「pattern layout」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method and a device of simulation capable of designing an aperture so as to obtain an optimum resolution and DOF and a recording medium where the method of simulation is recorded which can be read out by a computer, considering the layout status of a circuit pattern in a photomask.例文帳に追加

フォトマスクの回路パターンのレイアウト状態を考慮し、最適の解像度及びＤＯＦを得るようにアパーチュアを設計できるシミュレーション方法及び装置、及びシミュレーション方法を記録したコンピュータで読み取りできる記録媒体を提供する。 - 特許庁

The document file creation supporting device 2 determines a character indicated by a document image based on the document image of a raster data format, creates an image pattern for imaging a character image based on the determination result, creates a reproduced image 260 by arranging the created image pattern according to layout information of the document image, and displays the created reproduced image 260.例文帳に追加

文書ファイル作成支援装置２は、ラスタデータ形式の原稿画像に基づいて、原稿画像で表示される文字を判別し、判別結果に基づいて文字画像を表象する画像パターンを生成し、生成された画像パターンを原稿画像のレイアウト情報に従って配置して再現画像２６０を作成し、作成された再現画像２６０を表示する。 - 特許庁

When, from the layout screen p1, a plurality of air conditioning modes except a combination of mutually exclusive air conditioning modes are selected for an optional air conditioning target zone, a wind direction pattern based on the selected respective air conditioning modes is decided according to the predetermined priority of the respective air conditioning modes, and the indoor machines 2a-2d are controlled based on the wind direction pattern.例文帳に追加

このレイアウト画面ｐ１上から、任意の空調対象ゾーンに対し、相互排他的な空調モードの組み合わせを除く複数の空調モードが選択された場合、各空調モードの所定の優先順位に従って、選択された各空調モードに基づく風向パターンが決定され、この風向パターンに基づいて室内機２ａ〜２ｄが制御される。 - 特許庁

In a COF 1, having semiconductor elements 2 bonded to and mounted on a wiring pattern a long tape carrier, the wiring pattern is disposed in a layout so as to increase the utilization area of the tape carrier (i.e., to lessen unwanted regions 3) and so as to have a plurality of directions in the tape carrying direction of the tape carrier.例文帳に追加

長尺のテープキャリア上の配線パターンに半導体素子２を接合・搭載してなるＣＯＦ１において、上記配線パターンが、テープキャリアの利用面積が大きくなるようなレイアウト（すなわち、不要領域３が小さくなるようなレイアウト）で、テープキャリアのテープ送り方向に対して複数の方向を有するように配置されている。 - 特許庁

The system and method enumerate a set of variables and pattern intervals to construct (109) an inspection structure and analyze a series of layout patterns according to design rules by simulation (115) using a lithography model to obtain a partition of the pattern spaces into one portion 133 that requires only rule-based OPC and another portion 131 that requires model-based OPC.例文帳に追加

本システムおよび方法は、パターン空間の、ルールベースＯＰＣのみを必要とする部分１３３と、モデルベースＯＰＣを必要とする別の部分１３１との区分を得るために、リソグラフィ・モデルを用いたシミュレーション１１５によって、設計ルールしたがって変数値とパタン間隔の集合を列挙して検査構造を構築し１０９、一連のレイアウト・パターンを分析する。 - 特許庁

By using a set of patterns comprising a universal start pattern and an end pattern and document structure information, regions between parts corresponding to the set of the patterns from a plurality of documents are respectively extracted; and the results therefrom are collected and reconstructed according to the document structure information and layout information and displayed in a form allowing a user to edit them.例文帳に追加

汎用的な開始パターン及び終了パターンからなるパターンの組と文書構造情報を用いて、複数の文書から前記パターンの組に該当する個所の間の領域をそれぞれ抽出し、結果を前記文書構造情報とレイアウト情報に従って集約して再構成し、ユーザが編集可能な状態で表示する。 - 特許庁

To provide a method for producing a mask capable of easily designing a mask utilized in production of a substrate by divided exposure without causing an increase in production costs, and to provide a storage medium in which a mask pattern layout program is stored and an apparatus for producing the mask.例文帳に追加

製造コストの増大を招くことなく分割露光によって基板を製造する際に利用されるマスクを容易に設計できるマスク製造方法、マスクパターンレイアウトプログラムを記憶した記憶媒体、及びマスク製造装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

