「pattern beam」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

A limited number of the interference images whose monitoring beam frequency substantially matches a predetermined beam frequency interval pattern are selected from the captured interference images of the specimen.例文帳に追加

捕捉された被検体の干渉画像から、監視ビーム周波数が所定のビーム周波数間隔パターンに略一致する限定された数の干渉画像が選択される。 - 特許庁

The substrate surface is irradiated with periodic beam pattern Hp generated by splitting the oscillated laser beam into a plurality of optical fluxes for interference each other.例文帳に追加

基板表面には、発振させたレーザ光を複数の光束に分割して互いに干渉させることによって発生させた周期的な光パターンＨｐを照射する。 - 特許庁

To provide an electron beam aligner for exposing a pattern onto a wafer with high accuracy by calculating the Abbe error of a wafer stage accurately and correcting the irradiating position of an electron beam.例文帳に追加

ウェハステージのアッベ誤差量を正確に算出し、電子ビームの照射位置を補正することにより、ウェハにパターンを精度良く露光する電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam aligner and a charged particle beam exposure method for forming a pattern precisely when an electrification prevention film is formed on a resist.例文帳に追加

レジスト上に帯電防止膜が形成されている場合に、精度良くパターンを形成できる荷電粒子ビーム露光装置及び荷電粒子ビーム露光方法を提供すること。 - 特許庁

To form a pattern by projecting a projection beam of radiation from a radiation beam system only on a function area of an array of independently controllable elements in lithography apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ装置において、放射線システムからの放射線の投影ビームを、個別制御可能な要素のアレイの作用領域のみに投影してパターンを形成すること。 - 特許庁

To form a narrower slit than a conventional one by a focused ion beam process (FIB) and to suppress change of quality at a beam irradiation part, without using a mask pattern or the like.例文帳に追加

マスクパターン等を用いることなく、集束イオンビーム（ＦＩＢ）加工で従来よりも幅が狭い間隙を形成するとともに、ビーム照射部位の改質を抑制する。 - 特許庁

A speckle encoder 23 emits a laser beam to be vertical to a ground face, and finds a moving distance of the rollers based on a speckle pattern due to a reflected beam from the ground face.例文帳に追加

スペックルエンコーダ２３が、レーザ光を地面に対して垂直に照射し、地面からの反射光によるスペックル模様に基づいてローラの移動距離を求める。 - 特許庁

When an rugged pattern equivalent to the pre-pit is exposed, the master disk is irradiated with an exposure beam while deflecting the exposure beam in the disk radial direction with an AO deflector based on a wobble signal.例文帳に追加

プリピットに相当する凹凸パターンの露光時に、ウォブル信号に基づいてＡＯ偏向器で露光光をディスク半径方向に偏向させつつ原盤上に照射する。 - 特許庁

To provide a head lamp capable of effectively utilizing an invalid light by turning it into a light distribution pattern for low beam or motorway beam.例文帳に追加

無効光をすれ違い用の配光パターンおよびモータウエイ用の配光パターンに有効な配光に変化させて有効利用することができるようにした点である。 - 特許庁

To provide a conductive charged particle beam forming material having improved edge roughness of a pattern, and also to provide a method to form charged particle beam using the same material.例文帳に追加

パターンのエッジラフネスを向上させた導電性を有する荷電粒子線成形体及びそれを用いた荷電粒子線の成形方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In such a case, the position of the laser beam L is detected, and the position of the modulation pattern H in the spatial light modulator is changed based on the detected position of the laser beam L.例文帳に追加

このとき、レーザ光Ｌの位置を検出すると共に、検出したレーザ光Ｌの位置に基づいて空間光変調器における変調パターンＨの位置を変化させる。 - 特許庁

A beam having a sectional dimension in accordance with the dimension of a pattern B is formed, a member having an edge is scanned by the beam, and a signal waveform obtained by the scanning is stored.例文帳に追加

