「line pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

DEVICE FOR INJECTING LIQUID CONTAINING METAL PARTICULATES, AND LINE PATTERN MANUFACTURED BY DEVICE FOR INJECTING LIQUID CONTAINING METAL PARTICULATES例文帳に追加

金属微粒子含有液噴射装置、及び、金属微粒子含有液噴射装置によって製作されるラインパターン - 特許庁

To provide a technique for printing a circuit pattern with improved fine line reproducibility using electrophotography development method.例文帳に追加

細線再現性に優れた回路パターンを電子写真現像方式により印刷することができる技術の提供。 - 特許庁

The first alignment mark 1 includes a line pattern 1L containing lines 1L_1, 1L_2, ..., 1L_9, the width of which increase in one direction.例文帳に追加

第１アライメントマーク１は、幅が一方向に増大する線１Ｌ_１，１Ｌ_２，…，１Ｌ_９を含むラインパターン１Ｌを有している。 - 特許庁

Interconnect line pattern layers 4 and 6 are formed in both surface sides of this metal board 1 via insulating layers 3 and 5, respectively.例文帳に追加

この金属基板１の両面側に絶縁層３，５を介してそれぞれ配線パターン層４，６が形成されている。 - 特許庁

Furthermore, the core material film 31 is slimmed, to form a line-and-space-like pattern of a second width smaller than the first width.例文帳に追加

さらに、芯材膜３１をスリミングして第１の幅より小さい第２の幅のラインアンドスペース状のパターンを形成する。 - 特許庁

A 1st camera 21 picks up the image of a passing vehicle measurement line 14 and outputs a 1st luminance pattern signal S1.例文帳に追加

第１のカメラ２１は、通過車両計測ライン１４を撮像して第１の輝度パターン信号Ｓ１を出力する。 - 特許庁

The RF transmission antenna 18 is formed by the pattern antenna which directly prints and forms an antenna line on the substrate 27.例文帳に追加

このＲＦ発信アンテナ１８は、基板２７にアンテナ線を直に印刷形成するパターンアンテナで形成されている。 - 特許庁

To provide a method for reducing defects in a semiconductor device, in particular, decreasing pattern collapse and roughness in a photoresist line.例文帳に追加

半導体デバイスの欠陥、特にパターンの倒壊及びフォトレジストラインの凹凸を低減するための方法を提供すること。 - 特許庁

The resistor 103 can be a chip resistor or, a pattern of a microstrip line, a chip capacitor, or a chip inductor.例文帳に追加

抵抗器１０３は、チップ抵抗であっても良く、また、マイクロストリップラインのパターン、チップコンデンサ及びチップインダクタであっても良い。 - 特許庁

An auxiliary pattern 39 softer than a sealing portion 16 after cured is formed along a scheduled cutting line on a large glass substrate.例文帳に追加

大判ガラス基板上に硬化後のシール部16よりも軟質の補助パターン39を割断予定線に沿って形成する。 - 特許庁

As for Hamon (blade pattern), they have Suguha (straight temper line), or Kochoji (small clove hamon) or Komidare (small irregular hamon), which is called Nie. 例文帳に追加

刃文（はもん）は直刃（すぐは）または小丁子（こちょうじ）・小乱（こみだれ）が入っており、沸（にえ）出来である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A technique called mokuzogan inlay work is used, for example, when inserting a shape of a fan using a curved line within an ichimatsu pattern. 例文帳に追加

例えば市松の中に曲線で扇形を入れる場合は糸鋸で嵌め込む木象嵌と呼ばれる技法が使われる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a resist composition capable of providing a resist pattern having excellent line edge roughness (LER).例文帳に追加

優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for duplicating a molecular pattern, by which duplicated products with a hyperfine line width can be mass-produced in a short time.例文帳に追加

超微細な線幅の複製品を短時間に大量製造し得る分子パターンの複製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new compound to be included in a resist composition giving a pattern having excellent line edge roughness.例文帳に追加

優れたラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物に含まれる新規化合物を提供する。 - 特許庁

A partition line is recognized from the document image (2), and the painted-out area is searched while changing the size of a paint-out pattern (3).例文帳に追加

帳票画像から区切線を認識し（２）、塗りつぶしパターンのサイズを変えながらべた塗り領域を検索する（３）。 - 特許庁

For example, as shown in Fig.2, the pattern is formed to have a line width of about 100 μm and a thickness of about 150 μm.例文帳に追加

