「line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(64ページ目) - Weblio英語例文検索

A new phase compensated 180° rat race hybrid type power distributor can improve the RF.LO isolation on wide band width by adding a short transmission line 11 and a capacitor 10 (or resistor) of a low value to the topology of a conventional 180° rat race hybrid device and is allowed to be simply assembled.例文帳に追加

新しい位相補償１８０度ラットレースハイブリッド型電力分配器は、従来の１８０度ラットレースハイブリッド装置のトポロジー上に、短い伝送路１１と、値の低いコンデンサ１０（または抵抗器）を加えることにより、広い帯域幅上でミキサーのＲＦ・ＬＯアイソレーションを向上させると共に、簡単に組み立てられる。 - 特許庁

To provide an interlayer insulating resin film suitable for manufacturing a printed wiring board that has conductor circuits made high in density without making a wiring width small and also has superior inter-line and interlayer insulation and connection reliability between the conductor circuits in order to provide the printed wiring board having the conductor circuits made high in density.例文帳に追加

導体回路の高密度化されたプリント配線板を提供するために、配線幅を小さくすることなく導体回路を高密度化し、かつ線間と層間での導体回路間の絶縁性および接続信頼性に優れたプリント配線板の製造に適した層間絶縁樹脂フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a technology for controlling the presence of laser oscillation oscillating from a liquid crystal cell by applying any external stimulus other than temperature or pressure to a cholesteric liquid crystal, and changing the array status of liquid crystal molecules in a liquid crystal cell, and to provide a laser oscillation technology for applying a sharp spectrum whose spectral line width is small.例文帳に追加

コレステリック液晶に、温度や圧力以外の外部刺激を与えて、液晶セル中の液晶分子の配列状態を変化させ、液晶セルから発振されるレーザー発振の有無を制御する技術を提供すること、スペクトル線幅の小さいシャープなスペクトルを与えるレーザー発振技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition that can be preferably used in an ultra-micro lithography process such as manufacture of an ultra LSI and a high-capacity microchip and the other photo-fabrication and is superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

In the grating in which both ends of many respective members 2 are welded to inner faces 4, 4 facing end plates 1, 1 in which a welded protruding line 6 projecting at the inner face 4 side are formed in cold work at an intermediate position in the vertical width direction of a plate main body 1a along the longitudinal direction of the plate main body 1a.例文帳に追加

エンドプレート１・１の対向する内面４・４に多数の各メインバー２の両端が溶接されたグレーチングにおいて、各エンドプレート１は、プレート本体１ａの上下幅方向の中間に、内面４側に突出する溶接突条６が、プレート本体１ａの長手方向に沿って冷間加工で形成されている。 - 特許庁

To broaden the working width for the settling of topdressing sand scattered on a lawn by vertically movably suspending a main frame from a running machine body and by equipping the machine body with right and left rockable redistribution members for traversing bristle tips of brushes in right and left directions by a preferred stroke while adjusting bearing pressures of the brush extending in right and left directions with respect to the line.例文帳に追加

走行機体に昇降可能にメインフレームを吊設し、該メインフレームに進行方向に対して左右に伸延するブラシの毛先を接地圧を調整しつつ左右に所定量往復動させる揺動すり込み部を左右に並設し、芝生上にまかれた目砂を芝内にすり込ませる作用幅を広くする。 - 特許庁

The inspection device 15 of the rolling roll flaw is installed on a run-out table behind a cooling zone 12 between the final stand of the finish rolling machine 11 of a hot rolling line and the pinch roll 13 before a down coil 14 and its floodlight projection part emits light to the surface to be inspected by an inspection target obliquely in the width direction of the inspection target.例文帳に追加

熱延ラインの仕上げ圧延機１１の最終スタンドとダウンコイラ１４前のピンチロール１３との間の、冷却帯１２の後のランナウトテーブル上に、圧延性ロール疵検出装置１５を設置し、その投光部は、被検査体の幅方向斜めより被検査体の検査対象面上に光を照射する - 特許庁

The initial resist pattern 22 in the lattice shape is anisotropically etched by using a method for plasma etching etc., to form a lattice-shaped resist pattern 23 which is reduced in line width and further the plasma etching is carried on to form a resist pattern 24 in a pillar shape and a pillar-shaped resist pattern 25 of desired shape at an intersection part.例文帳に追加

