line widthの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3395件
One layer is formed by plural times of exposure including high- resolution exposure using plural fine patterns (gate finger parts) and plural phase shift patterns (shifters) which are respectively arranged on both sides in the fine line width direction of the fine patterns and negate the interference of light by the phase difference of the light passing the same and ordinary exposure exclusive of the fine pattern points.例文帳に追加
複数の微細パターン(ゲートフィンガ部)と、当該微細パターンの微細線幅方向両側にそれぞれ配置され、透過する光の位相差により光の干渉を打ち消す複数の位相シフトパターン(シフタ)と用いた高解像度露光と、微細パターン箇所以外の通常露光とを含む複数回露光により一つの層を形成する。 - 特許庁
The adhesive seal capable of coloring is provided with an adhesive layer outer peripheral edges of which are formed by being fitted to an outer peripheral shape of a desired pattern, a colorant supporting layer formed on the adhesive layer and a contour line which is formed on a surface of the colorant supporting layer, defines contour lines of the pattern and has desired thickness and desired width.例文帳に追加
ぬり絵可能な粘着シールは、外周縁が所望の図柄の外周形状に合わせて形成された粘着層と、該粘着層の上に形成された着色材支持層と、該着色材支持層の表面に形成されていて図柄の輪郭を画成する輪郭線であって、所望の厚さ及び所望の幅を有する輪郭線とを備え - 特許庁
In addition, a surface side of the uppermost nonwoven fabric layer of the waterproof roofing member is provided with at least one of the center line 15 extending along longitudinal direction or construction reference lines 16 corresponding to the width of the ridge rafter, so that, by using them as reference, straight construction relative to the ridge rafter can be easily performed with reduced variations among operators.例文帳に追加
さらに、最上部の不織布層の表面側に、長手方向にわたって伸びる中心線15もしくは棟垂木の幅と対応する施工基準線16が少なくとも1本以上設けられているので、それらを基準として棟垂木に対しまっすぐに施工しやすくなり、作業者間のばらつきを抑えることが可能になる。 - 特許庁
To provide a dye-containing negative curable composition excellent in temporal stability after prepared and showing a small variation in pattern line width due to variation in exposure energy, a color filter excellent in hue and resolution and having a good pattern profile, and a method for producing a color filter by which the above color filter can be produced with high productivity (high cost performance).例文帳に追加
組成物作成後の経時安定性に優れ、かつ露光量変動によるパターン線幅変動の割合が小さい染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、色相及び解像力に優れ、パターン形状が良好なカラーフィルタ及び該カラーフィルタを高い生産性(高いコストパフォーマンス)にて作製し得るカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁
A transparent conductive film 11 and a conductive network 12 composed of a conductive material whose resistivity is lower than that of the transparent conductive film 11, having a line width of ≤50 μm and thickness of ≥200 Å and arrayed like a net use a transparent electrode substrate 1 laminated on a flexible transparent substrate 10 as at least one electrode.例文帳に追加
透明導電膜11と、透明導電膜11よりも抵抗率が小さい導電性材料からなる線幅が50μm以下であり、厚みが200Å以上である網目状に配列した導電ネットワーク12と、が可撓性透明基板10の上に積層された透明電極基板1を少なくとも一方の電極としている。 - 特許庁
To secure a low line by keeping the total height of an engine low while securing good operation of apparatuses and to improve compactness, versatility of the engine and sense of unity as the whole engine by making total length and total width of the engine short in the supercharged engine provided with apparatuses which are conventionally provided such as a supercharger, an intercooler.例文帳に追加
過給機やインタークーラ等、従来から備えられる機器類を具備する過給機付エンジンにおいて、これら機器類の良好な作動を確保しつつ、エンジンの全高を抑えてローライン化を図り、かつ、エンジンの全長・全幅も抑えることにより、エンジンのコンパクト化及び汎用性の向上を図るとともに、エンジン全体としての一体感の向上を図る。 - 特許庁