パターンは、例えば図２に示すように、線幅が１００μｍで、厚さが１５０μｍ程度のものを作製できる。 - 特許庁

As the pattern of the beam, the beam cut distance of a center beam 3 is long in the case of a straight-line section (a), and side beams 4, 5 are short.例文帳に追加

このビームのパターンは、直線区間の場合（ａ）は、センタビーム３のビームカット距離が長く、サイドビーム４，５は短い。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition whose line edge roughness and exposure margin are improved and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラインエッジラフネス、露光マージンが改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When examining an unknown crystal, one looks initially for mirror line symmetry, possibly in a Kikuchi pattern. 例文帳に追加

知られていない結晶を調べるとき、研究者は、最初はおそらく菊池図形の中に鏡映線対称を捜す。 - 科学技術論文動詞集

The moire fringes are always perpendicular to the line joining the pair of spots which combine to form the moire pattern. 例文帳に追加

モワレ縞は、モワレ図形を形成するように結合している一対の回折斑点を結ぶ線と、常に垂直である。 - 科学技術論文動詞集

a switch 8 switches the 1-bit mute pattern signal a, generated by a mute pattern generator 4, to a 1-bit mute pattern signal b, generated by a mute pattern generator 5 and delayed by a delay line 7, at a specified timing depending on a control signal S_2 from the controller 11.例文帳に追加

制御装置１１からの制御信号Ｓ2に基づいた所定のタイミングで切り換え装置８は、ミュートパターン発生器４によって生成される１ビットミュートパターン信号ａを、ミュートパターン発生器５によって生成されてディレーライン７でディレーされた１ビットミュートパターン信号ｂへと切り換える。 - 特許庁

When an original pattern profile 1 which is to be transferred by the use of an electron beam projection exposure mask is divided into a plurality of pattern profiles that are complementary to each other, the original pattern profile 1 is divided into demarcations by the use of grids 2 whose size is determined on the basis of the minimum line width of the original pattern profile 1.例文帳に追加

電子線投影露光用マスクを用いて転写すべき原パターン形状１を、相補的な複数のパターン形状に分割するのにあたって、先ず、前記原パターン形状１を、その最小線幅を基準に一区画の大きさが決定された格子２を用いて分割する。 - 特許庁

To provide a catalyst pattern manufacturing method for manufacturing s catalyst pattern to be used for forming a metal pattern which has excellent adhesion to a substrate, thin line reproducibility, and conductivity using a good discharge stability ink, and a metal pattern manufacturing method using thereof.例文帳に追加

本発明の目的は、吐出安定性に優れたインクを用い、基板との密着性、細線再現性及び導電性に優れた金属パターンの形成に用いる触媒パターンを製造する触媒パターン製造方法及びそれを用いた金属パターン製造方法を提供することにある。 - 特許庁

Protruded picture lines 7 of intaglio printing with a line pattern in which a picture pattern is expressed by partly changing the angles are printed on the surface of a base material 5, and lines pattern 10 expressing a picture pattern by changing the widths are printed on the protruded picture lines 7 of the intaglio printing of this base material 5.例文帳に追加

基材５の表面に、部分的に角度を異にすることによって図柄を表した万線模様の凹版印刷隆起画線７を印刷し、この基材５の凹版印刷隆起画線７の上から幅を変化させることで図柄を表した万線画線１０を印刷する。 - 特許庁

A first conductive pattern 6, a ground pattern 7, and a microstrip line 8 are patterned on one side of a dielectric substrate 3, and a second conductive pattern 9 and a ground pattern 10 are patterned on the other side of the dielectric substrate 3, and both ground patterns 7 and 10 are connected conductively via a through hole 11.例文帳に追加

誘電体基板３の片面に第１の導電パターン６とアースパターン７およびマイクロストリップ線路８をパターン形成すると共に、誘電体基板３の他面に第２の導電パターン９とアースパターン１０をパターン形成し、両面のアースパターン７，１０をスルーホール１１を介して導通する。 - 特許庁

A 1st position (s) on the original file margin being an image area having a luminance pattern similar in a straight line direction is obtained, a luminance pattern X at a position (x) around this position (s) is detected and a luminance pattern YT with the highest similarity to the luminance pattern X is detected within a prescribed retrieval range.例文帳に追加

