「pattern beam」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To shorten an exposure time, increase productivity, and decrease a cost for forming a pattern in an electron beam exposure.例文帳に追加

電子線露光において露光時間を短縮し、生産性を上げ、パターン形成のコストを削減する。 - 特許庁

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X RAY OR EUV RAY, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

With lighting of the first light source unit 24, a low-beam light distribution pattern having a clear cutoff line at the top end part is formed, and with additional lighting of the second light source unit 26, an additional light distribution pattern for high beam expanding upward from the cutoff line is additionally formed to form a high-beam light distribution pattern.例文帳に追加

そして、第１光源ユニット２４の点灯により、鮮明なカットオフラインを上端部に有するロービーム用配光パターンを形成するとともに、第２光源ユニット２６の追加点灯により、上記カットオフラインから上方へ拡がるハイビーム用付加配光パターンを追加形成して、ハイビーム用配光パターンを形成するようにする。 - 特許庁

To provide an LED device capable of providing a beam pattern having a high-gradient edge or region.例文帳に追加

高勾配縁又は領域を有するビームパターンを作ることのできるＬＥＤ装置を提供する。 - 特許庁

To reduce manufacturing steps in number and to form a pattern smaller than the condensing spot of a light beam.例文帳に追加

製造工程を削減することができ、かつ光ビームの集光スポット以下のパターンを形成する。 - 特許庁

The EUV light beam reflected by the reticle 2 includes information on circuit pattern plotted by the reticle 2.例文帳に追加

レチクル２によって反射されたＥＵＶ光は、レチクル２に描かれた回路パターンの情報を含んでいる。 - 特許庁

The laser beam 16, used for boring the inner surface pattern grooves 17 in the resin film 10, has 193 to 308 nm wavelength.例文帳に追加

樹脂フィルム10に内側面パターン溝17を形成するレーザー光線16の波長は１９３nm〜３０８nmである。 - 特許庁

A window part 12 of the first shade 5 forms a light distribution pattern LP for a low beam having the cutoff line.例文帳に追加

第１シェード５の窓部１２は、カットオフラインを有するロービーム用配光パターンＬＰを形成する。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, EUV LIGHT OR X-RAY AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、ＥＵＶ光又はＸ線用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

A machining pattern whose reflectivity is different from that of other parts is formed on a work 1 for the laser beam machining.例文帳に追加

ワーク１にはレーザ加工用に他の部分とは反射率の異なる加工用パターンを形成する。 - 特許庁

Part of the pattern edge 12E attains the state lacking by the width |Δw| after the irradiation with the laser beam.例文帳に追加

レーザー光照射後は、パターンエッジ１２Ｅの一部が幅｜Δｗ｜だけ欠損した状態となる。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography device capable of writing the lattice pitch of a micro diffraction grating pattern with high accuracy.例文帳に追加

微細回折格子パターンの格子ピッチを高精度に描画できる電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

To prevent occurrence of fogging when a marking pattern is formed on a photosensitive material by irradiating it with a laser beam.例文帳に追加

感光材料にレーザービームを照射してマーキングパターンを形成するときの被りの発生を防止する。 - 特許庁

To enable high throughput in pattern dimension measurement or shape observation using an electron beam apparatus.例文帳に追加

電子ビーム装置を用いたパターンの寸法計測または、形状観察において、高スループット化を可能にする。 - 特許庁

To attain channel assignment suitable for an adaptive array antenna whose beam pattern can adaptively be changed.例文帳に追加

ビームパターンを適応的に変化できるアダプティブアレーアンテナに適したチャネル割り当てを行えるようにする。 - 特許庁

The space dot pattern may include two beam dot arrangements using two one-dimensional diffraction optical elements.例文帳に追加

空間ビームドットパターンは二つの一次元回折光学素子を用いて、二つのビームドット配列をも含み得る。 - 特許庁

To provide a projector type headlamp capable of improving distant-place visibility of high-beam light distribution pattern.例文帳に追加

ハイビーム用配光パターンの遠方視認性を改善することができるプロジェクタ型ヘッドランプを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device using an electron beam, capable of enhancing the detection precision of a desired flaw.例文帳に追加

所望の欠陥の検出精度を向上できる電子線を用いたパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

To prevent an electron beam resist film from being stripped in the course and to stably write a core layer pattern on a desired position in the electron beam resist film even with long-time electron beam irradiation.例文帳に追加

電子線レジスト膜が途中で剥離することを防止すると共に、長時間の電子線照射であっても、コア層パターンを電子線レジスト膜における所望の位置に安定して描画する。 - 特許庁

Since a desired receiving antenna pattern defined by arbitrary beam direction and beam width can be obtained, a variable beam array antenna can be constituted depending on the traffic environment.例文帳に追加

これにより、任意のビーム方向とビーム幅によって定義される所望の受信アンテナパターンを得ることができるので、トラフィック環境に合わせてビームが可変であるアレーアンテナを構成することができる。 - 特許庁

For readout of a data page contained in a reconstructed object beam 10, a detector 11 detects an interference pattern generated by the interference between the reference beam 2 and the reconstructed object beam 10.例文帳に追加