If the logic circuit includes a circuit having an n-th (1≤n≤N) logic and an m-th (1≤m≤M) current supply capacity in step S30, the circuit connection information and the layout pattern are created using the n-th logic cell and the m-th current supply cell.例文帳に追加

ステップＳ３０において、論理回路が第ｎ（１≦ｎ≦Ｎ）の論理と第ｍ（１≦ｍ≦Ｍ）の電流供給能力を有する回路を含む場合には、第ｎの論理セルと第ｍの電流供給セルを用いて回路接続情報及びレイアウトパターンを作成する。 - 特許庁

The server 5 forms sheet information composed of layout information, function information and dot pattern information based on questionnaire information acquired from an input terminal 50, and forms a format for an optimized questionnaire sheet 3 based on the sheet information.例文帳に追加

サーバ５は、入力端末５０から取得したアンケート情報に基づいて、レイアウト情報、機能情報及びドットパターン情報から構成される用紙情報を作成し、当該用紙情報に基づいて、最適化したアンケート用紙３のフォーマットを作成する。 - 特許庁

The parameter determining unit specifically determines parameters on mechanical stress applied to a transistor having a gate serving as a gate electrode according to the layout pattern of a plurality of gates when the gates are provided in the same diffusion region.例文帳に追加

パラメータ決定手段は、同一の拡散領域内に複数のゲートが設けられている場合において、ゲート電極として機能するゲートを有するトランジスタにかかる機械的応力に関するパラメータを、複数のゲートのレイアウト形状に応じて一意に決定する。 - 特許庁

When print data including print target data are received from an external device 100 while a print pattern setting mode is established, all the layout patterns, in which the print target data are arranged in respective print areas defined by the template data, are generated (S12).例文帳に追加

印刷パターン設定モードが設定されている場合に、外部装置１００から印刷対象データを含む印刷データが受信されると、テンプレートデータに規定された各印刷領域に印刷対象データを配置した配置パターンが全て生成される（Ｓ１２）。 - 特許庁

Introduction of the multi- dimensional beam pattern establishes the base of a 3D ultrasound imaging system comprising a small multi-dimensional sensor layout and a device to be arranged at site, and a three-dimensional image with high resolution is generated in real time.例文帳に追加

本発明に従った多次元ビームパターンを導入すると、小型多次元センサ配列と現場に配備できる小型処理装置とからなる本発明に従った３Ｄ超音波映像システムの基盤となり、リアルタイムで高解像度の３次元映像を生成する。 - 特許庁

To provide a program creation device for changing layout in displaying a camera image and a measurement result on the display of an image processing controller, and for switching a display pattern on a display according to the decision result of the validity/invalidity of an inspection object.例文帳に追加

画像処理コントローラのディスプレイ上にカメラ画像及び計測結果を表示させる際のレイアウトが変更でき、検査対象物の良否の判定結果に応じてディスプレイ上の表示パターンを切り替えることができるプログラム作成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a layout edition apparatus by which the sorts of dot patterns specified in respective component images arranged on a page can be displayed as a list, component images on which specific dot patterns are specified can be collectively selected and the dot pattern of a selected component image can be easily changed and a method and a program for displaying component images in the layout edition apparatus.例文帳に追加

ページ上に配置された部品画像それぞれに指定された網点パターンの種類を一覧することができ、また特定の網点パターンが指定されている部品画像を一括して選択することができ、さらに選択した部品画像の網点パターンの変更を容易に行うことができるレイアウト編集装置、レイアウト編集装置における部品画像表示方法、およびプログラムを提供することにある。 - 特許庁

The failure analysis apparatus 10 comprises an inspection information acquisition section 11 for acquiring at least a pattern image P1 of the semiconductor device, a layout information acquisition section 12 for acquiring a layout image P3, a failure analysis section 13 for the analysis of a failure of the semiconductor device, and an analysis screen display control section 14 for allowing a display device 40 to display information on the failure analysis.例文帳に追加

半導体デバイスのパターン画像Ｐ１を少なくとも取得する検査情報取得部１１と、レイアウト画像Ｐ３を取得するレイアウト情報取得部１２と、半導体デバイスの不良についての解析を行う不良解析部１３と、不良解析についての情報を表示装置４０に表示させる解析画面表示制御部１４とによって不良解析装置１０を構成する。 - 特許庁