To provide a surface treatment agent and a resist composition for a freezing process being applied to the first resist pattern in a double patterning method and satisfying the requirements for preventing line width and LWR of the first resist pattern from fluctuating due to the freezing process and the formation of the second resist pattern and resist composition and to provide a pattern formation process by use of them.例文帳に追加
ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅及びLWRが変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤、レジスト組成物およびそれらを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To obtain a production method of a plate like part in which joining a wire joint for a plate like part and a peripheral frame is strengthened, a required external form line is obtained by cutting off with a cutting tool of a nipper, etc., a number of the wire joints to be cut is reduced and a wire joint width is easily changed by changing a NC program.例文帳に追加
板状部品及び周辺フレームに対するワイヤジョイントの結合強度が強化されると共にニッパ等の切断具で板状部品を切り離すだけで、必要な外形線が得られ、しかも切断を要するワイヤジョイントの数が少なく、NCプログラムの変更だけでワイヤジョイント幅を簡単に変更できる板状部品の加工方法を得るにある。 - 特許庁
In this apparatus, when the image is formed in such a manner that the image is recorded by scanning the sensitized material through the use of a light beam, the light beam has power at a level where a recording line width or a recording dot size, determined by a threshold value for blackening the sensitized material, is made almost constant even on the occurrence of the defocus.例文帳に追加
光ビームを感材に対して走査することにより画像を記録する画像形成に際して、前記光ビームを、前記感材が黒化するための閾値によって決まる記録線幅もしくは記録ドットサイズが、デフォーカスが生じた場合も略一定となるレベルのパワーとすることを特徴とする画像形成方法、およびこれを具体化した装置。 - 特許庁
The scanner 1 includes a light emitting section 2 for irradiation with a laser light, a light receiving section 3 for receiving the laser light which is not blocked, and a signal conversion element 4 for outputting a numerical signal corresponding to the quantity of the received light Fz, and is configured so as to move relative to the film roll 8 in the width direction parallel to its axial line.例文帳に追加
走査装置1は、レーザー光を照射する発光部2と、遮られなかったレーザー光を受光する受光部3と、受光した光量Fzに応じて数値化信号を出力する信号変換素子4とを含み、かつ、フィルムロール8に対してその軸線と平行に且つ幅方向に沿って相対的に移動可能に構成される。 - 特許庁
To provide an optical recorder equipped with a means for regulating the imaging spot and scanning line intervals on a photosensitive drum by a regulating mechanism which makes recording of images having different resolutions possible, is easy and has high tolerance without impairing an effective scanning width in a multibeam scanning optical system for performing optical recording by imaging a plurality of beams on the photosensitive drum and scanning the images.例文帳に追加
複数のビームを感光ドラム上に結像、走査し光記録を行うマルチビーム走査光学系において、有効走査幅を損ねることなく、異なった解像度を持つ画像を記録可能にし、しかも、平易で裕度の高い調整機構により感光ドラム上の結像スポット、走査線間隔の調整手段を備えた光記録装置を提供する。 - 特許庁
Further in this method of hanging the moldings pushed out from the opening in a line, and aligning the same on a chuter by natural drop, the chuter is composed of a member mounted adjacent to the obliquely formed opening part along its inclination angle in parallel with a width capable of hanging the moldings in a state that a larger part of the molding is upwardly faced.例文帳に追加
また、この前記開口部より押し出された当該成型物を一列に吊持し、自然滑落によりシューターへ整列する方法において、斜めに形成された前記開口部に添った傾斜角度で隣接に設置し、当該成型物の口径の大きい部分を上にして吊持できる幅に、平行に設置した部材で構成する。 - 特許庁