プラズマエッチングなどの手法を用いて、格子状の初期レジストパターン２２を等方的にエッチングし、線幅が縮小された格子状レジストパターン２３を、さらに、プラズマエッチングをさらに進め、交点部にピラー形状のレジストパターン２４及び所望の寸法のピラー形状レジストパターン２５を形成する。 - 特許庁

Capacitor conductor patterns 3, 4 are composed of large areas 11, 21 arranged in a line in a lengthwise direction (Y direction) of a ceramic green sheet 2; narrow areas 12, 22; and small width portions 13, 23 arranged between the portions 11, 21 and the portions 12, 22 to connect the portions 11, 21 to the portions 12, 22, respectively.例文帳に追加

コンデンサ導体パターン３，４はそれぞれ、セラミックグリーンシート２の長さ方向（Ｙ方向）に一列に配置された大面積部１１，２１と、小面積部１２，２２と、大面積部１１，２１および小面積部１２，２２の間に配置されて大面積部１１，２１と小面積部１２，２２を繋ぐ幅狭部１３，２３とからなる。 - 特許庁

To provide a gate line driving circuit which adjusts a pulse width of a scanning signal to reduce a phenomenon of variation in liquid crystal applied voltage during gate pulse application to a front stage and adjust the scanning frequency of a non-display part by a partial display function intending to reduce power consumption.例文帳に追加

本発明は、前段のゲートパルス印加時において液晶印加電圧が変動してしまう現象を低減するために走査信号のパルス幅が調節可能であり、低消費電力化を目的としたパーシャル表示機能で非表示部の走査頻度を調節可能なゲート線駆動回路を提供することにある。 - 特許庁

To make the pulse width of a scanning signal Yi not become short even if a selection signal Sel-i delays to an instruction signal yINH, in an output limiting circuit 134 which permits or prohibits the scanning signal Yi from becoming H level showing selection of a scanning line 112 according to the instructions signal yINH.例文帳に追加

走査信号Ｙｉが走査線１１２の選択を示すＨレベルとなることを、指示信号ｙＩＮＨにしたがって許可または禁止する出力制限回路１３４において、選択信号Ｓｅｌ−ｉが指示信号ｙＩＮＨに対し遅延しても、走査信号Ｙｉのパルス幅が短くならないようにする。 - 特許庁

To provide printing systems improved so that runtime variation in scan swath width and scan line spacing is allowed to mitigate or eliminate stitching errors and other problems without requiring adjustment of a photoreceptor velocity, and to provide multiple beam raster output scanners (ROSs) therefor.例文帳に追加

走査スワス幅と走査線間隔との運転時変化が可能となり、その結果、感光体速度の調整を必要とせずにステッチエラーおよび他の問題を軽減したり、または取り除いたりすることができる改良された印刷システムと、それらの印刷システム用の多重ビームラスタ出力スキャナ（ＲＯＳ）と、を提供する。 - 特許庁

A head part 30 radiates a line focus beam to the subject 2 to generate lateral waves polarized in a rolling direction or lateral waves polarized in a width direction inside, and introduces a second laser beam to a second prescribed position in the subject 2 to which each lateral wave reaches to obtain the second laser beam reflected.例文帳に追加

ヘッド部３０は、ラインフォーカスビームを測定対象物２に照射することによりその内部に圧延方向偏波横波又は幅方向偏波横波を発生させると共に、各横波が到達する測定対象物２の所定位置に第二レーザビームを導き、そこで反射した第二レーザビームを取得する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which is excellent in roughness performance such as line width roughness, local pattern dimension uniformity, and exposure latitude and capable of suppressing reduction in film thickness (so-called film reduction) at a pattern portion formed by development, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition used in the method, and a resist film.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。 - 特許庁

Whether or not the read video data of a top line of the white reference board is discriminated when a level of the read data is higher the reference value Th and the level is consecutive over a range between the positions A, B that is a width setting for the white reference board in the main scanning direction or over.例文帳に追加

読み取ったビデオデータが、白基準板の先頭ラインのデータであるか否かの判断は、基準値Ｔｈより読み取りデータのレベルが高く、かつ、そのレベルが主走査方向の白基準板の幅設定になっているＡ，Ｂ間の範囲以上に連続したときには、白基準板の先頭ラインのデータであるとする。 - 特許庁

