| 例文 |
pattern layoutの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 715件
Then, in a region of the first region A, wherefrom a mask pattern 16 for forming an activated region is excluded, there is modified and designed the layout of a first quasi mask pattern 40a for forming a first quasi-activated region having a width which is not smaller than the predetermined width in a semiconductor substrate.例文帳に追加
そして、この第1領域Aのうち活性化領域形成用マスクパターン16外の領域に、半導体下地に所定幅以上の幅を有する第1の疑似の活性化領域を形成するための第1疑似マスクパターン40aのレイアウトを修正設計する。 - 特許庁
Thus, in the pachinko game machine equipped with the upsized special pattern display device, an area, on the lower side of the special pattern display device, in the game area 2a can be extended, and the degree of the freedom of the gauge constitution and the arrangement layout of the generator can be maintained.例文帳に追加
これにより、大型化した特別図柄表示装置を備えたパチンコ遊技機において、遊技領域2aにおける特別図柄表示装置の下側領域を拡大することができ、ひいてはゲージ構成や役物の配置レイアウトの自由度を維持することができる。 - 特許庁
To provide a technique to prevent the period of time required for making a design from becoming lengthened by an inspection that needs to be made backtracking in the final stage by causing a dummy pattern of high precision to occur and making an inspection of a coverage factor, at a stage prior to the layout pattern design of an LSI chip as a whole is determined.例文帳に追加
LSIチップ全体のレイアウトパターン設計が決定される前の段階で精度の高いダミーパターンの発生と被覆率の検証を行い、最終段階での検証による後戻りによって設計期間が長期化するのを防ぐための手法を提供する。 - 特許庁
The system divides pattern design data for the printed circuits into common blocks in terms of the hierarchical circuit, conceives the layout for the hierarchical circuit blocks in a three dimension printed circuit structure, processes circuit wirings and layout arrangements within the hierarchical circuit blocks after initializing positions of the virtual connecting terminals, and finally optimizes the virtual connecting terminals.例文帳に追加
プリント基板パターン設計データを、共通ブロックに階層回路分割し、基板の層構造に対する3次元空間での階層回路ブロックの配置構想を行い、仮想接続端子位置を初期決定した後に階層回路ブロック内の配置処理および配線処理を行い、仮想接続端子の最適化を行う。 - 特許庁
A computer 100 that operates as a semiconductor integrated circuit designing device performs a first candidate extraction process, extracts a candidate from the plurality of ECO cells arranged on a layout pattern to be changed, and selects an ECO cell to be used for changing the layout from each extracted candidate.例文帳に追加
半導体集積回路設計装置として動作するコンピュータ100は、第1の候補抽出処理を行って、レイアウト変更がなされるレイアウトパターンに配置された複数のECO対象セルから候補を抽出し、抽出された各候補から、レイアウト変更に用いるECO対象セルを選出する。 - 特許庁
This automatic composition system includes a document DB 10, a pattern DB 13 for storing (P+1) page layout patterns in which P rectangular boxes are arranged; and a composition DB 15 for storing the composition data of each page.例文帳に追加
原稿DB10、長方形のボックスをP個配置した、(P+1)個の頁割付パターンを記憶したパターンDB13、頁毎の組版データを記憶する組版DB15を有する自動組版システム1である。 - 特許庁
An instance having the hierarchical structure is given to the newly inserted cell by hierarchical structure instance providing processing in Step S3, and the flat layout pattern data 103 (already optimized), which have been given the hierarchical structure instances, are generated.例文帳に追加
ステップS3における階層構造インスタンス付与処理により、新規挿入セルに対して、階層構造を持つインスタンスが付与され階層構造インスタンス付与後のフラットなレイアウトパターンデータ(最適化済)103が生成される。 - 特許庁
To provide a semiconductor device and the manufacturing method of the same, having no restriction on pattern layout, on the kind of employed etching solution or the like, and is provided with a bipolar transistor capable of being manufactured by suppressing generation of mesa-shaped abnormalities.例文帳に追加
パターンレイアウトや使用するエッチング液の種類などに制約がなく、メサ形状異常の発生を抑制して製造することができるバイポーラトランジスタを有する半導体装置と、その製造方法を提供する。 - 特許庁
To reduce a coil part mounted on a circuit board markedly in effective size and to improve the circuit board markedly in layout density of chips in a chip inductor comprising a coil of conductor pattern on the board mounted with the coil.例文帳に追加
