「line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The axial center line X of the trailing arm bush 40 is parallel to the vehicle width direction B.例文帳に追加

トレーリングアームブッシュ４０の軸心線Ｘは、車幅方向Ｂに平行である。 - 特許庁

HOT ROLLING METHOD AND FIXED APRON FOR WIDTH REDUCING DEVICE IN MIDDLE OF HOT ROLLING LINE例文帳に追加

熱間圧延方法および熱間圧延ライン途中の幅圧下設備の固定エプロン - 特許庁

That is, a space between the adjacent word lines is set half or below as long as the width (gate length) of the word line.例文帳に追加

すなわち、ワード線の間隔は、ワード線の幅（ゲート長）の１／２以下である。 - 特許庁

The line width of the first object is calculated as a parameter value for the first object.例文帳に追加

第１のオブジェクトの線幅を、第１のオブジェクトに対するパラメータ値として求める。 - 特許庁

To readily measure in distinction from local roughness, by stably measuring a line width.例文帳に追加

線幅を安定して計測し、局所的なラフネスと区別して簡便に測定する。 - 特許庁

First, the line width in a wafer plane after a lithographic step is measured (S1).例文帳に追加

先ず、フォトリソグラフィー工程の終了したウェハ面内の線幅が測定される（Ｓ１）。 - 特許庁

Accordingly, pattern line width variation occurring during the development process can be reduced.例文帳に追加

よって、現像段階で生じるパターン線幅変化を減少させることができる。 - 特許庁

A signal line pattern 15a is tapered from width dimensions W of a signal line 14a and is terminated (with width dimensions (w)) before reaching the end.例文帳に追加

信号線路パターン１５ａは、信号線路１４ａの幅寸法Ｗに対してテーパ状に狭くなる形状で、端部に至る手前で（幅寸法ｗ）で終端される。 - 特許庁

The width of a line-shaped overlap inspection mark pattern 2 in a second layer is set larger than the width of a line-shaped production pattern 1 in the second layer within a range from 0.85 μm-1.0 μm.例文帳に追加

ライン状の２層目の重ね合わせ検査マークのパターン２の幅を、ライン状の２層目の本番パターン１の幅より、０．８５μｍ〜１．０μｍの範囲で大きくする。 - 特許庁

A line width d_3 of the most tip part of this electrode drawing part 13 is made narrower than the line width d_2 of the base part of a display region side of this electrode draw-out part 13.例文帳に追加

その電極引き出し部１３の最先端部線幅ｄ３は、その電極引き出し部１３の表示領域側基端部線幅ｄ２より狭くされている。 - 特許庁

To provide a line width measuring apparatus and method which enable simple and quick measurement of the line width at measuring points (repeated pattern) of a substrate and a reticle.例文帳に追加

基板の各々の測定点（繰り返しパターン）における線幅の測定を短時間で簡単に行える線幅測定装置、線幅測定方法、およびレチクルを提供する。 - 特許庁

Gradation values of current line image data S51a and previous line image data S51b are converted to current pulse width data S52a and previous pulse width data S52b, then a difference value S53 is calculated by a subtracting section 53.例文帳に追加

現ライン画像データS51a及び前ライン画像データS51bの階調値は、現ラインパルス幅データS52a及び前ラインパルス幅データS52bに変換され、減算部53で差分値S53 が算出される。 - 特許庁

Then, the measured reduction amount of the film thickness is converted into the line width of the resist pattern under an existing processing condition by a correspondence function between the film thickness reduction amount and the line width.例文帳に追加

その後，その測定された膜厚減少量を，膜厚減少量と線幅との相関関数により，既存の処理条件時のレジストパターンの線幅に換算する。 - 特許庁

To provide a device and a method for processing image with which a bit map can be continuously generated even when a line width is narrower than the width of one scan line of an output device.例文帳に追加

線幅が出力装置の１スキャンライン幅よりも狭い場合にも連続したビットマップの生成を可能とした画像処理装置および画像処理方法を提供する。 - 特許庁

A one-dot-width-unoccupied longitudinal line interval dL in the one-dot-width longitudinal line images 54b_1 is made narrow therein stepwisely toward a left side to form a gradation to a high density.例文帳に追加

その場合、１ドット幅縦線画像５４ｂ_1での１ドット幅縦線間隔ｄＬが左方に向かって段階的に小さくされて高濃度への階調が形成される。 - 特許庁

1. Equipment that contains a minimum line width of plus/minus 3 sigma distribution within a range of plus/minus 5%, and that can achieve a minimum line width of 180 nanometers or less. 例文帳に追加