次に、パターンＢの寸法に対応した断面寸法のビームを成形し、該ビームでエッジを有する部材上を走査し、該走査により得られた信号波形を記憶する。 - 特許庁

An emission surface 112b of the collimator lens 112 has an integrally formed optical diffraction section 112c converting the laser beam into the laser beam having a dot pattern by diffraction.例文帳に追加

コリメータレンズ１１２の出射面１１２ｂに、レーザ光を回折によりドットパターンを持つレーザ光に変換する光回折部１１２ｃが一体的に形成されている。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography system which can reduce the influence of electron beam leakage on a sample by dislocating a stage when a pattern-drawing process is suspended.例文帳に追加

描画処理が一時的に停止した場合に、ステージを移動して電子ビーム漏れによる試料への影響を低減することのできる電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

Consequently, the user only inputs the shape of the room and then beam control is performed with the beam control pattern suitable to the room, so that multichannel audio can be reproduced most suitably.例文帳に追加

これにより、ユーザは部屋の形状を入力するのみで、その部屋に適したビーム制御パターンでビーム制御され、マルチチャンネルオーディオを最適に再生することが可能になる。 - 特許庁

To provide a system and method for electron beam exposure by which a pattern can be exposed on a wafer with accuracy, by correcting the irradiation time of an electron beam upon the wafer.例文帳に追加

ウェハに対する電子ビームの照射時間を補正し、精度よくウェハにパターンを露光することができる電子ビーム露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

Accordingly, as projection of the electron beam onto the cell can be turned on and off without blanking the electron beam, a pattern can be drawn on the substrate at a high speed.例文帳に追加

これにより、電子線をブランキングすることなく、セルに対する電子線のオン及びオフが可能となるため、基板に対して高速にパターンを描画することが可能となる。 - 特許庁

The electron beam lithography device controls the wobbling amount of the master disk at an arbitrary value at drawing picture of a desired pattern on the rotating exposure master disk with the electron beam.例文帳に追加

本発明の電子線描画装置は、回転する露光原盤に電子線で所望のパターンを描画する時に原盤の面振れ量を任意の値に制御する。 - 特許庁

A beam having a sectional dimension in accordance with the dimension of a pattern A is formed, a member having an edge is scanned by the beam, and a signal waveform obtained by the scanning is stored.例文帳に追加

パターンＡの寸法に対応した断面寸法のビームを成形し、該ビームでエッジを有する部材上を走査し、該走査により得られた信号波形を記憶する。 - 特許庁

To inhibit appearance of a stripe pattern due to variation in irradiation energy density of a laser beam in a process for forming an active matrix region using a linear laser beam.例文帳に追加

線状のレーザー光を用いたアクティブマトリクス領域の形成工程において、レーザー光のビーム内照射エネルギー密度のバラツキによる縞模様表示を抑制する。 - 特許庁

The laser beam machining apparatus 1 performs the machining of the predetermined pattern on the workpiece W by irradiating the workpiece W to be conveyed by a belt conveyor 50 with laser beam.例文帳に追加

レーザ加工装置１は、ベルトコンベア５０によって搬送されるワークＷに対してレーザ光を照射することで、ワークＷ上に所定のパターンの加工を行う。 - 特許庁

To realize highly accurate pattern lithography in a charged particle beam exposure device by detecting an intensity distribution of a radiated charged particle beam and controlling to make the distribution uniform.例文帳に追加

荷電粒子線露光装置において、照射荷電粒子線の強度分布を検出し、該分布を均一にするように制御することで、精度よいパターン描画を実現する。 - 特許庁

To provide a multi-columnar electron beam exposure device and a method of multi-columnar electronic beam exposing which can perform the exposure of the same pattern in a plurality of columns even with finely variable rectangular beams.例文帳に追加

微細な可変矩形ビームでも、複数のコラムで同じパターンの露光ができるマルチコラム型電子ビーム露光装置及びマルチコラム型電子ビーム露光方法を提供すること。 - 特許庁