The narrow rod-shaped lateral fulcrum material 2a to become a linear shape on the eye line is provided across the ends 14, or the connecting parts between lenses 16a and ear pieces 13 of eyeglasses 12a and constituted to be retainable to a prescribed position between the lens lateral width of lenses 16a, and the lateral fulcrum material is so formed as to be upward rotatably stored to improve the usability.例文帳に追加
メガネ12aのレンズ16aと耳掛け13の接続部となる端部14に介設して、レンズ16a前方のレンズ横幅間に、目線上で直線形状となる細い棒状の横支点材2aを一定位置に保持可能な構成で設け、その横支点材を上方に回転収納自在とし使い勝手の向上を図る。 - 特許庁
A carrier re-coupling control layer, which controls recombination of carrier injected at wavelength control, is provided in an optical waveguide region for controlling a laser oscillation wavelength, eliminating conventional expansion of spectral line width caused by fluctuation in carrier or heating, delay of wavelength control and the like.例文帳に追加
本発明による半導体レーザ装置は、レーザ発振波長の波長制御を行う光導波領域内に波長制御する際に注入されるキャリアの再結合を制御するキャリア再結合制御層を設けたことにより、従来あったキャリアの揺らぎ、発熱などによるスペクトル線幅の広がり、波長制御の遅れなどをなくした。 - 特許庁
The liquid crystal display element is manufactured by sequentially performing a stage of preparing the cliche having a plurality of grooves differing in line width and depth, a stage of charging resist in the plurality of grooves, a stage of transferring the resist charged in the plurality of grooves to a roller, and a stage of transferring the resist pattern transferred to the roller onto a substrate.例文帳に追加
線幅及び深さの互いに異なる複数の溝を有するクリシェを用意する段階と、前記複数の溝にレジストを充填する段階と、前記クリシェに充填されたレジストをローラに転写させる段階と、前記ローラに転写されたレジストパターンを基板上に転写させる段階と、を順次行うことで液晶表示素子を製造する。 - 特許庁
In the exposure mask 1 where a doughnut pattern 3 and a plurality of long patterns 5 are provided on a thin film membrane 2 as an opening-like exposure pattern, a crosslinking pattern 7 thinner than the minimum line width of the doughnut pattern 3 and the long patterns 5 is stretched across the opposite sides at the opening part of the doughnut pattern 3 and the long patterns 5.例文帳に追加
薄膜状のメンブレン2に開口状の露光パターンとしてドーナツパターン3および複数の長尺パターン5が設けられている露光マスク1であり、ドーナツパターン3および複数の長尺パターン5の開口部の対向辺間に、ドーナツパターン3および各長尺パターン5の最小線幅よりも細い線幅の架橋パターン7を掛け渡してなる。 - 特許庁
The movable shade 30 is installed in free rotation around a rotational axis line extended in a car width direction in the vicinity of a lens center axis Ax, and the actuator 20 gives driving force to an end of a rod member 40 with the other end coupled with the movable shade 30 in a length direction through an operation direction changing mechanism 50 to rotate the movable shade.例文帳に追加
可動シェード30は、レンズ中心軸Ax近傍において車幅方向に延びる回動軸線回りに回動可能に設けられ、アクチュエータ20は、可動シュード30に一端が連結されたロッド部材40の他端に対し、動作方向変換機構50を介して長手方向に駆動力を付与し、可動シェード30を回動させる。 - 特許庁
To provide a pattern forming material having good strippability, excellent in resolution and tenting property, excellent also in developability, and ensuring little change in resist line width, profile, etc., irrespectively of a change in development time (large development latitude), and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加
剥離性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、現像時間が変化してもレジストの線幅、プロファイルなどの変化が少ない(現像ラチチュードの広い)パターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a heat developable image recording material having low fog, high sensitivity and high Dmax, excellent in contrast and development humidity dependence (that is, low humidity dependence of the line width of letters in development) and optimum for a photomechanical process as a heat developable image recording material for a photomechanical process and particularly for a scanner and an image setter.例文帳に追加