（一）　最小線幅のプラスマイナス三シグマの分布をプラスマイナス五パーセントの範囲に収め、かつ、一八〇ナノメートル以下の最小線幅を実現することができるもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

Thereafter, the width of a transfer line, corresponding to each dot arrangement pattern of the pattern transferred on the photosensitive agent, is measured to calculate the aberrations from the difference between the width of each transfer line.例文帳に追加

その後、感光剤に転写されたパターンの、各ドット配列パターンに対応する転写ラインの幅を測定し、各転写ラインの幅の差から、収差を算出する。 - 特許庁

A vernier 43 for reading the line width of the electrodes is formed on the organic film and a vernier 44 for reading the line width of the electrodes is formed on the inorganic film.例文帳に追加

有機膜上には、電極の線幅を読み取るためのバーニャ４３が形成され、無機膜上には、電極の線幅を読み取るためのバーニャ４４が形成されている。 - 特許庁

The width of a first electric power wiring corresponding to the first line of the delivering openings is made smaller than the width of a second electric power wiring corresponding to the second line of the delivering openings.例文帳に追加

そして、前記第１の吐出口列に対応する第１の電源配線の幅は、前記第２の吐出口列に対応する第２の電源配線の幅よりも狭くする。 - 特許庁

Further, a selection line changed in polarity and a selection line unchanged in polarity are made to differ in a time width of a gate-on period from each other.例文帳に追加

更に、ゲートオン期間の時間幅を極性の変化する選択ラインと変化しない選択ラインで変えるようにする。 - 特許庁

By moving the flat plate 20 in the line direction, uniform line patterning is made in the width of the linear beam converging spot 10.例文帳に追加

平板２０をライン方向に移動させると、ライン状集光スポット１０の幅に均質なラインパターンニングがなされる。 - 特許庁

To provide a resist composition that forms a pattern having good resolution, line width roughness, and line edge roughness.例文帳に追加

優れた解像度、ラインウィドゥスラフネス又はラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

If the electric resistivity/(line width × line thickness) that a tuning tape has is taken as γC(Ω/m), 1.8≤γC≤42 is met.例文帳に追加

チューニングテープが有する電気抵抗率／（線幅×線厚）をγ_Ｃ（Ω／ｍ）とするとき、１．８≦γ_Ｃ≦４２を満足する。 - 特許庁

To form a favorable line pattern when microfabricating width dimensions of a line and a space using a sidewall imprint technology.例文帳に追加

側壁転写技術を用いてライン及びスペースの各幅寸法を微細化した場合に、良好なラインパターンを形成する。 - 特許庁

The pattern 1 for line width measurement is composed of a plurality of tapered patterns 2 with their bases 3 arranged on one straight line 6.例文帳に追加

線幅測定用パターン１は、底辺３が一直線６上に配置された複数の先細りパターン２からなる。 - 特許庁

The virtual line is linear and the tip side slit 23 is formed into a prescribed width along the virtual line.例文帳に追加

この仮想線は直線状であって、先端側スリット２３はこの仮想線に沿って一定幅に形成されている。 - 特許庁

The line width of the main interconnect line part 24 is made narrower gradually from the one end 241 toward the other end 242.例文帳に追加

そして、主配線部２４の配線幅は、一端２４１から他端２４２へと徐々に狭まるように形成される。 - 特許庁

To secure the recognition accuracy of a character recognizing device by preventing the line width of the line segment, etc., of a character from becoming thin due to dropout.例文帳に追加

文字の線分等の線幅がドロップアウトにより細るのを防止し、文字認識装置の認識精度を確保する。 - 特許庁

In the sealing rib 13, rib height orthogonal to the virtual line and rib width along the virtual line are 3-5 mm and 3-7 mm, respectively.例文帳に追加

シーリングリブ１３は、仮想直線と直角なリブ高さが３〜５mm、かつ、仮想直線に沿ったリブ幅が３〜７mmである。 - 特許庁

The transmission line portion 12a is wider in line width in a region 12c adjoining the wiring portion 12b than in the other region 12d of the transmission line portion 12a.例文帳に追加

伝送線路部１２ａにおける配線部１２ｂと隣接する領域１２ｃの線幅は、伝送線路部１２ａの他の領域１２ｄの線幅より広い。 - 特許庁

To provide a thin line or character detection method capable of simply and accurately detecting a halftone thin line or character particularly having a line width of one pixel, from in an image.例文帳に追加

画像中から、中間階調の、特に１画素線幅の細線・文字を簡素且つ高精度に検出できる細線・文字検出方法を提供する。 - 特許庁

To reduce a frame size by determining the line width of a power bus line according to the current magnitude of the power bus line for supplying power to an organic EL element on a color basis.例文帳に追加

