「pattern layout」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a technology for appropriately verifying the accuracy of a simulation model of a semiconductor layout pattern.例文帳に追加

半導体のレイアウトパターンのシミュレーションモデルの精度を適切に検証する技術を提供する。 - 特許庁

A verifying content of the partial region of the pattern layout is stored in a checking history data file 7.例文帳に追加

パターンレイアウトの一部の領域の確認内容を確認履歴データファイル７に保存させる。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device of which the layout pattern of a sub-hole region can be simplified.例文帳に追加

サブホール領域のレイアウトパターンを単純化することのできる半導体メモリ装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure defective area calculating method of accurately calculating a pattern formation detective area, caused by a step pattern in a step pattern layout plane, in a short time.例文帳に追加

段差パターンに起因するパターン形成不良領域を、段差パターンレイアウト面内で正確かつ短時間に算出する露光不良領域算出方法を得ること。 - 特許庁

To provide a pattern layout method capable of efficiently extracting the length or width of a forming part comprising a pattern or area such as critical area out of that pattern.例文帳に追加

パターンの中から、そのパターンを構成する形状部分の長さや幅、あるいはクリティカルエリアなどの領域を効率的に抽出できるパターンレイアウト方法を提供する。 - 特許庁

A standard is set up to plural parameters affecting size of the circuit pattern and further layout of the mask pattern provided in the mask corresponding to the circuit pattern is determined.例文帳に追加

回路パターンの寸法に影響を及ぼす複数のパラメータに対して規格を設定すると共に、回路パターンと対応してマスクに設けられるマスクパターンのレイアウトを決定する。 - 特許庁

To obtain a method for creating an evaluation pattern, by which an evaluation pattern enabling verification of sufficient stability of a pattern layout with respect to the ambient environment can be created in a short period of time.例文帳に追加

パターンレイアウトの周辺環境に対して十分な安定性を検証できる評価パターンを短時間で作成する評価パターン作成方法を得ること。 - 特許庁

To provide a pattern distortion correcting device which corrects the distortion of a layout pattern while taking not only an edge shift quantity but a process margin as well into consideration.例文帳に追加

エッジシフト量だけでなく、プロセスマージンも考慮しながら、レイアウトパターンの歪み補正を行うパターン歪み補正装置を提供する。 - 特許庁

The first transmitting pattern has a dimension in the periodical layout direction, the dimension corrected to be smaller than a designed finish pattern dimension.例文帳に追加

そして、第１の透過パターンは、周期的な配置方向の寸法が、設計上の完成パターン寸法よりも、小さく補正されている。 - 特許庁

The layout is designed in such a manner that the mask pattern contains only a pattern 142 with the maximum aperture and the pitch 145 of the aperture patterns 142 is as specified above.例文帳に追加

マスクパターンを最大開口パターン１４２のみとし、開口パターン１４２同士のピッチ１４５を上記規定幅として設計する。 - 特許庁

To provide a method for managing layout pattern data for a liquid crystal display device that easily copies pattern data while maintaining a hierarchical structure.例文帳に追加

階層構造を維持しつつパターンデータを容易にコピーできる液晶表示装置用レイアウトパターンデータの管理方法を提供する。 - 特許庁

(Step S2) A dummy pattern is inserted between design patterns of the division regions as shown in a division region enlarged view A of a layout pattern 1c.例文帳に追加

レイアウトパターン１ｃの分割領域拡大図Ａに示すように、分割領域の設計パターン間にダミーパターンを挿入する（ステップＳ２）。 - 特許庁

The relative layout of the first pattern and the second pattern is determined on the basis of the changed first reference and the second reference (S304).例文帳に追加

変更後の第一基準と第二基準とに基づき、第一模様と第二模様の相対的な配置が決定される（Ｓ３０４）。 - 特許庁

The measuring unit 3 measures the distance between a dummy pattern and the other pattern based on the layout design data including an element pattern constituting the circuit element of a semiconductor device and a dummy pattern not constituting the circuit element.例文帳に追加

測定部３は、半導体装置の回路素子を構成する素子パターンと、回路素子を構成しないダミーパターンと、を含むレイアウト設計データに基づいて、ダミーパターンと他のパターンとの間隔を測定する。 - 特許庁

Next, each subaperture is divided into two interferential subsets of the beam pattern with a round/linear layout in the directions of different coordinates in the multi-dimensional layout.例文帳に追加

次に各サブアパーチャを多次元配列の異なる座標方向に円形及び／又は線形配列のビームパターンの２つの干渉性サブセットに分解する。 - 特許庁

To improve the layout of a pattern definition device in a particle-beam exposure apparatus to become a layout which lends itself to a production by inexpensive state-of-the-art processes.例文帳に追加

粒子ビーム露光装置におけるパターン規定デバイスのレイアウトを、廉価な最新のプロセスによる製造に適するレイアウトになるように改善する。 - 特許庁

To provide a layout display apparatus and method which enables to display, in a short time, a defined layout pattern in lithographic data or test data.例文帳に追加

