「nm t」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

When the film thickness of the light-transmissive material layer is T (nm), the wavelength of incident light is λ (nm) and the refractive index of the light-transmissive material layer is (n), the film thickness T satisfies the relation T<λ/(2n).例文帳に追加

前記透光材料層の膜厚をＴ（nm）、入射する光の波長をλ（nm）、前記透光材料層の屈折率をｎとするとき、前記膜厚（Ｔ）が、Ｔ＜λ／(2ｎ)の関係式を満足する偏光子を提供する。 - 特許庁

Provided is an operator section 123 which calculates a filtered torque command T"[Nm] from the limited torque command T'[Nm] and the transmission characteristic G(z).例文帳に追加

制限後トルク指令値Ｔ’［Ｎｍ］および伝達特性Ｇ（ｚ）からフィルタ後トルク指令値Ｔ”［Ｎｍ］を演算する演算部１２３を備える。 - 特許庁

In the electroless plating layer, the total thickness t is 20 to 100 nm.例文帳に追加

無電解めっき層はその総厚みｔが２０〜１００ｎｍである。 - 特許庁

Specifically, where the spectral transmittance of a wavelength γ[nm] is defined as T(λ), the filter 12 has the characteristics in which 1.3≤T(450)/T(540)≤1.8, 1.3≤T(540)/T(640)≤1.5, and 1.7≤T(450)/T(610)≤3.0 are satisfied.例文帳に追加

具体的には、波長λ〔ｎｍ〕の分光透過率をＴ（λ）としたとき、１．３≦Ｔ（４５０）／Ｔ（５４０）≦１．８となる特性を有し、また、１．３≦Ｔ（５４０）／Ｔ（６１０）≦１．５の特性を有し、また、１．７≦Ｔ（４５０）／Ｔ（６１０）≦３．０の特性を有する。 - 特許庁

When it is defined that a wavelength of a primary mode elastic standing wave in the piezoelectric layer 32 is λ[nm] and the thickness of the piezoelectric layer 32 is t[nm], the thickness t[nm] of the piezoelectric layer 32 is set so as to satisfy 0.03λ ≤ t ≤ 0.15λ.例文帳に追加

圧電層３２中における１次モードの弾性定在波の波長をλ〔ｎｍ〕、圧電層３２の厚さをｔ〔ｎｍ〕とするとき、０．０３λ≦ｔ≦０．１５λを満足するように圧電層３２の厚さｔ〔ｎｍ〕が設定されている。 - 特許庁

The thickness (t) of an electrically conductive film 12 constituting the metal master 10 is made approximately 50 nm (in the range of 35 to 200 nm).例文帳に追加

メタルマスタ１０を構成する導電膜１２の厚さｔを（３５〜２００ｎｍの範囲内の）約５０ｎｍとした。 - 特許庁

Moreover, the filtering section 12 is equipped with a limiter operation determination section 122, which determines whether a basic torque command T^*[Nm] and a limited torque command T'[Nm] are different or not.例文帳に追加

また、フィルタ処理部１２は、基本トルク指令値Ｔ^＊［Ｎｍ］と制限後トルク指令値Ｔ’［Ｎｍ］が異なるか否か判定するリミッタ作動判定部１２２を備える。 - 特許庁

An input/output history storage part 24 stores the input/output history of a variable output system 10 (a torque command value Tq prior to a time t-1 and the history of a motor rotation speed Nm).例文帳に追加

入出力履歴記憶部２４は可変出力システム１０の入出力履歴（時刻t-1以前のトルク指令値Tqと電動機回転速度Nmの履歴）とを記憶する。 - 特許庁

Provided is a controller 126 which outputs the limited torque command T'[Nm] or the filtered torque command T"[Nm], based on the results of the limiter operation determination section 122.例文帳に追加

リミッタ作動判定部１２２の判定結果に基づいて、制限後トルク指令値Ｔ’［Ｎｍ］またはフィルタ後トルク指令値Ｔ”［Ｎｍ］を出力する制御部１２６を備える。 - 特許庁

In the second blowing term, the supplying speed of the gaseous oxygen is made to be 0.5-0.8 Nm^3/min/t.例文帳に追加

第２吹き込み期間では、気体酸素の供給速度を０．５〜０．８Ｎｍ^3／ｍｉｎ／ｔとする。 - 特許庁

In the third term, the supplying speed of the gaseous oxygen is made to be 0.9-1.2 Nm^3/min/t.例文帳に追加