When compressed document data having separately an image pattern dictionary data part 51 containing pairs of image patterns and indexes and a document layout data part 52 containing pairs of area identification information and indexes are inputted, the image patterns paired with the indexes in the image pattern dictionary data part 51 out of both data parts are replaced with image patterns representing new translation characters.例文帳に追加

画像パターンとインデックスの各対を内包する画像パターン辞書データ部５１、及び領域識別情報とインデックスの各対を内包する文書レイアウトデータ部５２を個別に有する圧縮文書データが入力されると、それら両データ部のうち、画像パターン辞書データ部５１にて各インデックスと対を成している画像パターンを、翻訳された新たな文字を表す画像パターンと差し替える。 - 特許庁

This print controller controlling a printer has: a division pattern reception means receiving setting of a splitting pattern of a print target page; a layout means laying out a plurality of split one areas to the page; and a print data generation means generating print data for printing the page laid-out with the plurality of areas.例文帳に追加

印刷装置を制御する印刷制御装置であって、印刷対象ページの分割パターンの設定を受け付ける分割パターン受け付け手段と、分割された１の領域を、ページに複数割り付ける割付手段と、領域が複数割り付けられたページを印刷するための印刷データを生成する印刷データ生成手段とを備えることを特徴とする印刷制御装置。 - 特許庁

In the pixel layout structure wherein each auxiliary capacitor 25B for B pixels is formed straddling the boundary between two pixels which are adjacent in a horizontal direction, an island-shaped metal pattern 26 is formed as a dummy pattern in a region between pixels of R and G where no auxiliary capacitor 25B is formed, i.e. at a position corresponding to the auxiliary capacitor 25B.例文帳に追加

Ｂ画素用の補助容量２５Ｂが水平方向において隣接する２つの画素間に跨って形成される画素レイアウト構造において、レーザーアニールによるＴＦＴ特性を一定にするために、補助容量２５Ｂが形成されないＲ，Ｇの画素間の領域、即ち補助容量２５Ｂと対応する部位に島状の金属パターン２６をダミーパターンとして形成する。 - 特許庁

Then, mesh division of an input layout is performed to calculate wiring density, the total perimeter length of wiring, and the density differential maximal value of each mesh as mesh data, and a critical map showing whether or not mesh data of each mesh are in the critical region and a predicted value of the height variation of the whole pattern are calculated.例文帳に追加

そして、入力されたレイアウトパターンをメッシュ分割して各メッシュの配線密度、配線周囲長、密度差最大値をメッシュデータとして算出し、各メッシュのメッシュデータがクリティカル領域にあるか否かを示すクリティカリティマップと、パターン全体の高さばらつきの予測値とを算出する。 - 特許庁

A design support device 200 extracts an arbitrary cell from the layout of a circuit to be designed where the cells composed of transistors are arranged, detects another cell adjacent to the extracted cell, and sets the delay value of the cell as a result from the detection in response to the arrangement pattern of another cell adjacent to the cell.例文帳に追加

設計支援装置２００は、トランジスタからなるセルが配置された設計対象回路のレイアウトの中から任意のセルを抽出し、抽出されたセルに隣接する他のセルを検出し、検出された結果、セルに隣接する他のセルの配置パターンに応じて、セルの遅延値を設定する。 - 特許庁

The location of a transistor 13 described in a layout pattern file 43 is verified by referring to both the location of the transistor 13 as indicated by a ROM bitmap file 46 created by a ROM bitmap file creating part 45 and information on the connection of the transistor 13 described in a net list file 47.例文帳に追加

ＲＯＭビットマップファイル作成部４５により作成されたＲＯＭビットマップファイル４６が示すトランジスタ１３の配置位置とネットリストファイル４７に記述されているトランジスタ１３の接続情報を参照して、レイアウトパターンファイル４３に記述されているトランジスタ１３の配置位置を検証する。 - 特許庁

In an LSI layout pattern which is laid out to obtain desired circuit constitution and circuit characteristics, capacitance cells 18 prepared in advance are arranged in empty areas in a wiring region 12, and are connected between power sources (VDD-GND).例文帳に追加

この発明は、所望の回路構成及び回路特性を得るためにレイアウトされたＬＳＩのレイアウトパターンにおいて、配線領域１２の空き領域に予め用意された容量セル１８を配置し、この容量セルを電源間（ＶＤＤ−ＧＮＤ）に接続して構成される。 - 特許庁

