「pattern layout」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a voltage-controlled oscillator that can be downsized and provides less restriction in the layout of components and an inner layer pattern and to provide a composite module and a communication apparatus.例文帳に追加

小型化が可能で、部品配置や内層パターンの制約が少ない電圧制御発振器、複合モジュールおよび通信装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated device which has a voltage- driving circuit of extremely low consumption current and is suitable for manufacturing, without enlarging the size of a layout pattern.例文帳に追加

消費電流の極めて小さい分圧回路を備え、レイアウトパターンの規模を大きくせず製造に適した半導体集積装置を提供すること。 - 特許庁

To increase integration while correcting optical proximity effect by devising the layout of a gate pattern in a semiconductor device having juxtaposed gate patterns.例文帳に追加

並列に並ぶゲートパターンを有する半導体装置において、ゲートパターンのレイアウトを工夫することによって、光近接効果を補正しつつ、集積度を向上させる。 - 特許庁

To provide a method for creating a mask layout for improving the arrangement accuracy when an auxiliary pattern is formed by using a coherence map method.例文帳に追加

コヒーレンスマップ法を使用して補助パターンを作成する場合に、その配置精度を向上させることが可能なマスクレイアウト作成方法を提供する。 - 特許庁

The pattern formation defect region is calculated by performing convolution operation of the correspondence relation on the layout used for forming the step portion.例文帳に追加

前記パターン形成不良領域は、前記段差部の形成に用いたレイアウトに対して前記対応関係の畳み込み演算を行うことによって算出される。 - 特許庁

To obtain a higher quality layout pattern by eliminating inter-layer transfer, detour and contact at or after automatic wiring and relieving wiring congestion.例文帳に追加

自動配線時もしくは自動配線後の配線の乗り換え、迂回、接触をなくして配線の混雑を緩和し、より品質の高いレイアウトパターンを得る。 - 特許庁

A test mask having a plurality of test patterns is produced (S1, S5) by changing shapes and layouts according to the shape and layout of a design pattern.例文帳に追加

設計パターンの形状および配置状態に応じて形状および配置状態を変化させた複数のテストパターンを備えたテストマスクを作製する（Ｓ１，Ｓ５）。 - 特許庁

(2) The picture processor combines the digital picture data, a background pattern 3, etc., in accordance with layout to edit/compose it for preparing composed picture data.例文帳に追加

（２）画像処理装置において、レイアウトに従って該デジタル画像データと背景パターン３等を組み合わせて編集、合成し合成画像データを作成する。 - 特許庁

Consequently, a pattern can be displayed in the layout display column E14 in the form suitable for actual image to be printed while being enlarged or contracted.例文帳に追加

このため、レイアウト表示欄Ｅ１４に表示される絵図を、拡大、縮小印刷された実際のイメージに適合した形で表示することができる。 - 特許庁

To easily extract a dangerous pattern which is apt to induce a defect from the chip layout of an integrated circuit and to contribute to improvement in yield and to stabilization of the process margin.例文帳に追加

集積回路のチップレイアウトの中から欠陥の生じやすい危険パターンを簡易に抽出し、歩留まり向上及びプロセスマージンの安定化に寄与する。 - 特許庁

To provide an OPC automatic correction system capable of efficiently revising a layout pattern in which an error is detected by verification after OPC correction.例文帳に追加

ＯＰＣ補正後の検証でエラーが検出されたレイアウトパターンの修正を効率的に行うことのできるＯＰＣ自動修正システムを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, SEMICONDUCTOR MASK DATA PRODUCING DEVICE, METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, AND METHOD FOR CORRECTING DESIGN LAYOUT例文帳に追加

半導体集積回路の製造方法、マスクの製造方法、半導体マスクデータ製造装置、マスクパターンの修正方法、及び設計レイアウトの修正方法 - 特許庁

Since the finished layout pattern is not a simple set of fixed patterns, a change of process or the like can be quickly coped with in the design object circuit.例文帳に追加

