「line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(61ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a simple flaw inspection device, capable of inspecting flaws of a substrate, without shortening the wavelength of an illumination light source, even when the line width of the repeated pattern on the substrate is fine enough to exceed the lower light value (lower limiting value, based on the wavelength of the illumination light source) in the conventional device.例文帳に追加

基板上の繰り返しパターンの線幅が従来装置における下限値（照明光源の波長に基づく下限値）を超えて微細な場合でも、照明光源の波長を短くすることなく基板の欠陥検査を行える簡易な欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

The blade body of the movable blade 15 of the hair clipper blade includes a first blade body 20 and a second blade body 21 forming such a line symmetrical shape that cutting edges 20a and 21a are formed on both sides and width widened edges 24 and 25 gradually widened in a side-by-side direction as approaching the front end side are formed on the front end side.例文帳に追加

可動刃１５の刃体は、両側に切刃部２０ａ，２１ａが形成され先端側には先端側に向かうほど並設方向に次第に広がる幅広刃部２４，２５が形成された線対称形状をなす第１刃体２０及び第２刃体２１で構成される。 - 特許庁

This image forming apparatus has a region in which the width of each of X-direction wirings 7 (DX1, DX2,..., DXm) respectively connected to electron emitting elements arrayed in a matrix is greater outside of an image forming region nearer the image forming region than the inside of the image forming region indicated by a broken line.例文帳に追加

マトリクス状に配置された電子放出素子に接続するＸ方向配線７（ＤＸ１、ＤＸ２、・・、ＤＸｍ）の幅が、破線で示す画像形成領域内よりも画像形成領域に近接する画像形成領域の外側において、広く形成された領域を有する。 - 特許庁

The winding coil 5 is formed of a covered conductor consisting of a copper wire 5a covered with an insulating film 5b, and the end of the winding coil 5 are directly connected to the bump 4 so that the central line X-X of the copper wire 5a is arranged within the opening width W of the input and output terminal 2.例文帳に追加

巻線コイル５は、銅線５ａが絶縁被膜５ｂで被覆された被覆導線をもって形成されており、当該巻線コイル５の端部は、銅線５ａの中心線Ｘ−Ｘを入出力端子２の開口幅Ｗ内に配置して、バンプ４と直接接続される。 - 特許庁

To provide a multi-color ink film which permits simultaneous formation of a positioning mark with a primary image when the primary image is formed in an intermediate transfer medium and reduces a running cost without increasing the width of the multi-color ink film as well as a thermal transfer line printer.例文帳に追加

中間転写媒体に一次画像を形成する際に、位置決めマークを一次画像と同時に形成することができ、しかも、マルチカラーインクフィルムの幅を大きくすることなくランニングコストを低減することのできるマルチカラーインクフィルムおよび熱転写ラインプリンタを提供すること。 - 特許庁

To detect a fault such as disconnection of a signal transmission line in simple configuration in the case of data communication for transmitting a synchronizing signal, which is generated for a fixed time width for each fixed cycle, and the prescribed number of data signals, which are generated synchronously with this synchronizing signal, on different signal transmission lines.例文帳に追加

一定周期毎に一定時間幅発生する同期信号と、この同期信号に同期して発生する所定個のデータ信号とを異なる信号伝送路で伝送するデータ通信における信号伝送路の断線等の障害を簡単な構成で検知する。 - 特許庁

To provide a positive resist material with a high sensitivity, a high resolution, a small line width roughness, and an excellent post-exposure pattern shape, especially a positive resist material using a high polymer suitable as a base resin of a chemical amplification positive resist material, and to provide a pattern formation method.例文帳に追加

高感度、高解像度で、ラフネス（ＬＷＲ）が小さく、露光後のパターン形状が良好であるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Chamfers 13 for adjusting the contraction area formed at the corners on both sides of an oil groove 12 on the valve spool 11 side confronting each of the drawn parts provided in line on a fitting circumferential surface with a valve body are formed in such an arrangement that their circumferential direction width increases from one side toward the other in the axial direction of the valve spool 11.例文帳に追加

バルブボディーとの嵌合周上に並設された各絞り部に臨むバルブスプール11側の油溝12の両側の角部に形成される絞り面積調整用のチャンファ13，13を、バルブスプール11の軸長方向の一側から他側に向けて夫々の周方向幅を増して形成する。 - 特許庁