写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター用熱現像画像記録材料において、カブリが低く、感度およびDmaxが高く、かつ硬調性および現像湿度依存性に優れた(すなわち、文字線幅の現像時の湿度依存性の小さい)、写真製版用途に最適な熱現像画像記録材料を提供すること。 - 特許庁
The diffractive optical elements 4 also have a diffraction grating pattern formed to provide a constant width of ultraviolet rays on each of an incident surface 41 and an outgoing surface 42 for ultraviolet rays radiated from the plurality of LED modules 1 such that ultraviolet rays radiated to the irradiation object 5 are in a line elongated in the direction of arrangement of the plurality of LED modules 1.例文帳に追加
さらに、回折光学素子4は、照射対象5に照射される紫外線が複数のLEDモジュール1が並んでいる方向に細長くライン状になるように、複数のLEDモジュール1から放射された紫外線の入射面41および出射面42の各面に紫外線の幅を一定にする回折格子パターンが形成されている。 - 特許庁
A fluid for roadworks is applied on a road through the opening sections 98 of a conductive plate 94 in a roadwork device, and the device is constituted of a regulator capable of adjusting the line width and layer thickness of the fluid for the roadworks applied on the road by adjusting the quantity of the fluid for the road works passing through the opening sections passed in a form of the opening sections.例文帳に追加
道路工事用流体を導通板94の開口部98を通して道路に塗布する道路工事装置であり、開口部を通る道路工事用流体の通過量を該開口部の形で調節することによって、道路に塗布する道路工事用流体の線幅および層厚を調整出来る調節装置で構成した。 - 特許庁
To provide a pattern forming material having good strippability, excellent in resolution and tenting property, excellent also in developability, and ensuring little change in the line width and profile of resist even if developing time is varied (large development latitude), and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加
剥離性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、現像時間が変化してもレジストの線幅、プロファイルなどの変化が少ない(現像ラチチュードの広い)パターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a highly reliable wiring board including a highly reliable conductor pattern with a stable line width, for which generation of cracks, disconnection and a short-circuit or the like is prevented, to provide a ceramic compact suitably usable in manufacturing of the wiring board, and to provide a manufacturing method capable of efficiently manufacturing the wiring board.例文帳に追加
クラック、断線、ショート等の発生が防止された、線幅の安定した信頼性の高い導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板を提供すること、前記配線基板の製造に好適に用いることのできるセラミックス成形体を提供すること、また、前記配線基板を効率よく製造することのできる製造方法を提供すること。 - 特許庁
The line width of a light source is expanded by (1) introducing incoherence property between the polarization state (by introducing time delay into one of the signal paths in a polarization state) and (2) introducing a frequency shift between the polarizing state (by providing an acoustic optical modulator(AOM) within the signal path of the remaining polarization state).例文帳に追加
光源のライン幅の拡幅は、(1)(一方の偏波状態の信号路内に時間遅延を導入することで)偏波状態の間にインコヒーレンス性を導入すること、および(2)(残りの偏波状態の信号路内に音響光変調器(AOM)を設けることで)偏波状態の間に周波数シフトを導入することで達成される。 - 特許庁
To provide a surface treatment agent for a freezing process being applied to the first resist pattern in a double patterning method and satisfying the requirements for preventing line width and LWR of the first resist pattern from fluctuating owing to the freezing process and the formation of the second resist pattern, and also to provide a pattern formation method by use of it.例文帳に追加
ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅とLWRが変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれおよびそれを用いたパターン形成方法を提供すること - 特許庁