直線方向に類似した輝度パターンを持つ画像領域である原稿綴じ部上の第１の位置ｓを求め、この位置ｓ付近の位置ｘの輝度パターンＸを検出し、さらに、所定の探索範囲内において、輝度パターンＸと最も類似度の高い輝度パターンＹ_T を検出する。 - 特許庁

A first monitor region MNTR1 to which at least an auxiliary pattern which corrects line degeneracy has been added is disposed in a part of the evaluating pattern 13, and preferably a second monitor region MNTR2 with no auxiliary pattern is further disposed in another part of the pattern 13.例文帳に追加

また、評価パターン１３にも、一部に少なくともライン縮退を補正する補助パターンが付加された第１モニタ領域ＭＮＴＲ１が設けられ、望ましくはさらに評価パターン１３の別の一部には、上記補助パターンのない第２モニタ領域ＭＮＴＲ２が設けられている。 - 特許庁

In the pattern formation method forming a pattern using a letterpress, ink is fed to the letterpress with a stripe shape using an anilox rolls in which the pitch a of a surface pattern satisfies a>w to the line width w of the letterpress, and a pattern is transferred to the body to be printed.例文帳に追加

凸版を用いてパターンを形成するパターン形成方法において、ストライプ形状の凸版に、表面パターンのピッチａが該凸版の線幅ｗに対してａ＞ｗとなるアニロックスロールを用いてインキを供給し、被印刷体にパターンを転写することを特徴とするパターン形成方法とした。 - 特許庁

In a game machine which generates big winning when patterns on an effective line set at a special pattern display device 4 are equalized, in the case of the failure of ready, a left pattern and a right pattern start reverse variation (1) and a medium pattern starts reverse variation similarly to the left and right patterns (2) after this.例文帳に追加

特別図柄表示装置４に設定された有効ライン上の図柄が揃った場合に大当りとなる遊技機において、リーチはずれとなった場合に左図柄と右図柄とが逆転変動しはじめ（１）、遅れて、中図柄が左右図柄と同様にして逆転変動しはじめる（２）。 - 特許庁

Although trains of the Tozai Line, except for direct trains from the Keishin Line, currently run at 7.5-minute intervals, their interval when the line came into operation in 1997 was ten minutes, which was inconsistent with that of direct trains from the Keishin Line, and in 2000 the interval was changed to 7.5 minutes in order to make it consistent with the operation pattern of direct trains from the Keishin Line. 例文帳に追加

なお、京津線直通以外の東西線列車は現在7分半間隔の運転であるが、1997年の開通当初は10分間隔で京津線直通とパターンがずれていたのを解消するため、2000年に7分半間隔に増発して京津線直通とパターンを合わせたという経緯がある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Namely, the edge position of the device pattern 1 is changed so as to eliminate the step 1a, and the line width of the assist pattern 2 is changed so as to adjust a change in transfer shape resulting from the elimination of the step 1a from the device pattern 1.例文帳に追加

デバイスパターン１は、段差１ａを消失させるように、そのエッジ位置を移動させ、アシストパターン２は、デバイスパターン１から段差１ａを消失させたことによるその転写形状の変化を調整するように、線幅を変化させる。 - 特許庁

Since each pixel is two-dimensionally arranged in vertical and horizontal directions, for instance, the grating pattern of a vertical streak pattern is formed, and a spatial phase of the grating pattern is changed by moving the position of a grating line in a lateral direction.例文帳に追加

各画素は、縦横方向２次元に配列されているので、例えば縦縞模様の格子パターンを形成し、かつ、その格子線の位置を横方向に移動させることにより、格子パターンの空間位相を変化させることができる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in both of line width uniformity of a pattern and developing time-dependency of sensitivity, a chemically amplified resist composition and a resist film, for negative pattern formation with a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、パターンの線幅均一性及び感度の現像時間依存性のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

A pattern information generating section 100 generates pattern information of an image line pattern by employing a twice-difference arithmetic processing (A-2×C+E) for luminance values among opposed pixels on three adjacent lines of a field image, a coring processing, and an information collection processing.例文帳に追加

パターン情報生成部１００において、フィールド画像の隣接３ラインで対向画素間の輝度値２回差分演算（Ａ−２×Ｃ＋Ｅ）とコアリング処理、情報収集処理により画像ラインパターンのパターン情報を生成する。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material which is hardly affected by a change in the line width of a mask pattern and ensures good smoothness of the edges of a formed pattern when an original pattern is formed with a photo-plotter using laser light or light of a light emitting diode.例文帳に追加