出来上がったレイアウトパターンも単なる固定パターンの集合ではないから、設計対象回路において、プロセスの変更等に迅速に対処することができる。 - 特許庁

To use a layout pattern for bulk type semiconductor device in an SOI type semiconductor device by converting it with minimum necessary alteration.例文帳に追加

バルク型半導体装置に用いられていたレイアウトパターンを必要最小限の変更でＳＯＩ型半導体装置のレイアウトパターンに変換して用いる。 - 特許庁

To correct a process model matching with each layout pattern set as the object of the simulation and to enhance the fitting accuracy of a simulation.例文帳に追加

シミュレーションの対象となる個々のレイアウトパターンに合わせてプロセスモデルを補正できるようにすると共に、シミュレーションのフィッティング精度を向上できるようにする。 - 特許庁

The electric signal converted to the form of signal waveform usable in the liquid circuit simulator is stored in relation to the liquid crystal pattern layout.例文帳に追加

液晶用パターンレイアウトに関連して液晶用回路シミュレータで用いることのできる信号波形の形式に変換した電気信号を保存する。 - 特許庁

Further, since it is not necessary to arrange a number of apertures for inserting the protruding portion for the cross-linked body 10 to the membrane switch 7, it can facilitate a pattern layout.例文帳に追加

また、メンブレンスイッチ７には、クロスリンク体１０用の切り起こし部を挿通させるための多数の孔を設ける必要がなくなるので、パターンレイアウトが容易になる。 - 特許庁

Thus, patterns up to each input output terminal will not be placed closely to each other, and mutual interference of the board pattern layout between the systems are prevented.例文帳に追加

従って、各入出力端子までのパターンが近接配置されることがなく、基板パターンレイアウトが系統間で相互干渉するが防止される。 - 特許庁

There is provided a flare prediction method in a photolithography comprising: a step S14 of obtaining a pattern density distribution of a pattern layout; a step S15 of obtaining a gradient of change in the pattern density distribution; and steps S16 to S19 of performing flare computations in a plurality of division sizes which are based on the gradient of change in the pattern density distribution.例文帳に追加

フォトリソグラフィにおけるフレアの予測方法であって、パターンレイアウトのパターン密度分布を求める工程Ｓ１４と、パターン密度分布の変化の傾きを求める工程Ｓ１５と、パターン密度分布の変化の傾きに基づく複数の区画サイズでフレア計算を行う工程Ｓ１６〜Ｓ１９とを備える。 - 特許庁

An input layout data is sorted to rectangular shapes of different pattern widths, a boundary for dividing peripheral part or internal part is generated for each sorted figure, an input pattern is formed into a fine pattern at the boundary and a complementary mask, shared to form fine patterns in both sides of the boundary is used as different layers, in order to form a pattern.例文帳に追加

入力レイアウトデータをパターン幅別矩形などに分類し、分類した図形毎に周辺もしくは内部を分割する境界を作成し、入力パターンを境界で細分パターン化し、境界の両隣の細分パターンが互いに異なる層になるように振り分けた相補マスクを用いてパターン形成を行う。 - 特許庁

This layout design method includes: an error discrimination step S6 for discriminating an error of the layout wiring after a power source is wired in a grid pattern; and a stack via erasure step S20 for, when there is a layout wiring error, designating an erasure range based on error coordinates, to remove a stack via in the erasure range.例文帳に追加

本発明のレイアウト設計方法は、格子状の電源配線を配置し、配置配線した後、配置配線のエラーを判定するエラー判定ステップＳ６と、配置配線のエラーがある場合には、エラー座標に基づき削除範囲を指定し、当該削除範囲のスタックビアを取り除くスタックビア削除ステップＳ２０とを有する。 - 特許庁