The bathtub 1A is longitudinally divided along at least one parting line at an intermediate position in the longitudinal direction or the width direction to form a condition where the bathtub is divided into a plurality of bathtub parts 2 and 2 and after these bathtub parts 2 and 2 are carried in the bath room, they are integrally united with each other in the bath room.例文帳に追加

浴槽１Ａを、長手方向又は横幅方向の中間位置で一つ以上の分割線に沿って縦割りすることにより、複数の槽部分２，２に分割した状態に形成し、これらの槽部分２，２を浴室内に搬入したあと、該浴室内において一体に結合する。 - 特許庁

This hot finishing mill is provided with a roll grinding device for on-line grinding the stepped parts between non-rolling parts and a rolling part of a roll due to roll wear which is generated by rolling and a cooling device the cooling capacity for cooling the surface of the roll of which is made variable in the width direction of the roll.例文帳に追加

熱間仕上圧延機に、圧延によって発生するロール摩耗に起因する、ロールの非圧延部と圧延部の段差部をオンライン研削するロール研削装置と、ロール表面を冷却する冷却能力を、ロール幅方向に可変としたロール幅方向冷却装置と、を具備する。 - 特許庁

In a time division multiplex (TDMA-TDD) system of a frequency hopping mode, the apparatus selects a combination of a plurality of frequencies used in the same frame with less correlation with the fading characteristics of a radio propagation line and the spectrum width of other apparatus using the same frequency band.例文帳に追加

周波数ホッピング方式の時分割多重（ＴＤＭＡ−ＴＤＤ）方式において、同一フレーム内で使用する複数の周波数を、無線伝搬路のフェージング特性や同一周波数帯を使用する他機器のスペクトル幅に対し相関の低い組み合わせで選択する。 - 特許庁

When an original pattern profile 1 which is to be transferred by the use of an electron beam projection exposure mask is divided into a plurality of pattern profiles that are complementary to each other, the original pattern profile 1 is divided into demarcations by the use of grids 2 whose size is determined on the basis of the minimum line width of the original pattern profile 1.例文帳に追加

電子線投影露光用マスクを用いて転写すべき原パターン形状１を、相補的な複数のパターン形状に分割するのにあたって、先ず、前記原パターン形状１を、その最小線幅を基準に一区画の大きさが決定された格子２を用いて分割する。 - 特許庁

To provide a die for edging a slab, wherein the yield is improved by reducing crop loss at the nose and rear ends of a sheet bar when manufacturing a hot-rolled steel plate from a slab (especially a wide slab) on a hot-rolling line provided with a width press, and a method of edging the slab using the same.例文帳に追加

幅プレスを備えた熱間圧延ラインにおいて、スラブ（特に広幅スラブ）から熱延鋼板を製造する際に、シートバー先後端のクロップロスを低減して歩留まりを向上させることができるスラブ幅圧下用金型およびそれを用いたスラブ幅圧下方法を提供する。 - 特許庁

A sheet bar joining unit (80) is located at the line entrance side of the finish rolling mill (90) and a sheet bar heating unit (10) for heating the whole width of the sheet bar to Ar3 or higher transformation point is located between the sheet bar joining unit (80) and the finish rolling mill (90).例文帳に追加

シートバー接合装置（８０）を仕上圧延機（９０）のライン入側に配置し、このシートバー接合装置（８０）と仕上圧延機（９０）との間にシートバーの全幅を仕上圧延機出側温度がＡｒ３変態点以上となるような温度に加熱するシートバー加熱装置（１０）を配置してなる。 - 特許庁

The mirror 12, for continuously inputting a subject image to the line sensor, and a narrow width illumination lamp 13 are mounted on a drive unit 5 for making the mirror 12 and the lamp 13 rotate the mirror 12 and the lamp 13 at 360°, to photograph the subject.例文帳に追加

そして被検査体像を１次元ラインセンサに連続的に入力するよう細幅反射鏡１２と細幅照明灯１３とを回転させる駆動装置５に取り付けて細幅反射鏡１２と細幅照明灯１３を３６０°回転させて撮影を行なうものである。 - 特許庁