An irradiation position on a substrate 9 is moved to scan with a light beam from a light beam exiting unit 411 by a stage moving mechanism 31 and a head unit moving mechanism 32 so as to draw the expanded drawing pattern including the information pattern on a resist for forming a wiring pattern on the substrate 9.例文帳に追加

そして、ステージ移動機構３１およびヘッドユニット移動機構３２により光ビーム出射部４１１からの光ビームの基板９上における照射位置が走査され、情報パターンを含む拡張描画パターンが基板９上の配線パターン形成用のレジストに描画される。 - 特許庁

To provide a projector type headlight for a vehicle structured so as to form a low-beam light distribution pattern, with a structure of shade standardized, and capable of forming a light distribution pattern for OHS (Overhead Sign) irradiation without generating large light distribution unevenness on the low-beam light distribution pattern.例文帳に追加

ロービーム用配光パターンを形成するように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯において、シェードの構成を標準化した上で、ロービーム用配光パターンに大きな配光ムラを発生させてしまうことなく、ＯＨＳ照射用配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁

This vehicular lighting fixture system 100 includes a vehicular lighting fixture 10 capable of forming a light distribution pattern for a low beam and a light distribution pattern for a high beam in a switching system, and a control part 302 for controlling the light distribution pattern in a switching system based on information for indicating a front state of one's own vehicle.例文帳に追加

車両用灯具システム１００は、ロービーム用配光パターンとハイビーム用配光パターンを切替形成可能な車両用灯具１０と、自車の前方状況を示す情報に基づいて配光パターンを切替制御する制御部３０２と、を備える。 - 特許庁

To provide a method for correcting data for drawing a mask pattern, which can be generally and practically used by determining the correction amount of an auxiliary pattern as the drawing data so as to improve the squareness of a mask pattern in the manufacture of a photomask employing a drawing apparatus using a charged beam such as an electron beam.例文帳に追加

電子線等の荷電ビームによる描画装置を用いたフォトマスクの製造において、マスクパターンの矩形性を向上させるため、描画データとしての補助パターンの補正量を決定し、汎用性があり実用的なマスクパターンの描画用データ補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a drawing method applicable to an ordinary drawing system using a positive resist and drawing patterns by irradiating the portions where there is no pattern data with an electron beam or laser beam in the drawing method for a photomask with the additional patterns provided with the additional patterns for making the pattern density of the photomask uniform and to provide a method for forming the pattern data used therefor.例文帳に追加

フォトマスクのパタン密度を均一化する付加パタンを設けた、付加パタン付きフォトマスクの描画方法で、ポジレジストを用い、パタンデータの無い部分に電子ビームまたはレーザ光を照射して描画する、通常の描画方式に適用できる描画方法を提供する。 - 特許庁

An additional lamp is provided on the front part of a vehicle so that a part of the light distribution pattern overlaps that of a low-beam lamp, and the brightness is set so that a high brightness area a_2 in the light distribution pattern is continued to a similar brightness area h_2 in the light distribution pattern of the low-beam lamp.例文帳に追加

本発明に係る追加灯具は、すれ違い灯具と配光パターンの一部が重なり合うように車両の前部に設けられ、その配光パターンにおける高光度域ａ_2がすれ違い灯具の配光パターンにおける同程度の光度域ｈ_2と連なるように光度が設定されている。 - 特許庁

The method for forming a pattern includes: a cooling step of irradiating a coating film containing inorganic powder formed on a substrate with a laser beam for drawing a pattern and simultaneously cooling the portion irradiated with the laser beam; and a step of removing a portion except for the pattern.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、基材上に形成した無機粉末を含む塗膜に対し、パターンを描画するレーザー照射と同時にそのレーザー照射部を冷却する冷却工程と、前記パターン以外の部分を除去する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To make a light distribution pattern for a high beam formed by an irradiation light have superior distant visibility in addition to a constitution of beam switching of a low beam and a high beam in a projector type vehicular headlight unit in which a light-emitting element is a light source.例文帳に追加