The analysis screen display control section 14 generates a superimposed image that is the superimposition of the pattern image P1 and the layout image P3 on each other as an image of the semiconductor device to be displayed by the display device 40 and sets the transmissivity of the layout image P3 with respect to the pattern image P1 in the superimposed image.例文帳に追加

解析画面表示制御部１４は、表示装置４０に表示させる半導体デバイスの画像としてパターン画像Ｐ１とレイアウト画像Ｐ３とを重畳した重畳画像を生成するとともに、重畳画像でのパターン画像Ｐ１に対するレイアウト画像Ｐ３の透過率を設定する。 - 特許庁

The portable electronic equipment equipped with a photographing means of photographing a subject includes a recognition means of recognizing a pattern layout out of the subjects photographed by the photographing means and a setting means of setting the portable electronic equipment according to the pattern layout recognized by the recognizing means.例文帳に追加

被写体を撮影する撮影手段を備えた携帯型電子機器において、前記撮影手段により撮影した被写体の中からパターンレイアウトを認識する認識手段と、前記認識手段により認識したパターンレイアウトに基づき前記携帯型電子機器の設定を行う設定手段を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The operation processing part corrects the input layout pattern data in each cell, determines whether or not each of a plurality of cells constituting the corrected layout pattern data has the same shape and reconstructs a cell hierarchical structure with cells determined to mutually have the same shape as the same cell.例文帳に追加

前記演算処理部は、入力された前記レイアウトパターンデータをセル毎に補正し、補正後の前記レイアウトパターンデータを構成する複数のセルの各々について、同一形状であるかどうかを判断し、同一形状であると判断されたセル同士を同一セルであるとして、セルの階層構造の再構築を行う。 - 特許庁

Since the circuit diagram is utilized as a detailed instruction book regarding a mask pattern as it is, just by delivering an electronic circuit diagram to the mask pattern generator, a mask layout satisfactory to an analog circuit design engineer is obtained.例文帳に追加

従って、回路図がそのままマスクパターンに関する細かい指示書として活用できるため、電子回路図をマスクパターン生成者に手渡すだけで、アナログ回路設計技術者の満足するマスクレイアウトが得られる。 - 特許庁

Based upon the layout of the object, a weighting pattern for the detected image area is determined (S206) and according to the weighting pattern, an image after first correction processing (S204) and an image after second image correction processing (S207) are put together (S208).例文帳に追加

そして、被写体のレイアウトに基づき、検出した画像領域に対する重み付けパターンを決定し(S206)、重み付けパターンに従い、第一の補正処理(S204)後の画像と、第二の補正処理(S207)後の画像を合成する(S208)。 - 特許庁

Also, the second substrate 3b is arranged on the first substrate 3a so that a portion of the second pattern 1b can be overlapped with a portion of the first pattern 1a in one region R in a plane layout.例文帳に追加

また第２の基板３ｂは、平面レイアウトにおいて第２のパターン１ｂの一部が第１のパターン１ａの一部と一の領域Ｒにおいて重複するように第１の基板３ａ上に配置されている。 - 特許庁

A sort means 21 sorts document data, and selects a page layout matching pattern corresponding to the number of vertically-long images and horizontally-long images in the P page storage data of the sorted document data group from the pattern DB 13.例文帳に追加

ソート手段２１が原稿データをソート処理し、ソートされた原稿データ群のＰ個の頁収容データ中の縦長画像と横長画像の個数に合致する頁割付合致パターンをパターンＤＢ１３から選択する。 - 特許庁

To provide a calculation method of interconnect capacitance by which the interconnect capacitance of a wiring pattern including oblique wiring, whose layout has been prepared, is correctly obtained at high speed, and to provide a design support device of the wiring pattern.例文帳に追加

レイアウトの作成がされた斜め配線を含む配線パターンの配線間容量を正確、且つ、高速に求める配線間容量の算出方法および配線パターンの設計支援装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of estimating a relative profile of a residual film thickness (pattern ratio profile for CMP) between active condensation and rarefaction regions after CMP, based on the layout of a mask pattern within a one-chip mask region.例文帳に追加

