「pattern layout」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an exposure method which does not cause a focus error for the amount of the thickness of a lower pattern, without necessity to consider the relation between the layout of the lower sensor and the position of a focus sensor.例文帳に追加

下層パターンのレイアウトとフォ−カスセンサ位置の関係を考慮する必要なく，下層パターンの膜厚分の焦点誤差を生じない露光方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an embroidery frame and an embroidery sewing machine with which an object to be sewn can be easily set/removed and further, the layout of an embroidery pattern is facilitated.例文帳に追加

この発明の目的は、被縫製物のセット／取り外しが容易で、更に、刺繍パターンのレイアウトが容易に出来る刺繍枠および刺繍ミシンを提供することである。 - 特許庁

To provide a highly reliable evaluation method for a semiconductor integrated circuit which can perform more correct and highly precise evaluations based on an actual pattern layout.例文帳に追加

実際のパターンレイアウトに即した、より正確で高精度な評価が行える信頼性の高い半導体集積回路の評価方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

A self-alignment type assist pattern (SAP) can be automatically derived from an original design layout using geometric Boolean operation based upon several predefined design rules.例文帳に追加

幾つかの事前定義された設計規則に基づいて幾何学的ブール演算を用いて元の設計レイアウトからセルフアライメント型アシストパターン（ＳＡＰ）を自動的に導出できる。 - 特許庁

When the preview data displayed on the liquid crystal display 55 are selected (S17:YES), the layout pattern satisfying the preview data is set to the template data (S18).例文帳に追加

液晶ディスプレイ５５に表示されたプレビューデータが選択されると（Ｓ１７：ＹＥＳ）、当該プレビューデータに係る配置パターンがテンプレートデータに対して設定される（Ｓ１８）。 - 特許庁

METHOD OF FORMING PAD PATTERNS USING SELF-ALIGN DOUBLE PATTERNING METHOD, PAD PATTERN LAYOUT FORMED USING THE SAME, AND METHOD OF FORMING CONTACT HOLES USING SELF-ALIGN DOUBLE PATTERNING METHOD例文帳に追加

セルフアラインダブルパターニング法を使用したパッドパターンの形成方法、それによって形成されたパッドパターンレイアウト、及びセルフアラインダブルパターニング法を使用したコンタクトホールの形成方法 - 特許庁

To obtain a memory cell of SRAM comprising a well contact cell and a memory cell in which disturbance of periodicity is suppressed in the layout of pattern of a diffusion region or a polysilicon layer.例文帳に追加

ウェルコンタクトセルとメモリセルとを有するＳＲＡＭのメモリセルにおいて、拡散領域やポリシリコン層等のパターンのレイアウトの周期性が乱れるのを抑制する。 - 特許庁

The hard macro 10 is provided with a layout pattern, wherein there is a blank region of a size sufficient to arrange at least one cell that can establish the function of a repeater.例文帳に追加

ハードマクロ１０は、少なくとも一つのリピータの機能を実現可能なセルを配置することができる大きさの空白領域が設けられているレイアウトパターンを有する。 - 特許庁

By comparing the evaluation value with a reference value, the portion of the layout where the evaluation value imparted is smaller than the reference value is detected as a specified pattern optically inconvenient to exposure transfer.例文帳に追加

評価値を基準値と比較し、基準値よりも小さい評価値の付与されたレイアウトの部分を、光学的に露光転写が不都合な特定パターンとして検出する。 - 特許庁

A layout is designed according to the final net list and then wiring that passes through the dots without fail is performed, so that a desired wiring pattern can automatically be generated.例文帳に追加

この最終ネットリストに基づきレイアウト設計をすれば、ドットを必ず通過する配線が行われ、その結果所望の配線パターンを自動的に生成することができる。 - 特許庁

The delay characteristics of the delay gate can thus be easily recontrolled by changing the layout pattern of a wiring layer which is made at the last in semiconductor manufacturing processes.例文帳に追加

半導体製造プロセスにおいて最後に作製される配線層のレイアウトパターンを変更することで、遅延ゲートの遅延特性を容易に再調整することができる。 - 特許庁

A connection specification part 221 specifies a ground pattern of the printed circuit board and a connection to which external ground of the printed circuit board is electrically connected, by referring to the layout information.例文帳に追加