The line width of at least one of the common electrode and the pixel electrode is larger than an interval between the common electrode and the pixel electrode, and the film thickness of at least one of the common electrode and the pixel electrode is larger than that of at least one of the scanning signal lines and the video signal lines.例文帳に追加
前記共通電極及び前記画素電極の少なくとも何れか一方の線幅は、前記共通電極と前記画素電極との間の間隙よりも大きく、かつ、前記共通電極及び前記画素電極の少なくとも何れか一方の膜厚は、前記走査信号線及び映像信号線の少なくとも何れか一方の膜厚よりも大きい。 - 特許庁
A plurality of product parts 12, etc. are provided on a sheet to be blanked 11 in an arrangement in the lateral and the longitudinal directions, and a number of blanking pins P, etc. are installed on straight lines L, L', L", etc. parallel with a virtual reference line X stretching across the width of the sheet 11 viewed on the plan.例文帳に追加
複数の製品部12…が幅方向及び前後方向に並んで配設された被打ち抜き用シート11と、被打ち抜き用シート11から上記製品部12とカス部13とを分離するように、平面視、被打ち抜き用シート11の幅方向に対して平行な仮想基準線Xに平行な複数の直線L,L′,L″…上に各々多数の打ち抜きピンP…を配設する。 - 特許庁
To provide a mold for continuous casting having simple structure which shortens stop time till reoperating a continuous caster after changing a short-side mold on line and is clamped by a long-side mold at a moving side with a suitable clamping force, and to provide a method for changing the short- side mold and a method for changing the width of a cast slab using the same.例文帳に追加
オンラインで短辺鋳型を交換した後、連続鋳造機を再稼動させるまでの停止時間を短くすることが可能で、適正なクランプ力で移動側長辺鋳型によりクランプすることができる構造が簡単な連続鋳造用鋳型、その短辺鋳型の交換方法およびそれを用いた鋳片の幅変更方法を提供する。 - 特許庁
The greened parking lot presents an excellently beautiful scenery where geometric patterns by alternately arraying upper surfaces of three pieces of in-line tire-supporting bars 4, 4, 4 disposed each at a mutual interval of 10 cm and lawn 8 planted among the bars in a belt-like state with 10 cm width, are formed in a longitudinal direction corresponding to a loading/unloading direction in the rectangular parking area.例文帳に追加
長方形の駐車エリアの入出庫方向である長手方向に10cmの相互間隔で配列された3本一列のタイヤ支持バー4,4,4の上面と、その間に幅10cmの帯状に植え込まれた芝生8とが交互に並んだ幾何学模様を形成するため、緑化駐車場として優れた美観が得られる。 - 特許庁
At this time, the mixture feeding part 407 is formed of a trunk pipe 471 connected to a blower 1 for a solid transfer air lift and plural branch pipes 412 provided by branching off from the trunk pipe 471, and the plural branch pipes 412 are provided in a line in the width direction of the solid-liquid separator 400 (the direction perpendicular to the oscillating direction) at prescribed spaced intervals.例文帳に追加
このとき,混合物投入部470は,固体物移送エアーリフト用ブロア302に接続された幹管471,該幹管471から分岐して設けられた複数の枝管472により形成し,複数の枝管472は固液分離装置400の幅方向(揺動方向に直交した方向)に所定間隔で列設する。 - 特許庁
The exposure control part 150 performs first correction of adjusting a light emission time of the semiconductor laser element 51 for each dot by modulating the width of the pulse signal to correct density in a main scanning direction and second correction of further correcting the light emission time of the semiconductor laser element 51 about predetermined dots in each block obtained by dividing the main scanning line into a plurality of pieces.例文帳に追加
そして、露光制御部150は、パルス信号の幅を変調することにより半導体レーザー素子51の発光時間をドット毎に調整して主走査方向での濃度を補正する第1補正と、主走査ラインを複数に分割した各ブロックで、所定ドットについて半導体レーザー素子51の発光時間をさらに補正する第2補正とを行う。 - 特許庁