To provide a system analyzing a document file (a document) including text boxes modifying text, managing causation between a layout pattern of the respective text boxes and a category, and adding a comment to notify a lacking text box and the like for performing creation support and quality management of the document.例文帳に追加

テキストを装飾するテキストボックスを含む文書ファイル（ドキュメント）の分析を行い、各々のテキストボックスの配置パタン及びカテゴリの因果関係を管理し、不足するテキストボックス等を報知するためのコメントを付与することでドキュメントの作成支援、品質管理を行うシステムを提供する。 - 特許庁

In cell layout design processing, a design device 11 calculates a signal access rate as a quantification of the number of signal access tracks to form signal lines connecting to the terminals included in a cell, depending on the design of a semiconductor device, and changes the pattern of terminals according to the signal access rate.例文帳に追加

設計装置１１は、セルのレイアウト設計処理において、半導体装置のデザインに応じて、セルに含まれる端子に接続する信号配線を形成するための信号アクセストラック数を定量化した信号アクセス率を算出し、信号アクセス率に従って対応する端子のパターンを変更する。 - 特許庁

To reduce wiring impedance and an area of a dummy pattern by increasing the flexibility of disposition and wiring of analog circuits or the like other than logical circuits, in a semiconductor integrated circuit including a logical circuit section layout designed by disposing/wiring a plurality of cells.例文帳に追加

複数のセルを配置・配線することによってレイアウト設計される論理回路部を有する半導体集積回路において、論理回路以外のアナログ回路等の配置や配線の自由度を増加させて配線のインピーダンス低減を図ると共に、ダミーパターンの面積を削減する。 - 特許庁

Taking into consideration physical information of a mask pattern within a chip and the actual results of cells or functional blocks, sorting 1303 failures and weighting of failures are carried out, and a failure inspection 1306 with high precision and high efficiency based on an actual failure or a layout is carried out.例文帳に追加

チップ内におけるマスクパターンの物理的な情報、また、セルや機能ブロックの実績を考慮して、故障の起こりやすさの順番づけ１３０３及び故障の重みづけを行ない、実際の故障に基づく高精度かつ高効率の故障検査１３０６やレイアウトを行なう。 - 特許庁

On a reference mark plate FM, four reference marks WM_1, WM_2, WM_3, WM_4 for measuring the base line of an alignment system ALG are disposed in such a layout that the mean position of these marks aligns with the position of a measuring pattern ST for detecting a reticle alignment mark RM.例文帳に追加

基準マーク板ＦＭには、アライメント系ＡＬＧのベースライン計測用の４つの基準マークＷＭ_１，ＷＭ_２，ＷＭ_３，ＷＭ_４の平均位置が、レチクルアライメントマークＲＭを検出する計測用パターンＳＴの位置と一致するような配置で形成されている。 - 特許庁

After a mask pattern is formed by making the layout of a cell library subjected to the OPC processing, the correction amount of the OPC is adjusted by taking into consideration the influences of patterns of other cell libraries laid around the cell library on the peripheral region of the cell library.例文帳に追加

あらかじめＯＰＣ処理が施されたセルライブラリをレイアウトしてマスクパターンを形成した後、セルライブラリの周囲に配置された他のセルライブラリのパターンがセルライブラリの周辺領域に及ぼす影響を考慮することによって、上記ＯＰＣ補正の補正量を調整する。 - 特許庁

To carry out failure inspection with high precision or high efficiency based on an actual failure or carry out layout in consideration of physical information of a mask pattern and the actual results of cells or functional blocks within a chip of a semiconductor integrated circuit, to contribute to reduction of failures such as initial failures, etc.例文帳に追加

半導体集積回路のチップ内におけるマスクパターンの物理的な情報、セルや機能ブロックの実績を考慮し、実際の故障に基づく高精度かつ高効率の故障検査やレイアウトを行なう事を可能として、初期不良などの故障の低減に寄与できるようにする。 - 特許庁

To provide a layout setting device for an eyeglass lens grinding system that improves work efficiency while allowing a user to input without errors by enabling the user to arbitrarily set a cursor display position on an initial display screen and by providing an input order corresponding to a machining pattern.例文帳に追加

初期表示画面におけるカーソル表示位置を任意に設定可能とすることで、加工パターンに合わせた入力順序を提供することで、誤り無く入力できかつ作業効率を向上させることを目的とする眼鏡レンズ研削加工装置のレイアウト設定装置を提供すること。 - 特許庁