An inclination angle α of a straight line passing through the upper point Pb and the lower point Pc to the tire axial direction is 60-80°, and a radial distance Lbc between the upper point Pb and the lower point Pc is 0.15-0.40 times of a radial distance LO between the tire maximum width point Pm and the tread end Pt.例文帳に追加

前記上点Ｐｂと下点Ｐｃとを通る直線の、タイヤ軸方向に対する傾き角度αを６０〜８０°、かつ前記上点Ｐｂと下点Ｐｃとの間の半径方向の距離Ｌｂｃを、タイヤ最大巾点Ｐｍとトレッド端Ｐｔとの間の半径方向の距離Ｌ０の０．１５〜０．４０倍とした。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using a high energy beam, X-ray, electron beam or EUV light and satisfies high sensitivity, high resolution, good line width roughness and process margin at the same time, and a developer used for the method.例文帳に追加

本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding material with a pattern line width further miniaturized to prevent moire even if a contrast improving layer is also used when the material is used for a front filter for display where electric resistance is low irrespective of the miniaturization and permeability is prevented from being deteriorated due to the scumming of a pattern opening.例文帳に追加

ディスプレイ用前面フィルタに用いるときにコントラスト向上層を併用してもモアレが出ないよう、パターンの線幅をより一層微細化した電磁波シールド材であって、そのように細線化しても低い電気抵抗であり、かつパターン開口部の地汚れによる透過率の低下がない電磁波シールド材を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition enabling a pattern to be formed, the pattern having improved line width roughness, remedied development defects and pattern collapse and exhibiting good conformability to an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス、現像欠陥並びにパターン倒れが改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which, in double patterning, can form a second resist pattern while retaining a first resist pattern without dissolving the first resist agent in the second resist agent, and which can suppress a line width variation of the first resist pattern and is suitably adopted even for a liquid immersion exposure process.例文帳に追加

ダブルパターニングにおいて、第二のレジスト剤に第一のレジスト剤が溶解することなく、第一のレジストパターンを保持したまま第二のレジストパターンを形成することができ、更には第一のレジストパターンの線幅変動を抑制することができ、液浸露光プロセスにも好適に採用されるレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a simply structured substrate exposure apparatus capable of reducing variations in a gap between a substrate to be exposed and a photomask, at a proximity exposure without having to prepare special peripheral equipment for correcting the deflection, thereby attaining reduction in the variations in the line width and the film thickness of a pattern formed on the substrate to be exposed.例文帳に追加

構造が単純であり、撓み補正に特別な周辺機材を準備することなく、被露光基板とフォトマスクとの近接露光時のギャップのバラツキを低減させ、それにより被露光基板に形成されるパターンの線幅、膜厚バラツキの低減を図ることを可能とする基板露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation sensitive resin composition superior in line width roughness (LWR), depth of focus (DOP) and pattern profile, so as to more stably form a high-precision minute pattern for manufacturing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(ＬＷＲ)、フォーカス余裕度(ＤＯＦ)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Width of the original to be read for every one line period is held constant and the color shift and the deviation of the copied image are prevented by defining a correction coefficient [cosθ] using the derived inclination angle θ and conveying the original at corrected speed to be calculated by multiplying default conveyance speed of the original by the correction coefficient [cosθ].例文帳に追加

導出された傾き角度θを使用して補正係数[ｃｏｓθ]を定義し、原稿のデフォルト搬送速度に補正係数[ｃｏｓθ]を乗じて求められる補正速度で原稿を搬送することよって、１ライン周期当たりに読み取られる原稿の幅が一定に保持され、複写画像の色ズレやゆがみが防止される。 - 特許庁

The scanning type display device control circuit includes a pin-pon-buffer, a data storage controller, a line scanning controller, a display buffer, and a scrambled-pulse width modulation (PWM) signal generator, wherein the display device control circuit can prevent a large amount of data from being transmitted repeatedly by using frame data cyclically and repeatedly.例文帳に追加

この走査型表示装置制御回路は、ピン・ポンバッファと、データ記憶制御器と、ライン走査制御器と、表示バッファと、スクランブルド・パルス幅変調（ＰＷＭ）信号生成器とを備え、フレームデータを循環的にかつ繰り返し使用することで、多量のデータを繰り返し送信することを避けることが出来る。 - 特許庁