The output conductors of a region where the heat conducted from the circuit element 50 in the wiring material 4 is difficult to emit among many output conductive wires 62 are made to serve as output conductive wire 62a for thermal conduction control each with a part of a line width thinner than that of other output conductive wire in a domain where the output conductive wires do not overlap with the electric load.例文帳に追加
そして、多数の出力導線62のうち、配線材4において回路素子50から伝わる熱が放出されにくい領域の出力導線を、出力導線が電気的負荷と重ならない領域で、他の出力導線よりも細い線幅の部分を有する熱伝導抑制用の出力導線62aとした。 - 特許庁
When the embroidery structure of embroidery patterns is constituted in such a way that image are displayed by a plurality of band-like scanning line patterns L placed parallel with each other, the pattern L contains a series of stitches S and T inclined to the band width direction in the same direction in an angle range between >0° and <90°.例文帳に追加
本発明の刺繍柄の刺繍構造は、平行に配された複数の帯状の走査線柄Lによって画像を表現した刺繍柄の刺繍構造において、走査線柄Lは、その帯幅方向に対して同一方向に0°より大きく90°より小さい範囲内で傾いた一連のステッチS,Tを含むことを特徴とする。 - 特許庁
In this case, a direction (a connection line direction) in which the back conductor pattern CP2 is connected is the X direction and when attention is paid to a Y direction orthogonal to (intersecting with) the X direction, the width of the back conductor pattern CP2 in the Y direction is smaller than those of the back terminals TEPa, TEPb in the Y direction.例文帳に追加
このとき、裏面導体パターンCP2の接続方向(接続線方向)がX方向となっており、このX方向と直交する(交差する)Y方向に着目すると、裏面導体パターンCP2のY方向の幅は、裏面端子TEPaのY方向の幅や裏面端子TEPbのY方向の幅よりも小さくなっている。 - 特許庁
The dual mode band pass filter 1 has a rectangular ring shaped metallic film 3 formed on one side or in the inside of a dielectric substrate 2, a couple of input/output coupling circuits 5, 6 is coupled with the rectangular ring shaped metallic film 3 and the plane shape and the line width of the rectangular ring shaped metallic film 3 are configured to couple two generated resonance modes.例文帳に追加
誘電体基板2の一方面または内部に形成された矩形リング状金属膜3を有し、矩形リング状金属膜3一対の入出力結合回路5,6が結合されており、矩形リング状金属膜3の平面形状及び線幅が、発生する2つのモードの共振を結合し得るように構成されているデュアルモード・バンドパスフィルタ1。 - 特許庁
The SOI wafer 1 consists of a support substrate 11 of a CZ (Czochralski zone) wafer, a separated oxide film 12 having an opening 4 narrower than a blade width within a dicing line 2 on this support substrate 11, a silicon active layer 13 arranged on the separated oxide film 12, and a connection part 14 formed of silicon which buries the opening 4 to connect with the active layer 13.例文帳に追加
SOIウェハ1は、CZウェハの支持基板11と、この支持基板11上にダイシングライン2内でブレード幅より狭い開口部4を有する分離酸化膜12と、分離酸化膜12上に配置されるシリコンの活性層13と、開口部4を埋め、活性層13と接続するシリコンで形成された接続部14とで構成される。 - 特許庁
A side-region operation allowing range 16c selected when the revolving position of a revolving frame is in the right or left side region of the vehicle 1 and at least either of the outriggers in the front and back contributing to the safety of the side region has a projection width below a given one, is set with a working platform height limiting line P.例文帳に追加
旋回台の旋回位置が車両1の右または左側方領域にあり且つ当該側方領域の安定性確保に寄与する前後のアウトリガの少なくともひとつが所定の張り出し幅未満であるときに選択される側方領域作動許容範囲16cを、作業台高さ制限線Pを備えたものとして設定する。 - 特許庁
To provide a method for forming film pattern which makes it possible to control the line width of a pattern as desired particularly when the pattern having a thick film is formed and, thereby realizing fine pattern and high definition pattern, and to provide a conductive film wiring, an electro-optical device, an electronic appliance and a non-contact card medium obtained by the method for forming film pattern.例文帳に追加