レーザー光または発光ダイオード光を用いたフォトプロッターで原画パターンを描画する際に、マスクパターンの線巾変動を受けにく、描画パターンエッジのスムースネスが良いハロゲン化銀写真感光材料を提供すること。 - 特許庁

A pattern shape of a transverse rectilinear form covering the extraction pattern 17Aa and a pattern shape indicating a character 'OFF' are formed within the display area (on the inner side of an alternate long and two short dashes line f) of the liquid crystal display device by the sealing material S'.例文帳に追加

このシール材Ｓ’により、液晶表示装置の表示エリア内（二点鎖線ｆの内側）に引き出しパターン１７Ａａを覆う横一直線状のパターン形状と「ＯＦＦ」の文字を表すパターン形状とが形成される。 - 特許庁

To provide a method of forming a relief pattern in which a relief pattern having a fine line width and a large film thickness is efficiently, easily and securely formed with high precision, and to provide a relief pattern stuck base.例文帳に追加

線幅が微細であるとともに、膜厚が大きなレリーフパターンを高い精度で効率よく、簡便かつ確実に形成することができるレリーフパターンの形成方法及びレリーフパターン付着基材を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus for preventing an output of a pattern image which does not faithfully reproduce the width of a line composing the pattern image when the pattern image expressing information such as a bar code is outputted.例文帳に追加

バーコードなどの情報を表すパターン画像を出力する際に、該パターン画像を構成する線の幅を忠実に再現していないパターン画像の出力を未然に防止することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In conditions where a ready-to-win state is not formed by a first and a third patterns 21 and 23, patterns in each line are displayed in different stop sequence from a normal stop sequence (first pattern 21 → third pattern 23 → second pattern 22).例文帳に追加

第１，第３図柄２１，２３によるリーチ状態が形成されていない条件下で、各列の図柄を通常の停止順序（第１図柄２１→第３図柄２３→第２図柄２２）とは異なる停止順序で表示させる。 - 特許庁

To provide a pattern sewing machine which forms disruptive lines, which have a predetermined width in alignment with the sewing line of a pattern design, in a template negative plate such as pasteboard and can simply, quickly, and inexpensively create a template at time of sewing a pattern seam.例文帳に追加

厚紙等のテンプレート原板にパターン模様の縫製ラインに沿った所定幅を有する分断ラインを形成し、パターン縫目を縫製する際のテンプレートを簡単且つ迅速に、しかも安価に作成できるようにすることである。 - 特許庁

To decrease nonuniformity of an irradiation range or intensity distribution of light in projection exposure using a graded index lens array, to form a pattern having a uniform line width of the pattern or a smooth side wall, and to form a finer pattern.例文帳に追加

分布屈折率レンズアレイを用いた投影露光において、照射範囲や光強度分布の不均一性を低減し、パターンの線幅の均一化や側壁がスムーズなパターンの形成を可能とし、より微細なパターンをも形成可能にする。 - 特許庁

Each circuit board 2 has a mounting pattern part 6 for mounting the chip parts 5 and a notch part 7 entering the inside of the circuit board 2 from the division line 3 so as to correspond to the mounting pattern 6 arranged adjacent to the division line 3.例文帳に追加

各回路基板２は、チップ部品５を取り付けるための実装用パタン部６と、分割線３に近接して配された実装用パタン部６と対応する様に分割線３から回路基板２の内側に入る切欠部７とを有している。 - 特許庁

To provide a line width measuring method by which a line width can be measured by automatically detecting a pattern to be measured even if a pattern to be measured, among the patterns formed on a color filter board, is shifted on a pixel edge.例文帳に追加

カラーフィルタ基板に形成されたパターンのうち、測定対象であるパターンが画素端部上で移動した場合でも、測定対象であるパターンを自動検出して線幅を測定することを可能とする線幅測定方法を提供する。 - 特許庁

The system is equipped with a scanning electron microscope 30 for measuring a pattern line width in a vacuum chamber 20 for dry etching so as to carry out intermediate length measurement of a pattern line width while a dry-etched photomask substrate 10 is mounted in the vacuum chamber for dry etching.例文帳に追加

ドライエッチング用真空チャンバー２０にパターン線幅を測長する走査型電子顕微鏡３０を備え、ドライエッチングしたフォトマスク基板１０をドライエッチング用真空チャンバー内に載置した状態でパターン線幅を中間測長する。 - 特許庁