The line-type inkjet device includes a conveying part 133 that conveys a transfer sheet in a nearly vertical direction, and an inkjet part 136 that discharges ink on an entire area in a width direction of the transfer sheet that is conveyed by the conveying part 133 from a direction nearly perpendicular to the transfer sheet and forms an image on the transfer sheet.例文帳に追加

ライン型インクジェット装置は、略鉛直方向に転写紙を搬送する搬送部１３３と、搬送部１３３により搬送される転写紙の幅方向全域に対して、転写紙に略垂直な方向からインクを吐出し転写紙に画像を形成するインクジェット部１３６とを備える。 - 特許庁

When the drawing instruction does not consider the resolution (S225: NO), the printer driver executes a drawing processing by increasing the width of a line used as a drawing object or the size of a unit pattern used for fill at magnification equivalent to a ratio of the resolution of a drawing area for display to that of a drawing area for print (S235).例文帳に追加

解像度を考慮していない場合は（Ｓ２２５：ＮＯ）、表示用描画領域と印刷用描画領域との解像度比に相当する倍率で、描画対象となる線の太さないし塗りつぶしに使う単位パターンの大きさを拡大して、描画処理を実行する（Ｓ２３５）。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having sufficient basic characteristics such as sensitivity and excellent lithographic performances represented by an MEEF (mask error enhancement factor) and LWR (line width roughness) as an indicator, to provide a method for forming a resist pattern using the photoresist composition, and to provide a polymer and a compound to be used for the resist composition.例文帳に追加

感度等の基本特性を満足し、ＭＥＥＦ及びＬＷＲを指標とするリソグラフィー性能に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法、上記フォトレジスト組成物に用いられる重合体、及び化合物の提供。 - 特許庁

Thus, it is realized to form the deep source/drain regions prior to the shallow source/drain regions, and to control an overlap of the impurities ion-implanted into the shallow source/drain regions created through the gate pattern line width gradually reducing with the second spacer for offsetting.例文帳に追加

これにより、深いソース/ドレーン領域を浅いソース/ドレーン領域より先に形成することと同時に前記オフセット用第２スペーサにより次第に縮まるゲートパターン線幅により発生する浅いソース/ドレーン領域にイオン注入される不純物の重畳を抑制できる。 - 特許庁

Since actual waveforms reach respective high levels VIH and low levels VIL within the minimum pulse width before reaching the high level VIHH for adjustment and the low level VILL for adjustment and return from there, approximately the same waveforms as when they are free from influence of the characteristics of the transmission line 9 can be obtained.例文帳に追加

実際の波形は調整用ハイレベルＶＩＨＨ、調整用ローレベルＶＩＬＬまで到達せずに、最小パルス幅の間にそれぞれハイレベルＶＩＨ、ローレベルＶＩＬに到達し、そこから折り返していくので、伝送ライン９の特性の影響を受けない場合とほぼ同一の波形が得られる。 - 特許庁

In a step of etching the passivation film 336, a through-hole 344 having the size including the width of the wiring 330 inside is formed in the passivation film 336, on a position furthermore in the cutting line direction of a substrate 310 than a drain electrode 334 and a source electrode 332 of the wiring 330.例文帳に追加

パッシベーション膜３３６をエッチングする工程で、配線３３０の、ドレイン電極３３４及びソース電極３３２よりも基板３１０の切断ライン方向の位置で、配線３３０の幅を内側に含む大きさの貫通穴３４４をパッシベーション膜３３６に形成する。 - 特許庁

In the thin-film solar cell module having a conductive metal oxide layer, a photoelectric conversion layer, and a back electrode on a translucent insulating substrate, the finger electrode of a preset pattern of a narrow line width for reducing the resistance loss of the conductive metal oxide layer is provided.例文帳に追加

透光性絶縁基板上に、導電性金属酸化物層と、光電変換層及び裏面電極とを有する薄膜系太陽電池モジュールにおいて、導電性金属酸化物層の抵抗損を低減する、線幅の細く予め設定したパターンのフィンガー電極が設けられる。 - 特許庁