特に膜厚が厚いパターンを形成するにあたって、そのライン幅を所望通りに制御できるようにし、これによってパターンの微細化、高精細化を可能にした膜パターンの形成方法と、この形成方法によって得られる導電膜配線、電気光学装置、電子機器、及び非接触型カード媒体とを提供する。 - 特許庁
A tub line 3 is formed recesses and protrusions 21, in which a plurality of recesses and protrusions continuing over a longitudinal direction are alternately provided in a width direction, on back and front surfaces, and one end of the recesses and protrusions 21 is connected with a bus bar electrode 11 which is a surface electrode, and an other end is connected with a back electrode 13, both through an adhesive resin material.例文帳に追加
タブ線3は、表裏両面に、それぞれ長手方向に亘って連続する複数の凸部及び凹部が幅方向に交互に設けられてなる凹凸部21が形成されており、その一端が表面電極であるバスバー電極11と、その他端が裏面電極13とそれぞれ接着性樹脂材を介して接続されている。 - 特許庁
The cap includes a side wall and an end wall, and the slot in the end wall of the cap has width and height such that the slot 40 engages the insulating electric wire in the opening of the blade and positions it in a longitudinal direction, and therefore, the blade is bored to form an electric contact with a core line in the insulating electric wire when the cap is completely pressed to the blade.例文帳に追加
キャップは、側壁と端壁とを含み、キャップの端壁内のスロットは、キャップをブレードに完全に押しつけたときに、スロット40が絶縁電線をブレードの開口部内に係合させてこれを長手方向に位置合わせし、それによりブレードが穿孔して絶縁電線の中の芯線との電気的接触を形成するような、幅及び高さを有する。 - 特許庁
In the slot antenna 10, although power is fed to the radiation conductor layer 13 in the vicinity of the slot 12 via the feeding line 14 to be able to excite the slot 12, since the width of the slot 12 is widened at the closing end in a magnetic field region (maximum current region), the path length of a current is increased to lower the resonance frequency.例文帳に追加
このスロットアンテナ10は、給電ライン14を介してスロット12近傍の放射導体層13に給電することにより、スロット12を励振させることができるが、スロット12の幅寸法が磁界領域(電流最大領域)である閉端部で拡幅されているため、電流の経路長が増大して共振周波数が低くなる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a color filter in which a fine pattern can be formed with high accuracy by uniformizing the luminous energy in two-dimensionally distributed picture drawing units, in particular, a black image can be formed with high definition and extremely little variance in the line width, and to provide a color filter having excellent display characteristics, and a display apparatus using the color filter.例文帳に追加
2次元的に分布した各描画単位の光量を均一化することにより、微細なパターンを高精度に形成可能であり、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、高精細に形成可能なカラーフィルタの製造方法、及び表示特性に優れたカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを用いた表示装置を提供する。 - 特許庁
The dummy pattern 3 is arranged while folded in a rectangular wave shape to the line width of a conventional linear pattern and then the peeling load of the dummy seal 3 per unit area of a glass is improved to obtain the large effect that a serious defect which is seal peeling is hardly caused in a process of cutting the stuck glass to a panel individual piece size.例文帳に追加
また、ダミーパターン3を従来の直線パターンの線幅で矩形波状に折り曲げて配置することにより、ガラスの単位面積当たりのダミーシール3の剥離荷重が向上し、貼り合わせガラスをパネル個片サイズに切断する工程において、シール剥離という重大欠陥を誘発しにくくなるという効果も多大と成りうる。 - 特許庁
In this line sensor, two photodiode parts 21a and 21b having 100 μm widths (Wa and Wb), respectively, are provided adjacently with a small gap G between the photodiode parts 21a and 21b, and charge transfer device CCDs 24a and 24b corresponding to the respective photodiode parts 21a and 21b are also provided outside the photodiode parts 21a and 21b in respective width directions.例文帳に追加
夫々100μmの幅(Wa、Wb)を有する2つのフォトダイオード部21a、21bが微小キャップGをおいて近接して設けられると共に、夫々のフォトダイオード部21a、21bに対応する電荷転送デバイスCCD24a、24bがフォトダイオード部21a、21bの夫々の幅方向の外側に設けられてなるラインセンサ。 - 特許庁