第３吹き込み期間では、気体酸素の供給速度を０．９〜１．２Ｎｍ^3／ｍｉｎ／ｔとする。 - 特許庁

Typically, the composition formula is represented by Gd3-sEusSCtGa5-tO12 (with the proviso that s and t satisfy the equations 0<s<3 and 1.8<t<2.2), and the lattice constant can be freely adjusted by changing the composition within the range of 1.256-1.262 nm.例文帳に追加

典型的には、組成式はＧｄ_3-s Ｅｕ_s Ｓｃ_t Ｇａ_5-t Ｏ_12（但し、０＜ｓ＜３，１．８＜ｔ＜２．２）で示され、組成を変えることで格子定数を１．２５６nm〜１．２６２nmの範囲で自由に調整可能である。 - 特許庁

The protective layer has an uneven structure where projections and recessions continue periodically, and the uneven structure satisfies t≤390/nb (nm) and h/t≥0.4 when the period is n(nm), height is h(nm), and the refractive index of the protective layer is nb.例文帳に追加

保護層は、凹部および凸部が周期的に連続な凹凸構造を有するものであり、凹凸構造は、周期をｔ（ｎｍ）、高さをｈ（ｎｍ）、保護層の屈折率をｎｂとするとき、ｔ≦３９０／ｎｂ（ｎｍ）およびｈ／ｔ≧０．４を満たすものである。 - 特許庁

In this configuration, when assuming that saturation magnetization of the storage layer is Ms (emu/cc) and a film thickness of the storage layer is t (nm), the film thickness t of the storage layer satisfies (1489/Ms)-0.593<t<(6820/Ms)-1.55.例文帳に追加

この構成において、記憶層の飽和磁化をＭｓ（ｅｍｕ／ｃｃ）、上記記憶層の膜厚をｔ（ｎｍ）としたときに、記憶層の膜厚ｔは、（１４８９／Ｍｓ）−０．５９３＜ｔ＜（６８２０／Ｍｓ）−１．５５を満たすようにする。 - 特許庁

The recess distance Lrgd between the gate and the drain is set to 800 nm-3000 nm, an overlay distance Lgd between the gate and the drain is set within ±400 and the thickness (t) of the dielectric film 5 is set to 300 nm-600 nm.例文帳に追加

ゲート・ドレイン間リセス距離Ｌrgdは、８００ｎｍ以上３０００ｎｍ以下に設計され、ゲート・ドレインオーバーレイ距離Ｌgdは、Ｌrgd±４００ｎｍ以内に設計され、誘電体膜５の膜厚ｔは、３００ｎｍ以上６００ｎｍ以下に設計される。 - 特許庁

W=2πnTt (1), wherein W is the work done (W h), π is the ratio of the circumference of a circle to its diameter, n is the number of rotation of the rotor (cycles/s), T is the torque (Nm) and t is the dispersion time (h).例文帳に追加

Ｗ＝２πｎＴｔ ・・・・・（１）（Ｗ：分散の仕事量（Ｗ・ｈ）、π：円周率、ｎ：ローター回転数（ｃｙｃｌｅｓ／ｓ）、Ｔ：トルク（Ｎｍ）、ｔ：分散時間（ｈ）） - 特許庁

The modified zeolite catalyst is prepared by performing dealumination-silylation treatment and chemical treatment to an intermediate fine pore zeolite which has a ten-membered ring structure composed of ten units of tetrahedral type TO_4 (T=Si or Al) and has a fine pore diameter in the range of 0.50 to 0.65 nm.例文帳に追加

四面体型TO_4（T = SiまたはAl）ユニット10個からなる10員環構造を有し、細孔径が0.50〜0.65 nmの範囲にある中間細孔ゼオライトに対し、脱アルミニウム−シリル化処理および化学処理を行うことにより調製される変性ゼオライト触媒。 - 特許庁

Also, the thickness t of the anodized alumina film 5 is suppressed to the range of 0.5-30 μm, the hole diameter (a) of the nano hole is suppressed to the range of 20-300 nm, and the pitch p of the hole of the nano hole is suppressed to the range of 50-500 nm.例文帳に追加

また、陽極酸化アルミナ膜５の厚みｔを０．５〜３０μｍ、ナノホールの孔径ａを２０〜３００ｎｍ、ナノホールの孔のピッチｐを５０〜５００ｎｍの範囲に抑える。 - 特許庁

The carbon source is continuously added, and in the case of using F_C(kg/(min×t)) for this adding speed and F_O2(Nm^3×t) for oxygen blowing speed, these are controlled so that F_C/F_O2 becomes 0.3-1.5.例文帳に追加