接続部特定部221は、レイアウト情報を参照して、プリント基板のグラウンドパターンと、プリント基板の外部のグラウンドを電気的に接続する接続部を特定する。 - 特許庁

To quickly and exactly predict a part where a level difference equal to or greater than a predetermined level difference occurs when a film to be flattened on a pattern is flattened, thereby correcting the layout in a short time.例文帳に追加

パターン上の被平坦化膜を平坦化する際に所定以上の段差が発生する箇所を迅速かつ的確に予測し、短時間でレイアウト修正を行うこと。 - 特許庁

To avoid necessity of management of rotation direction and/or reduction in the visibility of pattern after rotation relating to a rotation operation in layout of process marks formed in a scribe region.例文帳に追加

スクライブ領域に形成するプロセスマークのレイアウト時の回転操作に関し、回転方向の管理の必要性及び／又は回転後のパターン視認性の低下などを回避する。 - 特許庁

The layout apparatus extracts each of a first pattern graphic and a second pattern graphic forming the same node from the graphic of the respective two layers, extracts an AND graphic in which the first pattern graphic and the second pattern graphic are ANDed, and generates a contact via in a prescribed shape according to a prescribed inclusion reference inside the AND graphic.例文帳に追加

レイアウト装置は、各２つの層の図形データから同一ノードを形成する第１パターン図形及び第２パターン図形をそれぞれ抽出し、第１パターン図形及び第２パターン図形を論理積処理した論理積図形を抽出し、論理積図形内に、所定の内包基準に従って所定形状のコンタクトビアを生成する。 - 特許庁

A data density calculating process part 4 shifts the detection range of layout data of the input process part 3 along an X or Y axis from the position where pattern data are calculated last, calculates the pattern density in the detection range having been moved, and decides whether or not the pattern density is ≥50%, thereby deciding a temporary error area when the pattern data density is ≥50%.例文帳に追加

データ密度計算処理部4は、入力処理部3のレイアウトデータを直前にパターンデータを演算した位置から、X軸方向又はY軸方向の何れかに検出範囲をずらし、移動後の検出範囲のパターン密度の計算を行い、パターンデータ密度が50％以上か否かの判定を行い、50％以上を仮エラー領域とする。 - 特許庁

When the operation for selecting any one of the plurality of icons displayed on the layout candidate display area 203 and moving the selected icon to the image on the facing pages is displayed in the facing page list 202, the layout of the image on the facing pages to be a moving destination is changed in accordance with the layout pattern corresponding to the moved icon.例文帳に追加

レイアウト候補表示領域２０３に表示された複数のアイコンのうちのいずれか１つを選択し見開きページ一覧２０２に表示された見開きページ上の画像に移動する操作が行われると、当該移動されたアイコンに対応するレイアウトパターンに従い当該移動先の見開きページ上の画像のレイアウトが変更される。 - 特許庁

From a coordinate of the exposed pattern on the layout data identified like this and a coordinate of the target position on a previously instructed layout data, a movement amount necessary to position the target position on the actual object to be processed onto the processing position is calculated.例文帳に追加

このようにして特定されたレイアウトデータ上における露出パターンの座標、及び予め指示されているレイアウトデータ上における目的位置の座標から、現実の被加工体上の目的位置を加工位置に位置させるために必要な移動量が演算される。 - 特許庁

A wiring pattern capacity calculating part 1c refers to the capacity value calculated by the capacity calculating part 1b, and calculates the capacity value between the wiring patterns of the semiconductor device to be designed and manufactured which is stored in a layout DB 1d as layout data.例文帳に追加

配線パターン容量算出部１ｃは、容量算出部１ｂが算出した容量値を参照して、レイアウトデータとしてレイアウトＤＢ１ｄに記憶されている、設計、製造しようとする半導体装置の配線パターン間の容量値を算出する。 - 特許庁

When a ground tint detecting means detects a prescribed dot pattern, the processing range of image damaging processing is changed over and output in accordance with the decipherment permission level of the user and layout analysis information to be obtained from a layout analysis processing means.例文帳に追加

前記地紋検知手段が所定のドットパターンを検知した場合に、使用者の判読許可レベルと前記レイアウト解析処理手段から得られるレイアウト解析情報に応じて、画像毀損処理の処理範囲を切り替えて出力することを特徴とする。 - 特許庁