The signal processor superposes and displays risk prediction regions 26 and 27 where a risk factor actually exists or where the existence of a risk factor is predicted around a vehicle 22, on an imaged image depending on a running condition of the vehicle 22, using a transparent line at least one of whose color, concentration, and width is changed or a mask.例文帳に追加

信号処理部は、車両２２の周辺において危険要因が現に存在又はその存在が予測される危険予測領域２６、２７を、車両２２の走行状態に応じて、色、濃度及び幅のうち少なくとも一つを変えた透過性の線又はマスクを用いて、撮像された画像に重畳表示する。 - 特許庁

The apparatus 15 is installed on a run-out table behind a cooling zone 12 between the final stand of a finish rolling machine 11 of a hot rolling line and a pinch roll 13 before a down coiler 14 and its floodlight projection part emits light to the surface to be inspected by an object under inspection obliquely in the width direction of the object under inspection.例文帳に追加

熱延ラインの仕上げ圧延機１１の最終スタンドとダウンコイラ１４前のピンチロール１３との間の、冷却帯１２の後のランナウトテーブル上に、圧延性ロール疵検出装置１５を設置し、その投光部は、被検査体の幅方向斜めより被検査体の検査対象面上に光を照射する - 特許庁

When a collision load toward the inside in the vehicle width direction is input to the center pillar 12 positioned above a rocker 14, a trough line 58 at an upper wall of a floor cross member 54 is deformed downward, thus causing wave deformation in the vertical direction in which a joint side with a rocker inner panel 30 is raised up, that is buckling deformation.例文帳に追加

ロッカ１４より上方に位置するセンタピラー１２に対して車幅方向内向きの衝突荷重が入力されると、フロアクロスメンバ５４の上壁部分の谷線５８が下方へ向けて変形し、ロッカインナパネル３０との結合側が上方へ持ち上がるような上下の波打ち変形、即ち座屈変形を生ずる。 - 特許庁

When the buckling deformation amount increases, the projection (trough line 58), that is a wave projecting downward, extends downward to interfere a third wall part 46C of a gusset 46 to restrain an increase of a wave height of the wave deformation, that is the buckling deformation of the floor cross member 54, thus restraining the advance amount of the rocker 14 and center pillar 12 toward the inside in the vehicle width direction.例文帳に追加

座屈変形が進行すると、下方へ凸となる波の凸部分（谷線５８）が下方に延びてガセット４６の第３壁部分４６Ｃに干渉し、波打ち変形の波高の増大、即ち、フロアクロスメンバ５４の座屈変形が抑制され、ロッカ１４及びセンタピラー１２の車幅方向内側への進入量が抑えられる。 - 特許庁

The carrying upstream side edge of a lower horizontal plane part 65a of a lower guide plate 65 is formed in straight line shape parallel with the movable blade 40b from the width direction terminal side to a center position and formed to incline to the carrying downstream side from the center position to the base end side.例文帳に追加

また、下側ガイド板６５における下側水平面部６５ａの搬送上流側の端縁部は、その幅方向の終端側から中央位置にかけて可動刃４０ｂと平行な直線形状とされ、中央位置から基端側にかけて搬送下流側に傾斜した形状とされている。 - 特許庁

This fruit tree covering sheet is formed to present a rectangular form when viewed from above, having an area allowing to wrap a line of fruit tree group, by unitedly consecutively installing a window sheet part 4 equipped with an opening/closing sheet 3, a rain-cover sheet part 5 and an air introducing sheet part 6 in the width direction so as to produce a symmetrical appearance, centering a ceiling sheet part 2.例文帳に追加

天井シート部２を中心とし、開閉シート３を具備した窓シート部４、雨除けシート部５、空気導入シート部６を左右対称になるように横方向に一体的に連設し、１列の果樹群を包み込み可能な面積を有する平視矩形状を呈するように形成されている。 - 特許庁

The imaging apparatus having a function for printing a list performs line feed at a specified position of the list when the size of a sheet set in a sheet feed tray is smaller than a preset size so that the lateral width of the list falls within the sheet size thus printing the list.例文帳に追加

リストをプリントする機能を有する画像形成装置において、給紙トレイにセットされた用紙サイズが予め定めた設定サイズより小さい場合には、前記リストの所定の位置で改行を行い、前記リストの横幅が前記用紙サイズに収まるようにして該リストをプリントすることを特徴とする。 - 特許庁