再生物体光１０内に含まれるデータ・ページの読み出しのため、検出器１１は、参照光２と再生物体光１０との間の干渉によって生成される干渉パターンを検出する。 - 特許庁

To provide a laser beam machining method in which the continuity failure between a metallic internal layer pattern and an upper layer wiring pattern to be formed on it is hardly generated.例文帳に追加

金属製の内層パターンと、その上に形成される上層配線パターンとの導通不良の発生しにくいレーザ加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam aligner, an exposure method, and a semiconductor device manufacturing method for solving the problem of wring disconnection, and an electric field concentration at a place where the exposed pattern generates misalignment by accurately exposing a pattern to a wafer.例文帳に追加

ウェハにパターンを精度よく露光することができる電子ビーム露光装置、露光方法、及び半導体素子製造方法を提供する。 - 特許庁

Subsequently the block-shaped resist 102A is irradiated with the electron beam 103 with a second pattern different from the first pattern as shown in Fig. 1(e) (second exposure step).例文帳に追加

そして、図１（ｅ）のように、ブロック状のレジスト１０２Ａに、電子ビーム１０３を第１のパターンとは異なる第２のパターンで照射する（第２の露光ステップ）。 - 特許庁

To enhance precision in laying the exposure pattern of an electron beam exposure apparatus on top of an underlying pattern without causing deterioration in through put or complication of the apparatus.例文帳に追加

スループット低下や装置構成の複雑化を伴わずに、電子線露光装置の露光パターンを下層パターンに重ね合わせる精度を向上する。 - 特許庁

To make a very accurate pattern by compensating for the shrinkage of a pattern of a resist film in an excimer beam lithography, where an organic antireflection film is formed under the resist film.例文帳に追加

有機系反射防止膜をレジスト膜下に形成するエキシマ光リソグラフィにおいて、レジスト膜のパターン細りを補償してパターンの高精度化を期す。 - 特許庁

To obtain a variable rectangular electron beam exposure apparatus capable of highly finely conducting exposure with respect to a predetermined fine line pattern having an arbitrary angle in the pattern region.例文帳に追加

任意角度をもった所定の細線パターンについて、そのパターン領域内を高精細に露光することのできる可変矩形型電子ビーム露光装置を得る。 - 特許庁

In a right headlamp unit, a second lighting fixture unit 28 forms an additional light distribution pattern including an upper region from a cutoff line of the light distribution pattern for low beam.例文帳に追加

右前照灯ユニットにおいて、第２灯具ユニット２８は、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方の領域を含む付加配光パターンを形成する。 - 特許庁

A latent image after being formed by exposing a pattern area by converting a laser beam 8 for exposure on the upper layer is developed to form a pattern.例文帳に追加

露光用のレーザービーム８を上層に集光し、パターン領域を露光して潜像を形成した後、該潜像を現像液で現像してパターンを形成する。 - 特許庁

The predetermine reference light distribution pattern LP for low beam is formed by the upper reflector 2, and the diffusive light distribution pattern WP is formed by the lower reflector.例文帳に追加

上側リフレクタ２により、所定のロービーム用の基準配光パターンＬＰが形成され、下側リフレクタ３により、拡散配光パターンＷＰが形成される。 - 特許庁

The surface of the food 6 is selectively irradiated with a laser beam L according to a given image pattern and the image pattern is formed on the surface of the food 6.例文帳に追加

与えられた画像パターンに応じて食品６の表面に選択的にレーザ光Ｌを照射し、食品６の表面に画像パターンを形成する。 - 特許庁

Focused ion beam used as the pattern defect correcting means allows ion implantation into the buffer layer 3 of the portion having the corrected pattern defect.例文帳に追加

パターン欠陥修正手段として用いる集束イオンビームにより、パターン欠陥が修正された部分の緩衝膜３にはイオンが注入されている。 - 特許庁

Bumps of the semiconductor element and the front surface wiring layer are connected by a connecting wiring pattern, and the connecting wiring pattern is patterned by directly exposing a resist film thus formed to a beam light, and is formed by etching.例文帳に追加

接続用配線パターンは形成されたレジスト膜をビーム光により直接露光することによりパターン化し、エッチングすることで形成する。 - 特許庁

The light beam projected from a head part 20a of the light beam irradiation device 20 is received by a light receiving means (CCD camera 51) provided on the chuck 10, and displacement of the pattern 2 in each scanning, the pattern drawn by the light beam, is predetected by the received light beam, and coordinates of the drawing data are corrected on the basis of the detection results.例文帳に追加

チャック１０に設けられた受光手段（ＣＣＤカメラ５１）により、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームを受光し、受光した光ビームから、予め、光ビームにより描画されるパターン２の走査毎のずれを検出し、検出結果に基づき、描画データの座標を補正する。 - 特許庁

In the marker beam irradiating unit 16, a laser diode 33 as a light beam source, a condensing lens for condensing laser 34 beams of the laser diode 33, a pattern forming lens 35 for forming a pattern of the maker beam, an image forming lens 36 for forming the marker beam on the reading target and a diaphragm 37 are directed toward the front and arranged in this order.例文帳に追加