発光素子を光源とするプロジェクタ型の車両用前照灯ユニットにおいて、ロービームとハイビームとのビーム切換えを行い得る構成とした上で、その照射光により形成されるハイビーム用配光パターンを遠方視認性に優れたものとする。 - 特許庁

To obtain an electron beam drawing apparatus, where an electron beam is capable of reaching to a shutoff stop edge passing through a distance much smaller than a total deflection amplitude at shutoff and deflection of a beam, a time required for shutting off a beam is markedly shortened, and a drawing pattern is improved in resolution.例文帳に追加

ビーム遮断偏向時の全偏向振幅よりはるかに小さい距離で遮断絞りエッジにビームを到達させ、ビーム遮断までの時間を大幅に短縮して描画パターンのエッジ解像度を向上させることができる電子ビーム描画装置を実現する。 - 特許庁

The pattern correcting device is equipped with a substrate table 10, a laser beam irradiating device 1, an optical system 21 that adjusts the laser beam to a micro beam diameter, and a table control means for controlling the movement of the table 10 so that the beam scans the entirety of the area to be corrected.例文帳に追加

基板テーブル１０と、レーザ光出射装置１と、レーザ光を微小ビーム径とする光学系２１と、そのビームが修正領域の全域を走査するように上記テーブル１０の動きを制御するテーブル制御手段を備えるパターン修正装置とする。 - 特許庁

By this beam moving equipment, the beam is moved in the longitudinal direction within a time duration in which a film which is irradiated with the condensed laser beam 2 is melted and solidified, covering the distance corresponding to the 1/2 phase or larger of the interference pattern existing in the longitudinal direction of the condensed laser beam 2.例文帳に追加

このビーム移動装置により、集光レーザビーム２が照射されている膜部分が溶融し固化する時間内に、集光レーザビーム２の長手方向に存在する干渉縞の位相の１／２以上に相当する距離を長手方向に移動する。 - 特許庁

To realize a method for calibrating the irradiation time of an electron beam in a variable area electron beam lithography system in which irradiation time error of the electron beam for a material being written can be corrected in the blanking operation of electron beam and a pattern can be written more accurately.例文帳に追加

電子ビームのブランキング動作における電子ビームを被描画材料に照射する時間の誤差を補正することが可能で、より正確なパターンを描画できる可変面積型電子ビーム描画装置における電子ビームの照射時間校正方法を実現する。 - 特許庁

The scanning beam is detected while the detection section 20 is being moved in the beam main scanning direction, the position of the detection section 20 is stored in synchronization with the pattern for evaluating scanning beams, thus measuring and evaluating the position of the scanning beam according to the position of the scanning beam and that of the detection section 20.例文帳に追加

検出部２０をビーム主走査方向に移動しながら走査ビームを検出し、検出部２０の位置を走査ビーム評価用パターンと同期して記憶して、走査ビーム位置と検出部２０の位置とによって走査ビームの位置を測定評価する。 - 特許庁

At this time, the substrate S is etched with an ion beam, while controlling the tilt angle of the substrate so that the incident direction of the beam at the previously-found position on the element becomes parallel to a pattern sidewall for obtaining a pattern for the optical element having the pattern sidewall parallel with respect to the incident beam to the element.例文帳に追加

このとき、先に求めた回折光学素子上の任意の位置における光線の入射方向とパターン側壁とが平行になるように、基板Ｓのチルト角度を制御しながらイオンビームエッチングを行うことにより、回折光学素子に対する入射光線と回折光学素子パターン側壁が平行な回折光学素子用パターンを得る。 - 特許庁

A vehicle headlight device is provided with: a light source for forming a high-beam light distribution pattern including a region above a cut-off line of a low-beam light distribution pattern; and a headlight device control ECU for increasing or decreasing the illuminance of the high-beam light distribution pattern by controlling the light source based on information obtained from a vehicle detection device.例文帳に追加