Besides, by using an optical observation apparatus utilizing the interference and refraction of light, without shrinking the resist pattern like the conventional case of recognizing the resist pattern by using an electron microscope, the line width can be precisely measured in a nondestructive manner.例文帳に追加

また、光の干渉、回折を利用した光学観察装置を用いることにより、従来において電子顕微鏡を用いてレジストパターンの認識を行った場合のようにレジストパターンの収縮を発生させることはなく、非破壊で精密に線幅を測定することができる。 - 特許庁

To provide a multilayer film for wiring formation that can form high-precision wiring of ≤30 μm in line width on a multilayer wiring board and compatibly provide peeling easiness and adhesive strength of a positive type photosensitive resin film, and a method of manufacturing multilayer wiring board using the same.例文帳に追加

多層配線基板に線幅３０μｍ以下の高精度な配線を形成することができ、ポジ型感光性樹脂膜の剥離容易性と接着性とを両立させた配線形成用多層フィルムおよびこれを用いた多層配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method, a liquid crystal panel 20 is manufactured via a state of a multi-dividable liquid crystal panel 10 equipped with the liquid crystal panels 20 and a panel for measurement 40 which has electrodes 42 with a specified width wider than line widths of display electrodes 22 formed on the liquid crystal panels 20.例文帳に追加

液晶パネル２０と、液晶パネル２０に形成された表示用の電極２２の線幅より広い所定幅の電極４２を有する測定用パネル４０とを備える複数取り液晶パネル１０の状態を経て液晶パネル２０を製造する方法である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a substrate for mounting a chip, capable of simultaneously attaining prevention of the anomalous nickel deposition between copper wirings and prevention of copper wiring exfoliation, by decreasing Ni bridges and preventing chip mount shift and narrow copper wiring line width.例文帳に追加

銅配線間のニッケルの異常析出が生じることもなく、Ｎｉブリッジを減少させることと、チップの実装のズレを防止することと、銅配線の線幅が細くなることを防止して銅配線のはく離を防止することを同時に達成するチップ搭載用基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A plurality of bottom electrodes 11, which collect charges generated in a semiconductor layer 6, are each provided to cover at least a portion in a length direction and the entire region in a width direction of a scan line 101 adjacent thereto, and the bottom electrodes 11 are disposed at positions at which the scan lines 101 are provided.例文帳に追加

半導体層６に発生した電荷を収集する複数の下部電極１１を、それぞれ隣接する走査配線１０１の長さ方向の少なくとも一部分を幅方向には全て覆うように設けて、走査配線１０１の配設位置に下部電極１１を配置する。 - 特許庁

The movable shade 32 formed so as to curve and extend an upper edge 32a along a rear focal plane of a projection lens 28 is mounted rotatably around a rotation axis line Ax2 extending in a vehicle width direction, and the movable shade 32 is connected to the actuator 36 through a link member 34.例文帳に追加

上端縁３２ａが投影レンズ２８の後側焦点面に沿って湾曲して延びるように形成された可動シェード３２を、車幅方向に延びる回動軸線Ａｘ２回りに回動可能に設けるとともに、この可動シェード３２をリンク部材３４を介してアクチュエータ３６に連結する。 - 特許庁

To provide a method and a device for stroke extraction and a storage medium in which a stroke extraction program is stored, which have a high direction component resolving power for strokes and flexibly cope with the variance of line width and stably extract strokes, even in blurred parts.例文帳に追加

ストロークに対する高い方向成分分解能を持ち、線幅の変動にも柔軟に対応でき、かすれた箇所においても安定してストロークを抽出可能なストロークを抽出装置、ストローク抽出方法及びストローク抽出用プログラムを記憶した記憶媒体の提供。 - 特許庁

The partial area is set within a luminal area extracted from a tomographic image by an input device 54, the luminal area is divided into twenty slice areas each having a constant axial line width h by use of a Simpson method, and an element area dS of each the slice area is calculated by an element area calculation device 56.例文帳に追加

断層画像から抽出された内腔領域内に入力器５４により部分領域を設定し、シンプソン法を利用して内腔領域を一定の軸線幅ｈを持つ２０個のスライス領域に区分し、要素面積算出器５６で各スライス領域の要素面積ｄＳを算出する。 - 特許庁