An image division section 101 divides a two-dimensional image of multiple frames stored in an original image storage memory 106 into one-dimensional images, an image arrangement section 102 rearranges the layout of the divided images according to a layout pattern, and an image combining section 103 combines the divided images according to a coupling pattern and stores the result to a combined image storage memory 104.例文帳に追加

画像分割部１０１が原画像蓄積メモリ１０６に蓄積されている複数フレームの２次元画像を１次元画像に分割し，画像配置部１０２が分割された画像の画像配置を配置パターンに従って入れ替え，画像結合部１０３が分割された画像を結合パターンに従って結合して結合画像蓄積メモリ１０４に蓄積する。 - 特許庁

In the Braille layout creating method, following steps are performed: an information reading step for reading information out of a list window W2 wherein a multiple pieces of information for punching Braille dots are listed; a converting step for converting the read information into a Braille pattern; and an inputting step for inputting the Braille pattern to a Braille object frame OB2 on a tape image TI displayed in a layout window W1.例文帳に追加

点字打刻を行うための情報が複数列記されたリストウィンドウＷ２から、情報を読み出す情報読み出しステップと、読み出した情報を点字パターンに変換する変換ステップと、点字パターンを、レイアウトウィンドウＷ１に表示されたテープイメージＴＩ上の点字オブジェクト枠ＯＢ２に流し込む流し込みステップと、を実行するものである。 - 特許庁

To provide a solid state imaging apparatus capable of suppressing generation of a junction leakage current even when the layout pattern width of a floating diffusion layer becomes small and a polysilicon pattern is arranged circumferentially along the floating diffusion layer, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

浮遊拡散層のレイアウトパターン幅が小さくなり、かつその周囲にポリシリコンパターンが浮遊拡散層に沿って配置された場合でも、接合リーク電流の発生を抑制することができる固体撮像装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

When the sheet on which the image is to be formed is not a backing sheet, a dot pattern addition processing division 208 generates dots of a layout pattern which represents the attribution information of the image forming process, and adds it to the image data and supplies it to a PWM processing division 209.例文帳に追加

ドットパターン付加処理部２０８は、画像が形成される用紙が裏紙でない場合には、画像形成処理の属性情報を表すような配置パターンのドットを生成し、これを画像データに付加してＰＷＭ処理部２０９に供給する。 - 特許庁

When a timer starts counting and a specified time passes from the start of the special pattern game, the pattern is formed so as to show the plurality of already arrayed variable display segments shifting the layout positions thereof and displayed on the display device 43.例文帳に追加

タイマが特図ゲームの開始から所定時間の経過を計時すると、予め設定されている配置制御データに従って、既に配列した複数の変動表示部の配置位置を移動した画像を形成して表示装置４３に表示させる。 - 特許庁

An exposure mask to be inspected is used for carrying out pattern exposure to a reference chip under standard exposure conditions, the pattern exposure is carried out to a plurality of inspection chips by changing exposure conditions, and development treatment is made, thus manufacturing a first inspection wafer where the pattern with the same layout is formed in each chip (S1 to S2).例文帳に追加

検査を行う露光マスクを用いてリファレンスチップに対して標準の露光条件でパターン露光を行い、複数の検査チップに対して露光条件を変化させたパターン露光を行った後、現像処理を行うことで各チップに同一レイアウトのパターンを形成してなる第１検査ウエハを作製する（Ｓ１〜Ｓ２）。 - 特許庁

In a wiring pattern M112 having a bent part having locally different line width in a line system, the layout is divided into a rectangle pattern M114 having a large area and a node part M113 connecting the rectangle pattern, and M113 and M114 are separated by a slit S113 of ≤0.22×λ/NA dimension.例文帳に追加

ライン系で局所的に線幅が異なる屈曲した部位を有する配線パターンＭ１１２において、当該レイアウトを大面積のレクトアングルパターンＭ１１４とそれらを接続するノード部Ｍ１１３に分割し、Ｍ１１３とＭ１１４とを０．２２×λ／ＮＡ以下の寸法範囲内Ｓ１１３で分離する。 - 特許庁

