認識編集装置及び方法並びに当該方法を実現するコンピュータ実行可能なプログラム - 特許庁

Then the silicon oxide film 15 is peeled through hydrogen fluoride processing, so that a shrink pattern of 15 nm in line and space pitch is formed.例文帳に追加

この後、シリコン酸化膜１５を弗酸処理で剥離するとラインアンドスペースが１５ｎｍのシュリンクパターンを形成できる。 - 特許庁

Besides, the laser trimming positioning pattern is formed in the existing pad region and the bleeder resistor region of a semiconductor integrated circuit chip and arranged in the intersection of the scribe line.例文帳に追加

さらにレーザトリミング位置決め用パターン内部の寸法と、レーザービームスポット径との望ましい関係を示した。 - 特許庁

The antenna pattern (18) has a square symmetrical figure using the electrical supply line (16) as an axis of square symmetry.例文帳に追加

このアンテナパターン（１８）は、給電線（１６）を４回回転対称軸とする４回回転対称図形をしている。 - 特許庁

A focus detection pattern having repeated contrasts is projected onto a receiving plane 60A of the CCD line sensor 60.例文帳に追加

そして、コントラストが繰り返される焦点検出用パターンを、ＣＣＤラインセンサ６０の受光面６０Ａに投影する。 - 特許庁

To provide a pattern antenna capable of realizing broadbanding without losing downsizing of a radiation conductor formed to be a meander line.例文帳に追加

メアンダラインからなる放射導体の小型化を損なわずに広帯域化を実現できるパターンアンテナを提供すること。 - 特許庁

To provide a woody door expressing a circular-arclike curved groove pattern having a much beautiful shape retaining strength becoming a straight line.例文帳に追加

直線ラインとなる優美な保形強度に富む円弧凹曲溝模様が表出された木質扉を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition improved in line edge roughness and pattern collapse.例文帳に追加

ラインエッジラフネス、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the case of a specified page (S14; Y), address of the starting point/ending point of a line is calculated (S15) and a pattern matrix is generated (S16).例文帳に追加

指定ページである場合（Ｓ１４；Ｙ）、線の始点・終点アドレスを算出し（Ｓ１５）、パターンマトリクスを作成する（Ｓ１６）。 - 特許庁

To provide a game machine with which a player can immediately recognize the validating condition of a picture pattern stop line.例文帳に追加

遊技者に図柄停止ラインの有効化状況を即座に認識させることができる遊技機を提供すること。 - 特許庁