The photoelectric conversion element comprises a semiconductor film laminated on a conductive support, with the film having anatase titanium oxide, where a half-power band width of the X-ray diffraction peak of the face measured (101) by using a CuK_α line, is ≤0.39°.例文帳に追加

導電性支持体上に、半導体膜が積層されてなる光電変換素子であって、当該半導体膜がＣｕＫ_α線を用いて測定した（１０１）面のＸ線回折ピークの半価幅が０．３９°以下であるアナターゼ型酸化チタンを含有することを特徴とする光電変換素子。 - 特許庁

In plural elements 2, 2, etc., constituting a V-belt 1 for CVT with a ring 9 functioning as a belt body, a tapered flank part 3 as a pulley contacting part and a central line L dividing a width W formed by the flank parts 3 in two forms a contacting angle α.例文帳に追加

ベルト本体として機能するリング９とともに一本のＣＶＴ用Ｖベルト１を形成することになる多数のエレメント２，２…について、プーリ接触部となるテーパ状のフランク部３と、そのフランク部３，３同士のなす幅寸法Ｗを二分する中心線Ｌとのなす接触角をαとする。 - 特許庁

The diffracted beam with which the micro tool to be measured is irradiated, and which is not blocked by the micro tool and diffracted through both sides of the width to be measured, is detected through an imaging lens which has a prescribed focal distance f, by using a line sensor disposed on the focal plane of the imaging lens.例文帳に追加

被測定マイクロ工具に照射されて該工具により遮蔽されずにその被測定幅両側から回り込むことにより回折した回折光は、所定の焦点距離f を有する結象レンズを介して、その焦点面に備えたラインセンサにより検出される。 - 特許庁

A rotation axis 10c of a cutting tool is tilting not only toward the cutting direction X by a forward tilting angle β with respect to a normal line 21n for a cutting plane 21 but also toward the cutting width direction Y, which is perpendicular to the cutting direction X, by a tilting angle γ (so called camber angle γ).例文帳に追加

切削面２１における法線方向２１ｎに対し、切削工具の回転軸１０ｃを切削方向Ｘに前傾角βだけ前傾させるだけでなく、切削方向Ｘの直角方向である切削幅方向Ｙに傾倒角γ（通称キャンバー角γ）だけ傾斜させる。 - 特許庁

Lithium manganate satisfying that a Li/Mn composition ratio is 0.55 to 0.60, and the variation of half-value width of a main diffraction line by X-ray diffraction under a charging condition of 0% to 100%, is 25% or more is used as a positive electrode active material, and amorphous carbon is used in a negative electrode active material.例文帳に追加

正極活物質にＬｉ／Ｍｎ組成比が０．５５以上０．６０以下で、充電状態０％乃至１００％間のＸ線回折による主要回折線の半値幅変化を２５％以上としたマンガン酸リチウムを用い、負極活物質に非晶質炭素を用いた。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a flash memory device, to decrease a cell size by forming a control gate within a minimum line width permitted in the fabrication process of a semiconductor memory device, and to efficiently obtain the operation characteristics of the device even in case of the decrease of the cell size.例文帳に追加

半導体メモリ素子の製造工程で許容される最小の線幅の内側の領域にコントロールゲートを形成して、セルサイズを縮小することが可能であると共に、セルサイズの縮小時にも素子の動作特性が効率的に確保されるようにしたフラッシュメモリ素子の製造方法の提供。 - 特許庁

A printer engine part 141 adjusts development bias so that a line image with predetermined width can be output with defined linewidth or defined density, and adjusts an exposure amount so that a patch image obtained on a development condition by the adjusted development bias can be output with the defined density.例文帳に追加

プリンタエンジン部１４１では、所定幅のライン画像を定められた線幅あるいは定められた濃度で出力できるように現像バイアスを調整し、調整した現像バイアスによる現像条件で得られたパッチ画像を定められた濃度で出力できるように露光量を調整する。 - 特許庁

To provide an optical trigger type parallel/serial conversion circuit in which a serial electric pulse, which is hardly affected by variation in circuit parameter (in other words, a production error) or variation in optical pulse energy, having a fixed pulse width is outputted onto a transmission line and its operation is further accelerated.例文帳に追加