色毎の有機ＥＬ素子に電力を供給する電源バスラインの電流量に応じて、その線幅を決定し額縁寸法を小さくする。 - 特許庁

Processing of a necessary depth of the line is carried out with a preset value for processing by obtaining a line width and a line depth by calculation so that processing time can become minimized.例文帳に追加

ラインの必要な深さの加工を加工時間が最小となるように、ライン幅とライン深さを計算して求め加工の設定値として加工する。 - 特許庁

Consequently, a lower Roberval's straight line L1 is common, but a 1st Roberval's straight line L2 and a 2nd Roberval's straight line with a width D3 are positioned at upper parts.例文帳に追加

これにより下部ロバーバル直線Ｌ１は共通であるが、上部は第１ロバーバル直線Ｌ２と第２ロバーバル直線が幅Ｄ_3 をもって位置している。 - 特許庁

Further, the server feeds a line for the line document image 42 by a line feed width based on the display size of the client device and generates a document image 43 for display.例文帳に追加

さらに、サーバは、行文書画像４２をクライアント装置の表示サイズに基づいた改行幅で改行し、表示用文書画像４３を生成する。 - 特許庁

Line length of the second line 13 is formed shorter than a quarter of effective wavelength in an operation frequency and longer than a half of its line width.例文帳に追加

この第２の線路１３の線路長は動作周波数における実効波長の１／４よりも短く、かつ、その線路幅の１／２よりも長く形成されている。 - 特許庁

A similar selection menu is displayed by selecting the arc, which is changed in line width, line length, line kind, or color and thickness by selecting a size.例文帳に追加

アークを選択することにより、同様の選択メニューが表示され、サイズの選択によりアークの線幅、線長、線種あるいは色・濃度が変更される。 - 特許庁

An erasing width d_2 to be erased on a printed matter 500 by a head is larger than a line width d_1 by erasing ink (d_2>d_1).例文帳に追加

ヘッドにより印刷物５００上で消去される消去幅ｄ_2は、消色インクによる線幅ｄ_1よりも大きい（ｄ_2＞ｄ_1）。 - 特許庁

The total reflection confinement type waveguide 120 has the same or approximately the same width as the width of the line defect section 113.例文帳に追加

全反射閉じ込め型導波路１２０は、その幅が線欠陥部１１３の幅と同一又は略同一の幅を有している。 - 特許庁

A line width L is divided into three stages except the grid-shaped wiring, and a minimum space width Smin of each stage is previously specified so that the status of Lmax/(Lmax+Smin)≤Pmax can be satisfied relatively to a maximum line width Lmax of each stage.例文帳に追加

格子状配線以外については、ライン幅Ｌを３段階に分け、各段階の最大ライン幅Ｌmaxに対しＬmax／（Ｌmax＋Ｓmin）≦Ｐmaxを満たすように各段階の最小スペース幅Ｓminを予め規定しておく。 - 特許庁

Extraction width showing the width of a partial image to be extracted is set (S205), and an image is extracted with the extraction width from a center line in the current frame image X (S206).例文帳に追加

抽出する部分画像の幅である抽出幅を設定し（Ｓ２０５）、今フレーム画像Ｘにおいて、中心線から前記抽出幅で画像を抽出する（Ｓ２０６）。 - 特許庁

To normally execute access to a memory with specified bit width by sharing a control line even in the case of a data bus with bit width equal to or less than the specified bit width by simple structure.例文帳に追加

簡単な構成で所定のビット幅以下のデータバスであっても制御ラインを共有して所定のビット幅のメモリに対するアクセスを正常に実行させることである。 - 特許庁

The face line groove 3 is provided with a groove width enlarged part with a width wider than an opening width w on the face surface 2 on a cross section vertical to a groove longitudinal direction.例文帳に追加

フェースライン溝３は、溝長手方向に垂直な断面において、フェース面２における開口幅ｗよりも広い幅を有する溝幅拡大部分５を備えている - 特許庁

By detecting whether the line is good or defective and determining whether the defective line is shrunk or expanded, a coordinate position of each line can be accurately calculated even when the line width varies.例文帳に追加

ラインの良・不良を検出し、不良ラインの収縮・膨張の判定することによって、ライン幅にばらつきが生じた場合であっても、各ラインの座標位置を正確に算出する。 - 特許庁

The writing line 204 intersects the writing line 202 perpendicularly, and at least one of the writing line 202 or the writing line 204 has a smaller width than that of a MTJ cell 106.例文帳に追加

書き込み線２０４は、書き込み線２０２と直角に交わり、書き込み線２０２または書き込み線２０４のうちの少なくとも一つは、その幅がＭＴＪセル１０６の幅よりも小さい。 - 特許庁