In a mask layout having aperture patterns continuously and discretely disposed, a device pattern having a chevron pattern selectively having a large aperture part can be formed with high controlling property by specifying the pattern pitch P to satisfy 0.69λ/NA≤P≤0.85λ/NA, wherein λ is the exposure light wavelength and NA is the numerical aperture of a projection lens.例文帳に追加

開口パターンを連続的に離散配置したマスクレイアウトにおいて、パターンピッチＰを０．６９λ／ＮＡ≦Ｐ≦０．８５λ／ＮＡ（ここで、λは露光光波長、ＮＡは投影レンズの開口数）とすることで、選択的に大開口部を有するシェブロンパターンを有するデバイスパターンを制御性よく形成することができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the semiconductor device, whereby in the semiconductor device using a gate electrode such as SRAM, a gate electrode pattern is formed faithful to a reticle pattern, without making complicated layout design, and the region of the gate electrode pattern is reduced, as compared with prior art.例文帳に追加

ＳＲＡＭのようなゲート電極を用いる半導体装置において、複雑なレイアウト設計を経ないでレティクルパターンに忠実にゲート電極パターンが形成され、しかもこのゲート電極パターンの面積が従来より低減されて形成される半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A data processor 1 has a data input unit 2 and a data expanding/synthesizing unit 6, wherein data relating to a "single pattern" and a "repetitive pattern" stored in each of layout data A to C are read out in the data input unit 2 and expanded/synthesized into one pattern data in the data expanding/synthesizing unit 6.例文帳に追加

データ処理装置１は、データ入力部２とデータ展開・合成部６とを備え、データ入力部２でレイアウトデータＡ〜Ｃにそれぞれ格納された「単独図形」および「繰り返し図形」に関するデータを読み出し、データ展開・合成部６でそれらのデータを展開・合成することにより１つのパターンデータを作成する。 - 特許庁

To provide a method for layout verification, particularly DRC verification carried out following addition of a partial change to post-verification layout pattern data, of omitting time for DRC verification of a portion outside a verification target to shorten time for DRC verification such as an antenna ratio.例文帳に追加

半導体集積回路のレイアウト検証であって、検証済のレイアウトパタンデータへ部分的に変更を加えた後で行うＤＲＣ検証において、検証の対象とならない箇所に対するＤＲＣ検証の時間を省略し、アンテナ比のようなＤＲＣ検証の時間を短縮する。 - 特許庁

The wiring pattern of the integrated circuit is created on the basis of a net list S4 in which the connection information of this selected repeater is added to an original net list S8 and a layout data S5 in which the arrangement information of the repeater, temporarily arranged and not selected, is eliminated from the layout data S1 after the temporary arrangement.例文帳に追加

この選択されたリピータの接続情報が元のネット・リストＳ８に追加されたネット・リストＳ４と、仮配置されて選択されなかったリピータの配置情報が仮配置後のレイアウト・データＳ１から削除されたレイアウト・データＳ５とに基づいて、集積回路の配線パターンが生成される。 - 特許庁

To provide a wiring layout device for a semiconductor integrated circuit for reducing fluctuation in a wiring pattern dimension due to processing, improving accuracy of delay analysis in a layout design step, and facilitating attainment of a target operation frequency of a circuit.例文帳に追加

ダミー配線を極力付加することなく、加工による配線パターン寸法変動を抑制し、レイアウト設計段階で遅延解析をより正確にし、回路の目標動作周波数達成を容易化する半導体集積回路の配線レイアウト装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

By this, efficiently the self-propelled equipment can automatically travel according to a preliminarily fixed traveling pattern without providing the guiding means and inputting the maps of the shape of the room and layout of the furniture even when it automatically travels in the room where the furniture is put in a complicated layout.例文帳に追加

これによって、家具などが複雑な配置で置いてある室内などの自動走行時にもガイド手段を設けたり部屋の形状と家具配置のマップ等を入力する必要もなく、あらかじめ定めた走行パターンに従って効率よく自律走行を行う自走機器が提供出来るようになる。 - 特許庁

A converter 50 serving as a second converter means develops the internal data 45 or the contents of the common databases 30 to the layout data 60 in the CAD means 10 by means of a pattern file 55, and an output means 70 outputs the internal data 45 or the layout data 60 converted.例文帳に追加