This rare earth-iron-nitrogen-based magnet powder has a Th2Zn17 type crystal structure, and the integral width of a diffracted line of its crystal structure (113) is 0.06 degrees or less, and the powder orientation exceeds 1.44.例文帳に追加

Ｔｈ_２Ｚｎ_１７型結晶構造を有する希土類−鉄−窒素系磁石粉末であって、Ｔｈ_２Ｚｎ_１７型結晶構造（１１３）回折線の積分幅が０．０６度以下であり、かつ粉末配向度が１．４４を超えることを特徴とする希土類−鉄−窒素系磁石粉末、及びその製造方法により提供。 - 特許庁

Organic SOG films 6 and 13 of specific permittivity 3.0 or below are used for insulating the adjacent wirings from each other in a second wiring layer M2 and a third wiring layer M3 which are set minimum in line width and laid out short in length resting on a layout rule, by which the adjacent wiring layers can be lessened in interlayer capacitance between them.例文帳に追加

レイアウトルールの最小線幅で加工され、短距離引き回し配線である第２層配線Ｍ_2 および第３層配線Ｍ_3 では、隣接配線間の絶縁に比誘電率が約３. ０以下の有機ＳＯＧ膜６，１３を用いることによって、隣接配線間の層間容量を小さくする。 - 特許庁

To provide an alkaline development method for reducing line width dispersion, which is produced when developing is stopped with hardly a time difference between the front end part and the rear end part of a glass substrate 11 during water rinsing, after consecutive developing which is carried out through conveyance via a plurality of developing tanks 20, in the longitudinal direction of the glass substrate.例文帳に追加

複数の現像槽２０中を搬送しながら連続して現像し、続く水洗にてガラス基板１１の先端部と後端部との間で殆ど時間差なく現像を停止した際に発生する、ガラス基板の長さ方向の線幅のバラツキを縮小するアルカリ現像方法を提供する。 - 特許庁

There are provided slits 7a, 7b exposed at both ends within a cavity arranged along a coupling line between a pair of coupled dies 51, 61 not provided with any vent hole enclosing the cavity for forming a foam formed material when the dies are closed in such a manner that their opening width is set to be smaller than a particle diameter of the raw material beads to be supplied.例文帳に追加

型閉時に、発泡成形体を形成するためのキャビティ４を包囲する、ベントホールを備えていない一対の組合せ金型５１、６１の合わせ目部分に沿って、キャビティ内の両端部分に露出したスリット７ａ、７ｂを、その開口幅を供給される原料ビーズの粒径より小さいものとして配設する。 - 特許庁

To provide an inkjet recording method and apparatus having high image uniformity between recording media, even when using a non-permeable recording medium and also a permeable recording medium, and further capable of preventing the occurrence of non-uniformity of a line width, color unevenness, or the like, which are caused by ink bleeding and mixture between liquid droplets.例文帳に追加

非浸透性記録媒体に限らず浸透性記録媒体を用いた場合でも記録媒体間での画像均一性が高く、インク滲みや、液滴間の混合に起因する線幅の不均一や色ムラ等の発生を抑制できるインクジェット記録方法およびインクジェット記録装置を提供すること。 - 特許庁

In each blade, at least one of a camber line CL, a pressure surface 22a, and a vacuum surface 22b is formed of a plurality of circular arcs, and also the equal inter-blade region WR1 having a substantially equal flow passage width H is formed between the adjacent blades 22A, 22B in an impeller rotating direction R1.例文帳に追加

そして、各翼は、反り線ＣＬと、圧力面２２ａと、負圧面２２ｂとの少なくとも１つが複数の円弧により形成されるとともに、翼車の回転方向Ｒ１に隣り合う翼２２Ａ，２２Ｂの間にて形成される流路幅Ｈが略等しい等翼間領域ＷＲ１を有している。 - 特許庁

To provide a CMOS image sensor capable of obtaining a desired working speed and a desired optical sensing property from an element to which a design rule of a hyperfine line width is applied and capable of inhibiting the generation of a leakage current in a floating diffusion area which is a sensing node in a pixel region, a pixel of the image sensor, and a method of manufacturing the image sensor.例文帳に追加

超微細な線幅のデザインルールが適用される素子から所望の動作速度と光感知特性とを得ることができ、画素領域のセンシングノードである浮遊拡散領域の漏れ電流の発生を抑制することができるＣＭＯＳイメージセンサ、その画素及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the ruler for cutting, the metal fitting part 2 is previously matched at an effective width of the object 5 to be cut or at the deepest place for cutting, and the mark is put to the previously placed object 5 to be cut and the cutting line is put by abutting the projection 1 to the objecting shape 6 and by moving it in parallel.例文帳に追加