ワンチップマスク領域内でのマスクパターンのレイアウトに基づいて、ＣＭＰ後のアクティブ疎密領域間における残膜の相対的な残膜厚分布（ＣＭＰ用パターンレシオ分布）を推定するための方法を提供する。 - 特許庁

Since the degree of freedom of a layout of the wiring pattern 35 is increased and the width of the wiring pattern 35 can be broadly secured, the emission of the light from the light-emitting element 32 can be restrained from being made uneven due to a voltage drop caused by wiring resistance.例文帳に追加

配線パターン３５のレイアウトの自由度が増え、配線パターン３５の幅を広くとれるので、配線抵抗による電圧降下に起因する発光素子３２の発光ムラを抑制することができる。 - 特許庁

The step of preparing the plurality of masks includes a step of distributing a layout pattern group LPG1 into a plurality of masks in consideration of sizes of the layout patterns LP1 to LP4 according to the characteristics of exposure steps using the respective masks.例文帳に追加

複数枚のマスクを準備する工程は、複数枚のマスクのそれぞれを用いる露光工程の特性に応じて、レイアウトパターンＬＰ１〜ＬＰ４のサイズを考慮して、レイアウトパターン群ＬＰＧ１を複数枚のマスクに分配する工程を含む。 - 特許庁

A converter 20 synthesizes layout data 12 for each revision in a CAD means 10 and a specification database 15 by means of link keys in them, and converts the layout data using a pattern file 25, thereby storing them in respective common databases 30.例文帳に追加

コンバータ２０が、ＣＡＤ手段１０における前記レビジョンごとの配置データ１２と仕様データベース１５を、両方に存在するリンクキーで合成するとともに、その配置データをパターンファイル２５で変換することにより、各共通データベース３０に格納する。 - 特許庁

Arrangement positions of attached areas 801 and 802 describing attached information of the composite image of a printable area 600 of a seal sheet SH are decided in accordance with the division layout pattern selected from among a plurality of division layout patterns.例文帳に追加

そして、シール紙ＳＨの印刷可能領域６００のうち合成画像の付帯情報が記載される付帯領域８０１及び８０２の配置位置を、複数の分割レイアウトパターンの中から選択された分割レイアウトパターンに応じて決定する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which shortens the manufacturing time of a photomask by shortening a calculation time for finding corrections of a layout for compensation of an influence of proximity exposure effect when a layout pattern is formed on the photomask.例文帳に追加

本発明は、フォトマスク上のレイアウトパターン形成する上で、近接露光効果の影響を補償ため、レイアウトの補正を求めるための計算時間を短縮して、フォトマスクの製造時間を短縮する製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

Layout polygonal data forming the test pattern is created, and informations on a design rule identifier, a check sort of rule, a check value, a fine adjustment range of check pattern, and steps are added to an edge of a counterpart as a checking object of polygonal data within a predetermined range, thereby, the correct test pattern can be formed.例文帳に追加

テストパターンを構成するレイアウトのポリゴンデータを作成し、そのポリゴンデータのチェック対象となる対のエッジに、デザインルール識別子、ルールのチェック種別、チェック値、チェックパターンの微調整範囲およびステップの情報を、所定の範囲内で順次付加させていくことで正しいテストパターンを生成する。 - 特許庁

Then layout of the dummy pattern is determined so that a value of each parameter calculated in consideration of the circuit pattern and a dummy circuit pattern which is formed corresponding to the dummy patterns when the dummy patterns are uniformly arranged within whole regions where dummy patterns can be arranged, satisfies the standard.例文帳に追加

その後、ダミーパターン配置可能領域の全体にダミーパターンが一様に配置されたとしたときに、ダミーパターンと対応して形成されるダミー回路パターンと回路パターンとを考慮して算出された各パラメータの値が規格を満たすようにダミーパターンのレイアウトを決定する。 - 特許庁