炭素源は、連続的に添加され、その添加速度をＦｃ（ｋｇ／（ｍｉｎ・ｔ））、送酸速度をＦｏ２（Ｎｍ３・ｔ））としたとき、Ｆｃ／Ｆｏ２が０．３〜１．５となるように制御する。 - 特許庁

The Mn oxide is charged and then, the Mn-containing alloy iron is kept charged before oxygen is supplied at 8 Nm^3/t and the blowing is preferably ended by supplying 2 to 10 Nm^3/t oxygen after charging of the Mn-containing alloy iron.例文帳に追加

特に、前記Ｍｎ酸化物を投入した後、酸素を８Ｎｍ^３／ｔ供給するまでの間に前記Ｍｎ含有合金鉄を投入し、かつ、該Ｍｎ含有合金鉄の投入後に酸素を２〜１０Ｎｍ^３／ｔ供給して吹錬を終了するのが好ましい。 - 特許庁

The high refractive index transparent particles are planar particles comprising a transparent metal oxide having a crystallite diameter of not more than 15 nm, with the outer diameter (D) of one principal face of not less than 500 nm and a ratio (D/t) of the outer diameter (D) to the thickness (t) of not less than 5.例文帳に追加

本発明の高屈折率透明粒子は、結晶子径が１５ｎｍ以下の透明な金属酸化物からなる板状粒子であり、その一主面の外径（Ｄ）が５００ｎｍ以上、この外径（Ｄ）と厚み（ｔ）との比（Ｄ／ｔ）が５以上である。 - 特許庁

The crystal of 5-t-butyl-2,3-dicyano-6-[4-(dimethylamino)styryl]pyrazine is provided by showing the fluorescence at 600 to 1,000 nm.例文帳に追加

５−ｔ−ブチルー２，３−ジシアノ−６−[４−（ジメチルアミノ）スチリル]ピラジンの結晶で、６００ｎｍ〜１０００ｎｍに蛍光を示す化合物。 - 特許庁

The twisted yarn of the nanofiber aggregate has a single fiber diameter obtained by number average of 1-200 nm, and a twist of 500-1,200 t/m.例文帳に追加

また数平均による単糸直径が１〜２００ｎｍ、５００〜１２００ｔ／ｍの撚りがされているナノファイバー集合体撚り糸。 - 特許庁

A motor torque calculating part 64A calculates motor torque T as a coefficient of auxiliary power Pm by a motor and a motor rotational frequency Nm.例文帳に追加

モータトルク算出部は６４Ａは、モータによる補助動力Ｐmとモータ回転数Ｎmとの関数としてモータトルクＴを算出する。 - 特許庁

(Equation 1) t =0.9 λ/(wcos θ_B), (Equation 2)q =4π (sin θ_B)/λ, here, λ: wavelength of monochromatic X-ray used (nm), θ_B:Bragg angle.例文帳に追加

ｔ＝０．９λ／（ｗｃｏｓθ_B）（式１）、ｑ＝４π（ｓｉｎθ_B）／λ （式２）ここで、λ：使用した単色Ｘ線の波長（ｎｍ）、θ_B：ブラッグ角である。 - 特許庁

The immunogenic peptide having between about 9 and about 15 residues binds a cytotoxic T cell to at least two kinds of HLA-A3 molecules with a dissociation constant smaller than about 500 nM, and induces a cytotoxic T cell response.例文帳に追加

細胞障害性Ｔ細胞を少なくとも2種のHLA-A3様分子に約500nMよりも小さな解離定数で結合して細胞障害性Ｔ細胞応答を誘導する、約９から約15残基の免疫原性ペプチド。 - 特許庁

The energy density of the CO_2 laser that is given to the amorphous silicon by the laser annealer 30 is made between 0.040×t (J/cm^2) and 2.3 (J/cm^2) at the time when the film thickness of the amorphous silicon film is t (nm).例文帳に追加

レーザアニール装置３０は、アモルファスシリコン膜の膜圧をｔ（ｎｍ）としたときに、アモルファスシリコンに与えるＣＯ_２レーザのエネルギ密度を、０．０４０×ｔ（Ｊ／ｃｍ^２）以上、２．３（Ｊ／ｃｍ^^２）以下とする。 - 特許庁

In the above method, it is desirable that the value of ratio V/Q of the molten steel quantity V(t) to the circulating flow velocity Q (t/min) of the molten steel is 1.7-2.7 min, and the flow rate of the top-blowing oxygen gas is 0.08-0.16 Nm^3/min/t.例文帳に追加