描画データもしくは検査データに定義されたパターンレイアウトを短時間で表示することが可能なレイアウト表示装置およびレイアウト表示方法を提供する。 - 特許庁

A layout template constituted of a container showing a display area of each component of the UI is held as a layout pattern of the UI in a database.例文帳に追加

ＵＩの配置の雛形として、ＵＩの各構成部品の表示領域を示すコンテナによって構成されるレイアウトテンプレートをデータベースに保持しておく。 - 特許庁

The design rule checker 115 generates a third layout pattern with only the unmarked patterns of the layout being validated against the set of specified design rules.例文帳に追加

デザインルールチェッカー115は、特定のデザインルールのセットに照らして検証されているレイアウトのマークされないパターンのみを有する第３のレイアウトパターンを生成する。 - 特許庁

To provide a method for marking a lens, which simply forms a layout pattern on the surface of the lens while flexibly responding to various layout patterns.例文帳に追加

様々なレイアウトパターンに柔軟に対応しつつ、レイアウトパターンをレンズ表面に簡便に形成することのできるレンズのマーキング方法を提供すること。 - 特許庁

The layout apparatus designs the layout of the semiconductor integrated circuit device by using the graphic data of two or more layers having at least one pattern graphic.例文帳に追加

レイアウト装置は、少なくとも１つのパターン図形を有する複数層の図形データを用いて半導体集積回路装置のレイアウト設計を行う。 - 特許庁

For example, two layout patterns are prepared for every one layout type, and one layout pattern is selected from the two layout patterns in accordance with which of portrait-oriented and landscape-oriented the image data is on the basis of an up-down direction at the observation time as a reference.例文帳に追加

例えば、１つのレイアウトタイプごとに２通りのレイアウトパターンを用意し、画像データが観測時上下方向を基準にして縦長／横長のいずれであるかに応じて、前記２通りのレイアウトパターンの中から１つのレイアウトパターンを選択する。 - 特許庁

Assist patterns are generated in the original layout by deducting the assist pattern layout from the original layout, whereby the scum in the exposure step of transferring the layout having assist patterns generated therein, onto a semiconductor substrate is suppressed.例文帳に追加

原本レイアウトから補助パターンのレイアウトを差引して原本レイアウトに補助パターンを生成させて、補助パターンが生成されたレイアウトを半導体基板上に露光過程によって転写する露光過程中のスカムを抑制するリソグラフィ方法を提供する。 - 特許庁

An area in a pattern layout of an original product corresponding to the display area coordinates is expanded by a magnification equal to that of the predetermined area in the pattern layout of the new product and displayed linked with the monitor.例文帳に追加

表示領域座標に相当する元製品のパターンレイアウト中の領域が新製品のパターンレイアウト中の所定領域と等しい倍率で拡大されてモニタに連動して表示される。 - 特許庁

Data consistency is kept when data A1 and B1 corresponding to a common pattern layout is edited with a plurality of different CAD software A and B, and the efficiency in editing the pattern layout can be improved.例文帳に追加

共通するパターンレイアウトに対応するデータA1，B1を異なる複数のＣＡＤソフトＡ，Ｂで編集する際の各データ間での整合性を保持し、パターンレイアウトの編集作業の効率を向上できる。 - 特許庁

The device for correcting layout pattern data is provided with a pattern dividing means with which a layout pattern of a circuit is divided into plural regional patterns on the basis of a predetermined dividing rule, and a pattern classifying means with which plural regional patterns formed by being divided by the pattern dividing means are classified at every different mask on the basis of a predetermined classifying rule.例文帳に追加

回路のレイアウトパターンを、所定の分割ルールに基づいて、複数の領域パターンに分割するパターン分割手段と、該パターン分割手段により分割されてなる複数の領域パターンを、所定の分類ルールに基づいて、異なるマスク毎に分類するパターン分類手段とを設ける。 - 特許庁

The pattern data generation apparatus further comprises a dividing section which divides layout data on a device on the basis of the pattern dimension to create divided layout, an extraction section which extracts the self-organization information corresponding to the pattern dimension of the divided layout from the table, and a generation section which assigns the self-organization information extracted by the extraction section to the divided layout to generate pattern data.例文帳に追加

パターンデータ生成装置は、さらに、デバイスのレイアウトデータをパターン寸法に基づいて分割し、分割レイアウトを作成する分割部と、前記分割レイアウトのパターン寸法に対応する前記自己組織化情報を前記テーブルから抽出する抽出部と、前記分割レイアウトに、前記抽出部により抽出された前記自己組織化情報を割り当ててパターンデータを生成する生成部と、を備える。 - 特許庁

A layout pattern of the memory cell for the test is made a same pattern as the layout pattern of the memory cell, the memory cell section 103 for the test is arranged closely to a memory cell arranged at a position at which a ferroelectric capacitor is easy to deteriorate.例文帳に追加

テスト用メモリセルのレイアウトパターンは、メモリセルのレイアウトパターンと同一としてあり、テスト用メモリセル部１０３は、複数のメモリセルのうち、強誘電体キャパシタが劣化しやすい位置に配置されているメモリセルに対して、近接して、配置されている。 - 特許庁