Each layout jig 14 has a groove 18 for inserting a flat cable, a means for clipping the flat cable inserted and an anti-rising portion for truing up the insertion depth of the flat cable and is arranged with the direction and height of the insertion groove 18 changed so as to correspond to a laying pattern of flat cables.例文帳に追加

各配索治具14は、フラットケーブルの差込み溝18と、差し込まれたフラットケーブルを挟み付ける手段と、フラットケーブルの差し込み深さを一定にそろえる突き当て部とを有し、フラットケーブルの配索パターンに対応するように差込み溝18の向き及び高さを変えて設置してある。 - 特許庁

A main control substrate 20 (main CPU 20a) generates environment adjusting information for adjusting the layout (vertical position) of the visible display part of a pattern display device 18 on the basis of the detection result of a human sensing sensor SE1 for detecting the physical feature (the seated height) of a player.例文帳に追加

主制御基板２０（メインＣＰＵ２０ａ）は、遊技者の身体的特徴（座高の高さ）を検知する人検知センサＳＥ１の検知結果に基づき、図柄表示装置１８の可視表示部の配置（上下位置）を調節するための環境調節情報を生成する。 - 特許庁

To provide a two-dimensional code pattern capable of reflecting information on an original electronic document by accurately acquiring the information added with handwriting to a document printed on a print document 21 by utilizing various handwriting input devices without damaging the layout of the document and without any cost increase.例文帳に追加

文書のレイアウトを損なうことなく、しかもコストアップ無しで印刷文書２１に印刷した文書にさまざまな手書き入力装置を利用して手書きで加筆した情報を正確に取得し、元の電子文書にその情報を反映させることができる２次元コードパターンを提供する。 - 特許庁

The bookbinding server 20, on the basis of designation from the mobile phone 10, generates print data for combining and printing the user image data read out from a database and material image data in accordance with a pattern (image layout) based on template data read out from a database (ST5).例文帳に追加

製本サーバ２０は、携帯電話機１０による指定に基づいて、データベースから読み出したテンプレートデータに基づいたパターン（画像配置）で、データベースから読み出した上記ユーザ画像データと素材画像データとを組み合わせて印刷するための印刷データを生成する（ＳＴ５）。 - 特許庁

A method for sorting defects of a semiconductor device comprises steps of extracting a wiring position which becomes a fault candidate by superposing layout pattern data of a semiconductor chip with a defecting image, discriminating wirings of the extracted fault candidate according to a wiring function type, and sorting a short-circuit mode type, a disconnection mode type or the like according to a wiring fault mode type.例文帳に追加

半導体チップのレイアウトパターンデータと欠陥画像との重ね合わせによって、不良候補となる配線箇所を抽出し、抽出した不良候補の配線の配線機能種別を弁別することで、ショートモード種別や断線モード種別等の配線不良モード種別を分類する。 - 特許庁

The optical proximity effect related to width is corrected by parallelly sliding a first outline 12 forming a corner 13 to the outside and parallelly sliding a second outline 11 forming the corner 13 to the inside in a layout pattern 10 in the design stage of the inside of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置内部の設計段階におけるレイアウトパターン１０において、角１３を形成する第１の外郭線１２を外側に平行にスライドさせ、かつ角１３を形成する第２の外郭線１１を内側に平行にスライドさせることにより、幅に関する光近接効果を補正する。 - 特許庁

A die is virtually divided into a plurality of minute zones 21, and a necessary amount of dummy metals is simply and quickly inserted so as to put together dummy metal patterns 24 after inserting the dummy metal patterns 24 into at least a part of the minute zones 21 where a layout pattern 20 is not arranged.例文帳に追加

ダイを仮想的に複数の微小領域２１に分割し、レイアウトパターン２０が配置されていない微小領域２１の少なくとも一部にダミーメタルパターン２４を挿入した後に、これらダミーメタルパターン２４を接合するため、必要な量のダミーメタルを簡易かつ迅速に挿入できる。 - 特許庁

The deep groove 3 is provided in plural intermittent or continuous streak form, and a large number of characteristic identification patterns formed by the deep grooves 3 can be provided by a combination formed by varying the repetition pitch and streak layout pattern, and these identification patterns are allotted every item of the grooves 2 and used for visual identification.例文帳に追加