車両用前照灯装置は、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方の領域を含むハイビーム用配光パターンを形成可能な光源と、車両検知装置から得られた情報に基づいて、光源を制御してハイビーム用配光パターンの照度を増減せしめる前照灯装置制御ＥＣＵと、を備える。 - 特許庁

A communication device includes a light receiving unit which receives a light beam carrying information, a decoder which reads the information from the light beam, a retroreflector which reflects the light beam, and a response pattern forming unit which determines a response pattern based on the information and forms the response pattern by interrupting a portion of reflected light from the retroreflector.例文帳に追加

通信装置は、情報を搬送する光線を受光する受光部と、光線から情報を読み取るデコード部と、光線を反射する再帰性反射体と、情報に基づいて応答パターンを決定し、再帰性反射体による反射光の一部を遮ることによって応答パターンを形成する応答パターン形成部とを備える。 - 特許庁

To provide a method for determining a correction pattern capable of reducing man-hours for determining a correction pattern, in determining a periodic unevenness correction pattern of an apparatus for scanning a recording body by deflecting a light beam with a rotary polygon mirror, and to provide a light beam scanner for scanning a recording body by deflecting a light beam with the rotary polygon mirror.例文帳に追加

光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的むら補正パターンを決定する場合、補正パターン決定のための工数を減らすことができる補正パターンの決定方法及び光ビームを回転多面鏡で偏向して記録体上を走査する光ビーム走査装置を提供する。 - 特許庁

The pattern mask comprises a mask substrate 10 which contacts a pattern formation layer 2 on a substrate 1, a plurality of electron beam shielding region 11 formed on the mask substrate 10, a plurality of electron beam transmission region 12 formed on the mask substrate 10, and a plurality of minute adhesive layers 14 for increasing the degree of contact of the electron beam shielding region 11 which contacts the pattern formation layer 2.例文帳に追加

基材１上のパターン形成層２に接触するマスク基材１０と、マスク基材１０に形成される複数の電子線遮蔽領域１１と、マスク基材１０に形成される複数の電子線透過領域１２と、パターン形成層２に接触する電子線遮蔽領域１１の接触度を高める複数の微粘着層１４とを備える。 - 特許庁

A shift selectivity of the first complex reference beam is larger than that of the second complex reference beam so that the second interference pattern is used as a servo pattern to sequentially determine where the first interference patterns have been stored.例文帳に追加

第１複素参照光の移動選択度が第２複素参照参照光の移動選択度より大きいので、第２干渉縞をサーボパターンとして用いて、第１干渉縞が格納されている位置を順次決定する。 - 特許庁

The boundary regions 12AB, 12BC each have an arrangement in which a parallel line pattern used for emitting a laser beam from one irradiating optical system is mixed with a parallel line pattern used for emitting a laser beam from the other irradiation optical system.例文帳に追加

境界領域１２ＡＢ，１２ＢＣでは、一方の照射光学系によりレーザビームを照射する平行線パターンと、他方の照射光学系によりレーザビームを照射する平行線パターンとを混合した配置にする。 - 特許庁

To irradiate a beam with a luminous intensity distribution pattern in response to a travelling condition of a vehicle, in a vehicular headlamp formed by storing a lamp unit to irradiate the beam frontward with a prescribed luminous intensity distribution pattern in a lamp body.例文帳に追加

ランプボディの内部に所定の配光パターンで前方へビーム照射を行う灯具ユニットが収容されてなる車両用前照灯において、車両走行状況に即応した配光パターンでビーム照射を行えるようにする。 - 特許庁

The center peak of a diffracted beam pattern being detected is removed by a shield plate disposed in front of the line sensor or by applying an image processing thereto, thereby measuring the width to be measured of the micro tool based on the detected diffracted beam pattern.例文帳に追加

この検出される回折光パターンの中心ピークを、ラインセンサの前に設けた遮蔽板または画像処理によって取り除くことにより、検出された回折光パターンからマイクロ工具の被測定幅を測定する。 - 特許庁