上記の方法において、溶鋼量Ｖ（ｔ）と溶鋼の環流速度Ｑ（ｔ／ｍｉｎ）との比（Ｖ／Ｑ）の値が１．７ｍｉｎ以上２．７ｍｉｎ以下であり、かつ上吹き酸素ガスの流量が０．０８Ｎｍ^3／ｍｉｎ／ｔ以上０．１６Ｎｍ^3／ｍｉｎ／ｔ以下であることが好ましい。 - 特許庁

Preferably, the total amount of the shaft gas blown is ≥100 Nm^3/t, and the cross section of the interior-side end of the blowing pipe is ≥0.01 m^2.例文帳に追加

また、シャフトガスの全吹き込み量を１００Ｎｍ^3／ｔ以上とし、吹き込み管の炉内側の先端の断面積を０．０１ｍ^2以上にすることが好ましい。 - 特許庁

The polymer or the copolymer has a portion which forms a layered structure 5 having a unit thickness (t) of 1-1,000 nm laminated on the surface of the particle.例文帳に追加

ポリマーまたは共重合体は，粒子の表面に積層された単位厚み（ｔ）１〜１０００ｎｍの相構造５を形成している部分を有する。 - 特許庁

The film thickness of the pixel electrodes is not less than 50 nm but not more than 200 nm, and the distance T between the surface of the pixel electrodes and the surface of the gap between the pixel electrodes is smaller than the width S of the gap between pixels of the pixel electrodes.例文帳に追加

そして、画素電極の膜厚は５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であって、画素電極上の表面と画素電極間の隙間の表面までの距離Ｔが画素電極の画素間の隙間の間隔Ｓより小さい。 - 特許庁

From an input voltage value V and a motor speed (n) into the inverter 3, and a torque command value T into the motor 2, a current value I is calculated using a following equation (1): I(A)= 2π × T(Nm) × n(rpm) × Km ÷ {60(s) × V(V)}.例文帳に追加

インバータ３への入力電圧値Ｖとモータ回転数ｎ、およびモータ２へのトルク指令値Ｔから、式（１）：Ｉ（Ａ）＝２π×Ｔ（Ｎｍ）×ｎ（ｒｐｍ）×Ｋｍ÷｛６０（ｓ）×Ｖ（Ｖ）｝により電流値Ｉを算出する。 - 特許庁

A resist film 11 comprising a chemical amplification type resist material having a base resin containing at least one selected from a t-butyl group, a t-butyloxycarbonyl group and a t-butyloxycarbonylmethyl group as a protective group and an acid generator is formed and patternwise exposed by irradiation with extreme-ultraviolet radiation (13.5 nm band) 13.例文帳に追加

保護基として、ｔ−ブチル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基及びｔ−ブチルオキシカルボニルメチル基のうちの少なくとも１つを含むベース樹脂と酸発生剤とを有する化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１１を形成した後、該レジスト膜１１に極紫外線（１３．５ｎｍ帯）１３を照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

The dummy substrate B consists of a substrate and a light shielding layer and transmittance T from an incident surface B1 to the reflection layer obtained by irradiating the dummy substrate B with light having 350 nm wavelength from the incident surface B1 side is specified to be in the range of 0%≤T≤25%.例文帳に追加

ダミー基板Ｂは基板と遮光層とからなり、入射面Ｂ１側から波長３５０ｎｍの光を照射することにより得た、入射面Ｂ１から反射層に至るまでの透過率Ｔを、０％≦Ｔ≦２５％の範囲にする。 - 特許庁

The controller 10 is equipped with a filtering section 12 which includes a transmission characteristic G(z) that attenuates the vibration of a torque command T'[Nm] after limited with a torque limit value Tlim[Nm] calculated based on the number n[rpm] of the rotations of the motor.例文帳に追加

制御装置１０では、モータ回転数ｎ［ｒｐｍ］に基づいて演算されたトルク制限値Ｔｌｉｍ［Ｎｍ］で制限された制限後トルク指令値Ｔ’［Ｎｍ］の振動を減衰させる伝達特性Ｇ（ｚ）を有するフィルタ処理部１２とを備えている。 - 特許庁

To provide a method for highly efficiently conducting dephosphorization treatment, in a process of removing phosphor from molten pig iron on the condition of a top-blowing oxygen flow rate of 2.0-4.0 Nm^3/min/t by using an upper bottom-blowing converter and without using an auxiliary material which substantially contains fluorine as a dephosphorizing agent.例文帳に追加

上底吹転炉を用いて、脱燐剤に実質的にフッ素を含む副原料を使わずに、上吹き酸素流量が2.0〜4.0Nm^3/min/tの条件で溶銑から燐を除去する方法において、その脱燐処理を高能率かつ高効率で行う方法を提供する。 - 特許庁