回路パラメータのばらつき（すなわち、作製誤差）や、光パルスエネルギーの変動に影響されにくい一定なパルス幅を有するシリアル電気パルスを伝送線路上に出力すること、及びその動作のさらなる高速化を実現する光トリガ型パラレル−シリアル変換回路を提供する。 - 特許庁

Integration data by integrating a plurality of read pixel data obtained from a plurality of light-sensitive elements of the line sensor 120, in a certain width in a recording sheet feeding direction, are compared with an integrated value of expected read data expected from normally droplet-struck image to specify a defective nozzle.例文帳に追加

ラインセンサ１２０の複数の受光素子から得られる複数の読取画素データを記録紙搬送方向に一定の幅で積分した積分データと、本来打滴されるべき画像から期待される期待読取データの積分値とを比較して不適切ノズルを特定する。 - 特許庁

In the blank B, each of forward or rearward ends in the length-wise direction, and each of right and left ends in a width-wise direction, are folded as tatami paper and overlapped with each other along one folding line selected from the plurality of folding lines 13, 14 so as to assemble three types of boxes of different sizes and thicknesses.例文帳に追加

そのブランクＢを畳（たとう）紙のように、長さ面方向の前後両端部と幅面方向の左右両端部をそれぞれ前記複数の罫線１３、１４から選ばれた１つの罫線に沿い折り曲げかつ互いに重ね合わせて、大きさ、厚みの異なる３種類の箱を組み立てる。 - 特許庁

The terminal piece 13a is formed into an almost symmetric shape with respect to the center line in its width direction, each of the side pieces 13b, 13c of the almost symmetric shape is in the form of rectangular strips, and side rims along the longitudinal direction of both side pieces 13b, 13c are integrally connected each other.例文帳に追加

端子片１３ａは幅方向の中心線に対して略対称な形状に形成され、略対称な形状の側片１３ｂ，１３ｃは夫々細長の矩形板状であって、両側片１３ｂ，１３ｃの長手方向に沿う側縁同士を一体に連結してある。 - 特許庁

This antenna is provided with a first choke 34 having a connection portion 26 allowing a connection to communication equipment and an inside portion 30, which is connected to the connection portion, having a depth for extension practically parallel to the lengthwise central axial line of the antenna and a width for extension in the radial direction of the antenna.例文帳に追加

アンテナは、通信装置への接続を許容する接続部分２６を有し内側部分３０は接続部分に接続され、アンテナの長手方向中心軸線に対して実質的に平行に伸長する深さと、アンテナの半径方向に伸長する幅とを有する第一チョーク３４を備える。 - 特許庁

Furthermore, the layer thickness can be restricted more effectively by compressing the developer and preventing developer deterioration by a restriction member by setting the angle θ on a photosensitive body side that the tangent of a developing roller at the restriction position and the width-directional line of the restriction member contains to 100 to 120°.例文帳に追加

また規制位置での現像ローラの接線と規制部材の幅方向の線とがなす感光体側の角度θを、１００度〜１２０度に設定することで、規制部材による現像剤の圧縮、現像剤性劣化を防止し、層厚規制がさらに有効に行われる。 - 特許庁

The transparent electromagnetic wave shield member employs the mesh conductive pattern with dimensions within a range of 5 to 30μm in the line width, 0.5 to 5.0μm in the average film thickness, and 72 to 95% in the aperture rate, and has an electromagnetic wave shield effect of 40 dB or over against electromagnetic waves with 10 to 200MHz or over.例文帳に追加

網目状の導電性パターンが、線幅５〜３０μｍ、平均膜厚０．５〜５．０μｍ、開口率７２〜９５％の範囲内にあり、１０〜２００ＭＨｚの電磁波に対して４０ｄＢ以上の電磁波シールド効果を有する透光性電磁波シールド部材。 - 特許庁

To avoid the distortion of a semiconductor element pattern due to flares by sectioning a mask in a test pattern region and a chip pattern region and setting a fine pattern having a line width small enough to form no pattern in exposure on the test pattern region.例文帳に追加

本発明は半導体素子の微細パターン形成方法に関し、さらに詳しくは、マスク開口領域を縮小しフレア効果を減少させることにより、望むパターンを歪みなく転写させ得るようにした半導体素子の微細パターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