This method includes a step G01 for describing the pattern forming process in accordance with at least one layout parameter, a step G03 for making the distribution of at least one parameter discrete, a step G05 for providing an error correction table linking the correction of layout with at least one parameter and a step G06 for correcting the layout by applying correction in the table to the layout at least once.例文帳に追加

この方法は、少なくとも１つのレイアウト・パラメータに応じてパターン形成プロセスを記述するステップと、前記少なくとも１つのパラメータの分布を離散化するステップと、レイアウト修正を前記少なくとも１つのパラメータに連係させる誤差補正テーブルを提供するステップと、前記テーブル内の前記修正を前記レイアウトに少なくとも１回適用することによってレイアウトを補正するステップとを含む。 - 特許庁

Additional wires 330 are disposed in gap parts while maintaining existing scan lines and layout of wires in pixels, whereby respective pattern intervals of additional wires 330, existing scan lines, and wires in pixels are approximated to a minimum pattern interval.例文帳に追加

既存の走査線や画素内配線のレイアウトを維持しつつ、隙間の部分に、他の配線３３０を配置することで、他の配線３３０と既存の走査線や画素内配線のそれぞれのパターン間隔を最小パターン間隔程度にする。 - 特許庁

The layout of a P-type electrode and an N-type electrode and the shape of a light emitting surface are newly designed, by which the problem of a center recess in the far field beam pattern of a gallium nitride light emitting diode can be solved.例文帳に追加

本発明は、Ｐ型電極とＮ型電極の配置方式及び発光面の形状を新たに設計することにより、窒化ガリウム系発光ダイオードの遠場光束図案（farfield beam pattern）の中央凹みの問題を改善する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a mask by which a pattern transferred onto a wafer can be prevented from being significantly deformed when a phase shift mask and oblique incidence lighting are combined with the mask having an asymmetrical layout to perform exposure.例文帳に追加

非対称なレイアウトのマスクに位相シフトマスクと斜入射照明を組み合わせて露光を行う場合に、ウエハ上に転写されるパターンが大きく変形することを防止できるパターン形成方法及びマスクを提供する。 - 特許庁

At that time, the user is made to select an attachment pattern to attach the respective characters of the character string by every character, or to attach the character string in a batch according to prepared layout pattern (L type, V type, U type, and dogleg type or the like).例文帳に追加

その際、ユーザは貼り付け方式を選択し、文字列の各文字を文字毎に貼り付けたり、あらかじめ用意されたレイアウトパターン（Ｌ型、Ｖ型、Ｕ型、く型等）に従って文字列を一度にまとめて貼り付けることもできる。 - 特許庁

To decrease a variation in wiring capacitance caused by a dummy pattern used for a flattening process of an LSI layout pattern, and not to degrade the extraction accuracy of a parasitic element in a design process.例文帳に追加

ＬＳＩレイアウトパターンの平坦化処理に用いるダミーパターンによって生じる配線容量変動を低減すると共に、設計工程における寄生素子抽出精度を可能な限り落とすことがないようにすることを目的とする。 - 特許庁

In a layout where a bend is arranged and a plurality of wirings (103) are disposed in parallel, a wiring pattern where a projection part (104) is installed at an apex of the bend is given.例文帳に追加

屈曲部を有し多数の配線（１０３）が並行して配列されているレイアウトにおいて、屈曲部の頂点に突出部（１０４）を設けた配線パターンとする。 - 特許庁

To reduce the size of a motor drive device by facilitating space saving for a pattern layout of the motor drive device that is built in a motor by using a low-cost constitution.例文帳に追加

モータに内蔵されるモータ駆動装置を安価な構成でパターンレイアウトの省スペース化を容易にすることでモータ駆動装置を小型化することを目的とする。 - 特許庁