その深溝３を複数の断続するもしくは連続する筋状に設け、その繰り返しピッチやその筋状の配置パターンを変えるなどの組合せにより、深溝による固有の識別パターンを多数設けることができ、これを前記溝の各諸元毎に割り当て、目視による識別に利用する。 - 特許庁

In order to take out the embedded information data, a covering ratio of the pattern to the mask area is calculated from image data obtained by photographing a generated image, to detect corresponding information data, and entire embedded information data are decoded in accordance with the layout order of block areas and the like.例文帳に追加

埋め込まれた情報データを取り出すためには、生成された画像を撮影することによって得られる画像データから、マスク領域に対する図柄の被覆割合を計算して相当する情報データを検出し、さらにブロック領域の配置順等から埋め込まれた全情報データを復号する。 - 特許庁

Related to the manufacturing method for a bipolar transistor, the external base region is formed into a heavily-doped region and a lightly-doped region at a ratio between them, by only changing the layout pattern of the heavily-doped external base region 8, so that the number of manufacturing processes will not increase, resulting in easier manufacture and shorter construction period.例文帳に追加

また、バイポーラトランジスタの製造方法は、高濃度外部ベース領域８のレイアウトパターンを変更することだけで、外部ベース領域が任意の比率で高濃度の領域と低濃度の領域とに形成されることにより、製造工程の数が増えないので、製造が容易で工期が短くなる。 - 特許庁

Therefore, processing can be performed using a rule checker such as DRC, LVS, ERC and the like, bugging is suppressed and the layout pattern can be obtained more accurately.例文帳に追加

第２パターンを含むマスクを用いた場合、第２の黒領域と白領域とを透過する光強度が平均化されて中間調の光強度を得る正常なパターンとして扱うことができるため、ＤＲＣや、ＬＶＳ、及びＥＲＣ等、ルールチェッカにより処理することが可能となり、バグ発生を抑え、より正確なレイアウトパターンを得ることができる。 - 特許庁

The semiconductor circuit parasitic capacitive element extracting device 1 is provided with a means 2 for correcting the permittivity of the dielectric body existing between circuit wires in response to insertion of the metal dummy pattern, and a means 3 for extracting a parasitic capacitive element between the circuit wires on the basis of the corrected permittivity and a circuit layout.例文帳に追加

半導体回路寄生容量素子抽出装置１が、回路配線間に存在する誘電体の誘電率を、メタルダミーパターンの挿入に対応して補正する手段２と、補正された誘電率と回路レイアウトに基づいて、回路配線間の寄生容量素子を抽出する手段３とを備える。 - 特許庁

A two-dimensional layout determining apparatus 10 determines a pattern 11 having a plurality of apertures of the same size (Wx×Wy), and a three-dimensional structure determining apparatus 20 determines a three-dimensional groove structure with a depth d and an undercut length Uc to shift the phase of transmitted light by 180° for the apertures of even numbers.例文帳に追加

二次元レイアウト決定装置１０により、同一サイズ（Ｗｘ×Ｗｙ）の複数の開口窓を有するパターン１１を決定し、三次元構造決定装置２０により、偶数番目の開口窓について、透過光の位相を１８０°シフトするため、深さｄ、アンダーカット量Ｕｃをもった三次元溝構造を決定する。 - 特許庁

In the mask layout pattern verification method of a semiconductor integrated circuit, predetermined rectangular data is selected by examining the number of vertexes and the presence of a long side for data to be verified, the coordinates of four vertexes are extracted for the selected rectangular data, and the long side direction and the coordinate of the center of the rectangular data are calculated.例文帳に追加

半導体集積回路のマスクレイアウトパターン検証方法において、検証対象データに対して頂点数と長辺の存在を調べることにより、所定の矩形データを選別し、選別された矩形データに対して、４頂点の座標を抽出し、矩形データの長辺方向及び中心座標を算出する。 - 特許庁

This semiconductor device has two or more kinds of chips 110 and 120 formed on the same semiconductor wafer, and the two or more kinds of chips have at least one inspection region 330 consisting of the same layout pattern in every portion between respective chips, and the inspection region 330 is a region wherein the existence of the marking is inspected.例文帳に追加

半導体装置は、同一の半導体ウエハ上に形成された複数種類のチップ１１０，１２０を有し、複数種類のチップは、各チップ間で同一のレイアウトパターンからなる検査領域３３０を少なくとも一つずつ有し、検査領域３３０は、マーキングの有無を検査される領域である。 - 特許庁