マーカ光照射部１６を光源としてのレーザダイオード３３、そのレーザ光を集光する集光用レンズ３４、マーカ光のパターンを形成するパターン形成用レンズ３５、マーカ光を読取対象上に結像させる結像用レンズ３６及び絞り３７を先方に向けてその順に配置する。 - 特許庁

After an ArF resist pattern is formed, the space and opening size of the pattern are reduced by temporarily reducing T_g of the resist pattern by the irradiation of a VUV excimer laser or of the E beam irradiation during the thermal treatment of the resist pattern.例文帳に追加

ＡｒＦレジストパターンを形成した後、レジストパターンを熱処理する間にＶＵＶエキシマレーザーからの照射またはＥビーム照射により露光してレジストパターンのＴ_ｇを一時的に低めてパターンのスペース及び開口サイズを縮める。 - 特許庁

With this constitution, in low-beam irradiation, the region near the cutoff line of the low-beam light distribution pattern in the on-coming vehicle lane side is not illuminated unnecessarily brightly, while sufficiently securing the luminous intensity in the above-mentioned region in the hot zone in high-beam light distribution pattern.例文帳に追加

これにより、ロービーム照射時には、ロービーム配光パターンの対向車線側におけるカットオフライン近傍の領域が必要以上に明るくならないようにした上で、ハイビーム配光パターンのホットゾーンにおける上記領域の部分の光度を十分に確保する。 - 特許庁

An electron beam resist layer 21 is formed on a base material 11, and patterning processings such as pattern drawing and development of the electron beam resist layer 21 are carried out by using an electron beam exposure device to form an initial resist pattern 22 in a lattice shape at a prescribed position on the base material 11.例文帳に追加

基材１１上に電子線レジスト層２１を形成し、電子線露光装置を用いて、電子線レジスト層２１のパターン描画、現像等のパターニング処理を実施し、基材１１上の所定位置に格子形状の初期レジストパターン２２を形成する。 - 特許庁

In the latter stage of firing for forming a wiring pattern by advancing firing of the film pattern 40 with heat generated through photothermal transformation caused by irradiation with laser beam 50, the film pattern 40 is irradiated with a laser beam 53 by using a laser (laser body 54) of low unit output cost.例文帳に追加

レーザ光５０の照射による光熱変換で発生する熱で膜パターン４０の焼成を進めて配線パターンを形成する焼成終期で、単位出力のコストが低いレーザ（レーザ本体５４）を使ってレーザ光５３を膜パターン４０に照射する。 - 特許庁

An aligner 1 includes a stage for mounting a wafer 31, coated with a resist sensitive for a charged particle beam and a light beam, and a charged particle beam optical system 3 and a light beam optical system 5 for forming a pattern on the wafer 31.例文帳に追加

本発明の露光装置１は、荷電粒子ビーム及び光の両方に感度を有するレジストを塗布したウエハ３１を載置するステージ３５と、同ウエハ上にパターンを形成するための荷電粒子ビーム光学系３及び光光学系５を具備する。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography apparatus or lithographing method capable of discriminating during lithographing whether or not an electron beam is emitted onto a test piece, the electron beam lithography apparatus emitting an electron beam to the test piece to lithograph thereon a pattern circuit or the like.例文帳に追加

試料に電子線を照射してパターン回路等を描画する電子線描画装置において、電子線が試料に照射されているかどうかを描画中に判定できる電子線描画装置または描画方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a vehicle headlamp of projection type capable of forming selectively a low-beam light distribution pattern suitable for normal driving and a low-beam light distribution pattern suitable for high speed driving by moving a light source.例文帳に追加

プロジェクタ型の車両用前照灯において、その光源の移動により、通常走行に適したロービーム用配光パターンと高速走行に適したロービーム用配光パターンとを選択的に形成可能とする。 - 特許庁

To provide a transmitting/receiving device which produces a zero point in an added beam pattern and a subtracted beam pattern of a receiving array antenna in order to reduce interference of radio waves which are emitted from a transmitting antenna, in the receiving array antenna.例文帳に追加

本発明は受信アレーアンテナにおいて、送信アンテナからの電波干渉を軽減させるため、受信アレーアンテナの和ビームパタンおよび差ビームパタンに零点を形成する送受信装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To increase the quantity of light to be irradiated by a projector-type head lamp for vehicles constituted so as to form a light distribution pattern for a low beam, without hindrance in the formation of the light distribution pattern for a low beam.例文帳に追加

ロービーム用配光パターンを形成するように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンの形成に支障を生じることなく、その照射光量の増大を図る。 - 特許庁

To enhance central luminosity of a light distribution pattern for a high beam, without imparting the glare and without enhancing central luminosity of a light distribution pattern for a low beam more than necessary, in a projector type vehicular headlight.例文帳に追加

プロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンの中心光度を必要以上に高めることなく、かつグレアを与えることなく、ハイビーム用配光パターンの中心光度を高くする。 - 特許庁