「pattern layout」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

After then, when the operator who sets another original to a scanner 12 presses a start key 111a, the CPU 100 prepares image data combining image data, which is fetched and reduced previously, to the position of the header or footer with respect to the image data obtained by reading the original in accordance with a layout pattern, etc., based on a set parameter.例文帳に追加

その後に、別の原稿をスキャナ１２にセットした操作者がスタートキー１１１ａを押すと、ＣＰＵ１００は、設定されたパラメータに基づくレイアウトパターン等に従って、原稿を読み取って得られた画像データに対するヘッダー又はフッターの位置に、先に取り込んで縮小した画像データを結合させることにより、イメージデータを作成する。 - 特許庁

The method of designing a semiconductor integrated circuit includes the steps of: selecting a first cell to be reduced, from layout pattern data designed in advance; calculating the area of a free space which is adjacent to the first cell; and fixing one side selected according to the area of the free space, and for reducing the first cell by changing the other side opposite to the one side.例文帳に追加

本発明による半導体集積回路の設計方法は、事前に設計されたレイアウトパタンデータから縮小対象の第１セルを選択するステップと、第１セルに隣接する空き領域の面積を算出するステップと、空き領域の面積に応じて選択された一辺を固定し、前記一辺に対向する他の辺を変動させて前記第１セルを縮小するステップとを具備する。 - 特許庁

To provide a print system capable of setting the number of output sheets for booklet print, and selectively generating the optimal output layout pattern for booklet output corresponding to the number of output sheets for booklet print, and obtaining an available booklet even when the number of prints exceeds the number of output sheets for booklet output.例文帳に追加

冊子印刷用出力用紙枚数を設定可能にすると共に冊子印刷用出力用紙枚数に応じた最適な冊子印刷用出力レイアウトパターンの選択生成を可能にし、印刷枚数が冊子印刷用出力用紙枚数よりも多い場合でも冊子として利用可能な冊子印刷用出力レイアウトパターンを選択生成できることを目的とする。 - 特許庁

Further, while reducing the photomask verification time by reducing the number of times of executing the optical intensity simulation, those having no effect on the manufacture of a semiconductor or on the operation or the characteristics of a semiconductor element are excluded from the photomask verification result so that only the fatal defect is detected, thereby reducing the time and the number of processes related to the correction of layout pattern CAD data.例文帳に追加

加えて、光強度シミュレーションの実施回数を削減することにより、フォトマスク検証時間の削減を図りつつ、さらに半導体製造上、あるいは半導体素子の動作、特性に影響を与えないものをフォトマスク検証結果から除外し致命的な欠陥のみを検出し、レイアウトパターンＣＡＤデータの修正に関わる時間、工数を削減する。 - 特許庁

In the multi-project-chip semiconductor device, semiconductor elements fabricated on a wafer have a layout that corresponds to an exposure order of a pattern of the semiconductor elements and that is based on information indicating manufacture conditions and the number of shots and are arranged such that the semiconductor elements having the same manufacture condition are adjacent to each other in ascending or descending order of the number of shots.例文帳に追加

マルチプロジェクトチップ方式の半導体装置において、ウェーハ上に形成された複数の半導体デバイスは、前記複数の半導体デバイスのパターンの露光順序に合わせて、製造条件とショット数を示す情報とに応じた配置を有し、同じ製造条件の半導体デバイスは近接して、ショット数が多い順又は少ない順に配置されているように構成する。 - 特許庁

This device is provided with a first correction value decision means S150 dividing a mask pattern based on the data for the lithography at every prescribed part (S120, S130) and deciding a correction value based on deterioration due to exposure of its devided part and correction value adjustment means (S160, S170) adjusting the correction value based on the layout environment in the vicinity of its devided part.例文帳に追加

リソグラフィ用データに基づくマスクパターンを所定の部分ごとに分割し（Ｓ１２０，Ｓ１３０）、その部分の露光による劣化に基づいて補正値を決定する第一補正値決定手段（Ｓ１５０）と、補正値をその部分の周辺のレイアウト環境に基づいて調整する補正値調整手段（Ｓ１６０，１７０）とを有することにより上記課題を解決する。 - 特許庁

The method of designing a semiconductor integrated circuit includes the steps of: calculating the risk of occurrence of a problem for each place on the semiconductor integrated circuit to be designed, based on the result of process simulation performed using a previously designed layout pattern 204 and physical model 201; and correcting a design standard 203 according to the risk for each place and generating a compaction condition 206 for each place.例文帳に追加

本発明による半導体集積回路の設計方法は、事前に設計されたレイアウトパタン２０４と物理モデル２０１とを用いて行われるプロセスシミュレーションの結果に基づいて、設計対象となる半導体集積回路上の場所毎に、不具合の発生する危険度を算出するステップと、場所毎の危険度に応じて設計基準２０３を修正し、場所毎のコンパクション条件２０６を生成するステップとを具備する。 - 特許庁

When a layout pattern M which consists of plural elements having fixed relative position relations and can be specified by position relations of individual elements is retrieved from a picture 20, the picture processor detects all elements in the picture 20 and temporarily records detection position information in a buffer picture 25 which has pixels corresponding to those of the picture 20 respectively and has the same size as the picture 20.例文帳に追加

画像処理装置は、複数のエレメントからなり、各エレメントが一定の相対的な位置関係を有するパターンであって、各エレメントの位置関係によりそのパターンを特定できる配置パターンＭを画像２０中から検索する際に、まず、画像２０中の全エレメントを検出し、その検出位置情報を一旦、その各画素が画像２０の各画素と対応し、画像２０と同じサイズを有する画像であるバッファ画像２５に記録する。 - 特許庁

By this net list extracting method, information on connections among elements is extracted from a layout pattern, designed so that blocks have hierarchical structure, while the hierarchical structure is held; and a dummy element is formed between input and output terminals in a block positioned in a specific layer (step S25) and then only the input and output terminals are extracted without extracting elements in the block.例文帳に追加

複数のブロックが階層構造を有するように設計されたレイアウトパターンから、階層構造を保持したまま素子間の接続情報を抽出する集積回路のネットリスト抽出方法であり、所定の階層に位置するブロックに対して、このブロック内の入出力端子間に擬似の抵抗素子を形成することにより（ステップＳ２５）、前記ブロック内の素子を抽出することなく、前記入出力端子のみ抽出を行う。 - 特許庁

Further, through-holes to be recording holes 45 are continuously formed by the press machine 51, with a layout pattern showing identification information correlated with the press machine 51, identification information correlated with a die 54 loaded onto the press machine 51, identification information correlated with a punching member 52 loaded onto the press machine 51, "manufacturing year" and "manufacturing month" (identification information recording step).例文帳に追加

さらに、連続して、プレス機５１によって、ノズル１０８が形成されたプレート１３０'に、当該プレス機５１に関連づけられた識別情報、当該プレス機５１に装着されている金型５４に関連づけられた識別情報、当該プレス機５１に装着されているパンチ部材５２に関連づけられた識別情報、「製造年度」及び「製造月」を示す配置パターンで配置された記録孔４５となる貫通孔を形成する（識別情報記録工程）。 - 特許庁