第二のコンバータ手段であるコンバータ５０が、内部データ４５又は共通データベース３０の内容を、パターンファイル５５を用いてＣＡＤ手段１０の配置データ６０に展開し、出力手段７０が、内部データ４５又は変換された配置データ６０を出力する。 - 特許庁

To provide a metal core substrate capable of improving the degree of freedom in the layout of a circuit pattern, miniaturizing a substrate, and reducing its weight; and to provide a method of manufacturing the metal core substrate, and an electrical connection box.例文帳に追加

本発明は回路パターンのレイアウトの自由度、基板の小型化及び軽量化を図ることができるメタルコア基板及びその製造方法並びに電気接続箱を提供する。 - 特許庁

A terminal connecting body 6 of a single type having a fixed layout pattern of terminal pieces 7 is assembled to a connector body 2, and connection sections 8 between the terminal pieces 7 and 7 are exposed from exposure holes 5.例文帳に追加

ターミナル片７の配列パターンが一定の単一種類のターミナル連結体６をコネクタ本体２に組み付け、ターミナル片７，７間の連結部８を露出孔５から露出させる。 - 特許庁

In the pattern-layout structure of the multi-layer substrate, signal-line patterns 11-13 are disposed alternately between layers and guard patterns 21-23, having grounding potentials are disposed on the surfaces opposite to the respective signal-line patterns 11-13.例文帳に追加

信号線パターン１１〜１３を層間で交互に配置し、信号線パターン１１〜１３の対向面に、グランド電位とされたガードパターン２１〜２３を配置したパターンレイアウト構造を有する。 - 特許庁

An electron component (11) is arranged on a circuit layout (6) which is a conductor pattern of a surface of the flat-type conductor cable (1), and connected to at least one conductor (2) of the flat-type conductor cables.例文帳に追加

平形導体ケーブル（１）の表面の導体パターンである回路レイアウト（６）の上に電子コンポーネント（１１）が配置されて、平形導体ケーブルの少なくとも１つの導体（２）と接続される。 - 特許庁

To provide a method for correcting optical proximity effect and an apparatus therefor for carrying out optical proximity effect correction in a layout design pattern having a minute level difference without degrading the accuracy.例文帳に追加

微小段差を有するレイアウト設計パターンについて精度を劣化させることなく光近接効果補正を行える光近接効果補正方法及び装置を提供する。 - 特許庁

Then, an additional pattern to be added to the design layout is determined out of the potential additional patterns on the basis of a predetermined selection condition, for being added to the additional area.例文帳に追加

そして、前記付加パターンの候補の中から、予め設定された選択条件に基づいて、前記設計レイアウトに付加する付加パターンを決定して前記付加領域に付加する。 - 特許庁

All shot reticle patterns corresponding to divisions of a liquid crystal panel divided every shot are OR-computed to form an expected pattern showing the layout state of all exposed regions of the liquid crystal panel.例文帳に追加

液晶パネル領域をショット毎に分割したレチクルの全ショット分をＯＲ演算して、液晶パネル領域の全露光領域を配置させた状態を示す予想パターンを作成する。 - 特許庁

Then, a replacement cell name being the name of a correction pattern to be replaced corresponding to the determined environmental profile is read by referring to a cell replacement table to generate the layout data after correction.例文帳に追加

そして、セル置換テーブルを参照して、決定された環境プロファイルに対応して置き換えられるべき補正パターンの名前である置換セル名を読み出して、補正後レイアウトデータを生成する。 - 特許庁

In order to make the shrinking amount of the other patterns matched to that of the most densely arranged patterns on pattern layout, slit-like dummy patterns are arranged in advance around through-holes to be formed.例文帳に追加

パターンレイアウト上一番密なパターンのシユリンク量に他パターンのシュリンク量を整合させるために、あらかじめ形成されるスルーホールの周辺にスリット状のダミーパターンを配置させる。 - 特許庁

To shorten the time required for wiring at automatic pattern layout design of a semiconductor integrated circuit, and to prevent an MOS transistor from being damaged by the effect of a process antenna.例文帳に追加

半導体集積回路の自動パターンレイアウト設計時において、配線作業時間を短縮するとともに、プロセス・アンテナ効果によるＭＯＳトランジスタへのダメージ防止を実現する。 - 特許庁