In a rating process, all the layout patterns prepared in the layout pattern preparing process are rated direction by direction on the basis of the preset degree of column adjacency, degree of plane dispersion and degree of vertical dispersion to rate each layout pattern.例文帳に追加

点数付け工程では、配置パターン作成工程で作成された全ての配置パターンに対し、各方向毎に、予め設定された柱隣接度，平面的分散度，立面的分散度に基づいて点数付けを行うことで、各配置パターン毎に点数を付ける。 - 特許庁

To provide a pattern layout method for a liquid crystal panel which improves design efficiency and suppresses a data size.例文帳に追加

設計効率を向上し、データサイズを抑制できる液晶パネル用パターンレイアウト方法を提供する。 - 特許庁

Layout pattern data of a multi-power source integrated circuit are produced by use of an automatic arrangement wiring tool or the like (S1).例文帳に追加

自動配置配線ツール等を用いて多電源集積回路のレイアウトパターンデータを作成する（Ｓ１）。 - 特許庁

Hereupon, in the aged-deterioration counteracting step 50, the initial-mask layout pattern 10 is modified based on the evaluated results.例文帳に追加

経年劣化対策ステップ５０では、評価結果に基づいて初期マスクレイアウトパターン１０を修正する。 - 特許庁

To provide a mask layout pattern data verification device) capable of efficiently executing detailed circuit simulation.例文帳に追加

効率的に詳細な回路シミュレーションを行うことができるマスクレイアウトパターンデータ検証装置を提供する。 - 特許庁

To reduce a pattern layout area while preventing bit inversion in a multi-bit DA conversion circuit.例文帳に追加

多ビットのＤＡ変換回路において、ビット反転を防止するとともに、パターンレイアウト面積を小さくする。 - 特許庁

To provide a pattern correcting method of layout data by which a data throughput and processing time are greatly shortened.例文帳に追加

データ処理量と処理時間とを大幅に短縮した、レイアウトデータのパターン補正方法を提供する。 - 特許庁

ARITHMETIC METHOD OF LAYOUT PATTERN, PHOTOMASK, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

レイアウトパターンの演算方法、フォトマスク、半導体装置の製造方法、半導体装置、並びに電子機器 - 特許庁

The wiring filling factor is checked by scanning a specific measurement area on a layout pattern of wiring.例文帳に追加

配線のレイアウトパターン上の所定の測定領域内を走査して配線充填率をチエックする。 - 特許庁

Further, use of a common electrode helps realize the symmetry of a circuit pattern (layout) with ease.例文帳に追加

また、共通電極を用いたことで、回路パターン（レイアウト）の対称性を容易に実現することができる。 - 特許庁

To increase flexibility in pattern layout of a gate extraction electrode and a source electrode without increasing chip thickness.例文帳に追加

チップ厚みの増加を招くことなく、ゲート引出電極とソース電極のパターンレイアウトの自由度を高くする。 - 特許庁

The current photograph arrangement is made to vary with the lapse of time in the photograph arrangement of the current photograph layout pattern.例文帳に追加

現写真配置は、時間の経過とともに現写真レイアウトパターンの写真配置の中で変化させる。 - 特許庁

The electrode region layout 70 is combined with a pattern having standard tiles 72 two-dimensionally arranged.例文帳に追加

この電極領域レイアウト７０に、標準タイル７２が二次元的に配列されたパターンを合成する。 - 特許庁

The method of generating a design layout pattern of a semiconductor aims to generate by a projection optical system a layout pattern in which wiring lines are designed in the same pitch on a wafer, and the method includes a process of making uniform wiring line end parts 101 of the layout pattern 100 and the opposition space 101a between patterns formed in this wiring line direction.例文帳に追加

ウェハ上に配線ラインが等ピッチで設計されているレイアウトパタンを投影光学系により形成するための半導体設計レイアウトパタン生成方法であって、レイアウトパタン１００の配線ライン端部１０１とこの配線ライン方向に配置されたパタン間の対向スペース１０１ａを均一化する工程を含む。 - 特許庁

The reference chip is compared with the pattern of the inspection chip, and a defect generation place where a pattern defect can be easily generated is specified in the layout (S3 to S5).例文帳に追加

リファレンスチップと検査チップのパターンを比較し、レイアウト内においてパターン欠陥が生じやすい欠陥発生箇所を特定する（Ｓ３〜Ｓ５）。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an exposure mask by which a mask pattern with high dimensional accuracy can be formed without depending on the layout of the design pattern.例文帳に追加

設計パターンのレイアウトによらずに寸法精度の良好なマスクパターンを形成することが可能な露光マスクの作製方法を提供する。 - 特許庁

Layouts are created, based on layout patterns for which information about an area to dispose content is defined, and if the number of different layouts created is below a predetermined number, a new layout pattern is created by the layout patterns.例文帳に追加

コンテンツの配置領域の情報が定義されているレイアウトパターンに基づいてレイアウトを生成し、生成するレイアウトの異なり数が所定の個数に満たない場合、レイアウトパターンにより新規のレイアウトパターンを生成すること。 - 特許庁