To provide a converter-type method of dephosphorizing molten iron having little scattering loss of CaO powder blown up even when up-blowing oxygen flow is increased to 2.0-5.0 Nm^3/min/molten iron t, and reducing [%P] in post-treatment molten iron to 0.015 mass% or lower while suppressing free CaO in the post-process slag.例文帳に追加

上吹き酸素流量を2.0〜5.0Nm^3/min/溶銑tに増加しても上吹きされるCaO粉体の飛散ロスが少なく,処理後スラグ中遊離CaOを抑制しつつ,処理後溶銑中[%P]を0.015質量%以下にまで低減する溶銑の転炉型脱燐方法を提供する。 - 特許庁

The fine particles C form fine protrusions on the surface at a frequency of 5,000,000-50,000,000/mm2 wherein the height of the protrusions is 10-50 nm and the ratio t/d between the thickness t of the continuous coating 1B and the mean grain size d of the fine particles dis in the range of 0.1-4.例文帳に追加

微細粒子によって微細表面突起が形成されており、その頻度が５００万〜５０００万個／ｍｍ^2、高さが１０〜５０ｎｍ、連続被膜の厚さｔと前記微細粒子の平均粒径ｄとの比ｔ／ｄが、０．１〜４の範囲にある。 - 特許庁

The component inside the enclosure is subjected to a reactive fluid pressure higher than 10 bars during a predetermined period and also subjected to thermal activation (T>100°C) or optical activation (λ<500 nm).例文帳に追加

容器内の構成部材は、所定の期間、１０バールよりも高い反応性流体圧力を受け、かつ熱的活性化（Ｔ＞１００℃）または光学的活性化（λ＜５００ナノメートル）を受ける。 - 特許庁

Here, when representing as T the average thickness of the sum of the lower-layer and upper-layer coats 20, 30, an average grain size R of the dispersing grains 50 satisfies a relation of 10 nm<R≤2T.例文帳に追加

下層被膜２０と上層被膜３０とを合わせた被膜の平均厚みがＴである場合、分散粒子５０の平均粒径Ｒは、１０ｎｍ＜Ｒ≦２Ｔの関係を満たす。 - 特許庁

(Step 2) The crystal size of t is determined by a following equation from a half value width w of a peak observed when q of a scattering vector is in a range of 5<q<30 nm^-1 on the X-ray diffraction pattern acquired.例文帳に追加

（ステップ２）得られたＸ線回折図形で、散乱ベクトル：ｑが、５＜ｑ＜３０ｎｍ^-1の範囲に観察されるピークの半値幅：ｗより次式により結晶サイズ：ｔを求める。 - 特許庁

This transparent aqueous elastomer has the light permeability of ≥90%T measured by means of a spectrophotometer with the light of 655 nm wavelength and 10 mm optical path at 25°C.例文帳に追加

この透明水性弾性体は分光光度計により測定した透過率が温度２５℃、測定波長６５５ｎｍ、光路１０ｍｍの条件下で９０％Ｔ以上である。 - 特許庁

To provide a coated steel sheet provided with at least 86% total reflectance in a light of wavelength of 555 nm measured by an integrating sphere type spectrophotometer and at least 1 T processability at ordinary temperature.例文帳に追加

波長555nm の光における積分球型分光光度計にて測定される全反射率が86％以上、および常温で1T以上の加工性を備えた塗装鋼板を提供する。 - 特許庁

Temperature reduction and oxygen content of the molten iron are predicted from an oxygen basic unit (Nm^3/t) per hot metal of 1 t required for desiliconizing treatment, a gaseous oxygen ratio which is a ratio of gaseous oxygen to the total oxygen content per 1 ton of molten iron and a time taken up to converter charging, paying attention to oxygenation in the desiliconizing treatment.例文帳に追加

脱珪処理における酸素添加に着目し、脱珪処理に必要な溶銑１ｔあたりの酸素原単位（Ｎｍ^３／ｔ）と、溶銑１ｔあたりのトータル酸素量に対する気体酸素の比である気酸比および転炉装入までの時間から、溶銑の温度低下と炭素量を予測する。 - 特許庁

Since the thickness (t) of the ITO film 1 is 15-20 nm, ITO crystals grow sufficiently, a dense crystal structure is formed and the thin film has superior wear resistance.例文帳に追加

ＩＴＯ膜１の膜厚ｔを、１５ｎｍ〜２０ｎｍとしたことにより、ＩＴＯの結晶が十分に成長し、結晶構造が緻密な薄膜が形成され、優れた耐摩耗性を有することになる。 - 特許庁