The air sac 1 is furnished with an air impermeable tube 6 and a pair of reinforcing members arranged linearly-symmetrically with a width central line CL as a symmetrical axis on a part A where an outer surface of the tube 6 makes contact with a rim 3 or the tire 2 in a state where the air sac 1 is expanded by filling air in the sac and the tire 2.例文帳に追加
空気のう1は、空気不透過性のチューブ6と、空気のう1及びタイヤ2に空気を充填して空気のう1を膨らませた状態にて、チューブ6の外面がリム3又はタイヤ2と接触する部分Aに、その幅中心線CLを対称軸として線対称に配設された一対の補強部材7とを具える。 - 特許庁
To provide a method for producing a color filter which allows formation of a black image with less unevenness in the line width and high definition using a suitable photosensitive composition without using a photomask, and which ensures lower cost and superior display properties, and a color filter excellent in display properties produced by the method and a liquid crystal display that uses the color filter.例文帳に追加
フォトマスクを用いず、好適な感光性組成物を用い、ブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、高精細に形成でき、低コスト、かつ表示特性に優れたカラーフィルタの製造方法、及び該製造方法により製造される表示特性に優れたカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを用いた液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁
The manufacturing method of the semiconductor device includes a process to remove an organic substance from a semiconductor region, a process to remove an oxide film formed on a surface of the semiconductor region, and a process to dry without using an organic solvent as a drying treatment, before the silicide layer is formed at the semiconductor region with a line width of 50nm or less.例文帳に追加
50nm以下の線幅の半導体領域にシリサイド層を形成する前に、前記半導体領域から有機物を除去する工程と、前記半導体領域表面に形成された酸化膜を除去する工程と、乾燥処理として有機溶媒を用いない乾燥を行う工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁
To provide an image recording system, an image recording method, a conversion apparatus and a conversion method by which a printed wiring pattern with a desired line width can be drawn on a substrate in an exposure apparatus without carrying out an electron variable magnification process on raster data rasterized with predetermined resolution, that is, without carrying out an electron variable magnification process on digital data.例文帳に追加
所定の解像度でラスタライズされたラスターデータに電子変倍処理、つまり、デジタルデータに電子変倍処理を実施することなく、露光装置において、基板上に所望の線幅を有するプリント配線パターンを描画することができる画像記録システム、画像記録方法、変換装置および変換方法を提供することにある。 - 特許庁
Since laser beams can be irradiated in both the longitudinal direction of the laser beam source unit 10 and the direction orthogonal thereto, a laser beam machining apparatus can be installed without any running-out of the workpiece in the width direction with respect to a conveying line L even when the printing is performed on either the top face or the side face of a workpiece W.例文帳に追加
そのため、レーザ光をレーザ光源ユニット10の長手方向並びにこれと直交する方向のいずれの方向へも照射出来るから、ワークWの上面或いは側面のいずれの面に印字等する場合であっても搬送ラインLに対して幅方向の飛び出しなく同レーザ加工装置を設置することが出来る。 - 特許庁
When the camera movement projection is executed, the arithmetic section can calculate the zoom amount on the basis of a lateral width Sx calculated from the designated screen size S on the basis of the aspect ratio, the projection distance L, and an intersection distance V3x between a center line CLx of the pixel region 12 in the horizontal direction and an image forming region 12b.例文帳に追加
一方、あおり投写を行っている場合は、指定された画面サイズSからアスペクト比に基づいて算出した画面の横幅Sx、投写距離L、及び画素領域12aの水平方向の中心線CLxと画像形成領域12bとの交点間距離V3xからズーム量を算出することができる。 - 特許庁
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