予め切断対象物5の利き幅または切断する一番深いところで金具部２を合わせ、対象とする形状6に突起1を当て平行に移動させることにより予め置かれていた切断対象物5に印を付け切断線を付けることを特徴とする切断用定規。 - 特許庁

A virtual path RD is assumed by extending both ends of a doorway 30 in forward/backward directions and a camera 1 is installed at a prescribed height in front of a passing line L tying both the ends of the doorway 30 at a position with an offset outwardly in the width direction of the path from one border of the virtual path RD.例文帳に追加

出入口３０の両端を前後方向に延長した仮想通路ＲＤを想定するとともに、出入口３０の両端を結ぶ通過ラインＬより前方であって、仮想通路ＲＤの一方の境界位置より幅方向に沿って外側に変位した位置に、所定の高さ位置をもってカメラ１を設置する。 - 特許庁

The semiconductor element includes an active region including source/drain and a gate, and an element isolation region defining the active region, wherein the gate is formed by a part of a fin gate, the source/drain is an epitaxial layer between gates abutting a seed layer, and the line width of the source/drain in the longitudinal direction of the gate is wider than that of the gate.例文帳に追加

半導体素子は、ソース／ドレインとゲートを含む活性領域と、活性領域を画成する素子分離領域とを含むものの、ゲートはフィンゲートの一部で形成され、ソース／ドレインはシード層に隣接したゲートの間に形成されたエピタキシャル層であり、ゲートの長手方向でソース／ドレイン線幅はゲート線幅より大きい。 - 特許庁

In the cooling facilities which are arranged in the hot rolling line of the steel plate, and supply cooling water on the surface of the steel plate while carrying the steel plate, the interval of the nozzles in the most upstream side nozzle row among the nozzle rows formed in the direction of the width at specified intervals is formed to be closer than the intervals of other nozzle rows.例文帳に追加

鋼板の熱間圧延ラインに設置され、鋼板を通過させながら鋼板表面に冷却水を供給する冷却設備において、鋼板幅方向に所定の間隔で並んだノズル列の内、最上流側のノズル列のノズル間隔がそれ以外のノズル列のノズル間隔よりも密になるようにする。 - 特許庁

Between the first and second reference voltage generating resistors 221 and 222, a resistor circuit 224 is provided which comprises parasitic resistance components of two lines, having the same width as other lines, in such manner as to go through a foldback line 225 in an LSI202 for canceling parasitic resistance component of other lines.例文帳に追加

第１および第２の参照電圧生成抵抗２２１、２２２の間には、ＬＳＩ２０２内の折り返し線２２５を経由する形で他の線路と同一幅の２本ずつの線路の寄生抵抗分からなる抵抗回路２２４が設けられており、調整に悪影響となる他の線路の寄生抵抗分をキャンセルする。 - 特許庁

The C rings can be supplied to the next process by individually transferring them by the spiral shaft part and dropping them one by one at a small-width shaft part and continuously fitted to the rod-state member, the C-ring supply device can be automated, and work efficiency of the line to individually supply the C rings can be improved.例文帳に追加

Ｃリングを、螺旋軸部により個別に移送し、小幅軸部で１個ずつ落下させて次工程に供給可能であり、Ｃリングを棒状部材に連続的に嵌装することができ、Ｃリング供給装置の自動化が可能であり、Ｃリングを１個ずつ供給するラインの作業効率が向上する。 - 特許庁

The head controller 46 selects a nozzle to be used with the overlapped width larger than the case that the ink droplets are delivered by the inkjet recording head 20Y-20K from the line image data and the character image data, and using the nozzle to be used, from the imaging image data, delivers ink droplets out of the inkjet recording heads 20Y-20K.例文帳に追加

ヘッドコントローラー４６は、線画像データ及び文字画像データに基づいてインクジェット記録ヘッド２０Ｙ〜２０Ｋにインク滴を吐出させる場合よりも、オーバーラップ幅が大きい使用ノズルを選択し、その使用ノズルを用いてイメージ画像データに基づいてインクジェット記録ヘッド２０Ｙ〜２０Ｋにインク滴を吐出させる。 - 特許庁