基板上に導体パターンによるコイルを形成したチップインダクタにおいて、回路基板に実装されるコイル部品の実効サイズを大幅に縮小化するとともに、回路基板でのチップ配置密度も大幅に高める。 - 特許庁
To solve a problem that much time is required up to the start of timing verification in a circle delay after the end of arrangement/wiring because the execution of LVS and the collation of a net list with a layout pattern are required for delay calculation.例文帳に追加
遅延計算を行なうためにはLVSを実行してネットリストとレイアウトパターンの照合が必要なため、配置配線が終ってから実は緯線遅延でのタイミング検証を始めるまでに非常に時間が掛かっている。 - 特許庁
To enable a lighting lamp fitting for a vehicle equipped with a light-emitting element and a translucent member to form a low-beam light distribution pattern having horizontal and slanted cutoff lines and to enhance freedom of a lamp fitting layout.例文帳に追加
発光素子および透光部材を備えた車両用照明灯具において、水平および斜めカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成可能とし、かつ、灯具レイアウトの自由度を高める。 - 特許庁
In a design library construction step, an important portion which affects characteristics on a circuit operation of a macro cell is extracted as design intent information and a corresponding layout portion is extracted as a CP pattern (33).例文帳に追加
設計ライブラリ構築段階において、マクロ・セルの回路動作上で特性に影響する重要箇所を、設計インテント情報として抽出し、対応するレイアウト部分をCPパターン(33)として抽出する。 - 特許庁
To accurately distinguish layout without spending waste time in extracting processing of a line and a paragraph in a text even if many small constituent elements such as a part of a photo and a background pattern are arranged in a document image.例文帳に追加
文書画像に写真の一部や背景模様等小さな構成要素が多数配置されていても、テキストの行及び段抽出処理に無駄な時間をかけることなく、正確なしイアウト識別を可能とすること。 - 特許庁
To provide a connection structure of an optical module and a post circuit board, where a post circuit board area of the post circuit board connected to the optical module is reduced and a substrate of an optimum pattern layout can be designed.例文帳に追加
光通信モジュールに接続される後段回路基板の後段回路基板面積を縮小したり、最適なパターンレイアウトの基板を設計できる光通信モジュールと後段回路基板との接続構造を提供する。 - 特許庁
A satellite broadcast receiver tuner circuit is formed of a high- frequency printed board 20 equipped with a three-layered pattern layout layer and provided with a balanced strip line as a signal input line 3 equipped with ground layers 2A and 2B located above and below a signal line, respectively.例文帳に追加
3層のパターンレイアウト層を有する高周波プリント基板20により形成され、信号ラインの上下にグランド層2A,2Bを有する平衡型ストリップラインを信号入力ライン3として備える。 - 特許庁
An image edition part 130 captures a basic image 42 indicating a space layout of a design object from a basic image input part 122 and a furniture extraction part 132 extracts an image pattern of a furniture or the like.例文帳に追加
画像編集部130により、基本画像入力部122から設計対象の空間レイアウトを示す基本画像42を取り込んで、什器抽出部132により什器類等の画像パターンを抽出する。 - 特許庁
To provide a verification device for LSI design capable of detecting wiring for which an allowable current value becomes a violation in a minimum wiring width from a circuit simulated result and preventing an allowable current capacity error on layout pattern design.例文帳に追加
回路シミュレーション結果から最小の配線幅では、許容電流値が違反となる配線を検出し、レイアウトパターン設計上の許容電流容量ミスを防止できるLSI設計用検証装置を得る。 - 特許庁
To provide a pixel layout pattern with which a photo-diode area can be secured when a higher pixel arrangement is made by applying a technique for sharing an amplification transistor or the like among a plurality of pixels in an MOS sensor including a global shutter function.例文帳に追加
グローバルシャッタ機能を有するMOSセンサにおいて、増幅トランジスタ等を複数画素で共有する技術を適用し、高画素化時にフォトダイオード面積を確保できる画素レイアウトパターンを提供する。 - 特許庁
Cell shape data 17a, cell attribute data 17b and arrangement restriction condition data 17c formed as libraries are stored in the pattern forming device 11 which executes layout data formation processing of process patterns.例文帳に追加
プロセスパターンのレイアウトデータ作成処理を実行するパターン作成装置11には、ライブラリとして作成されたセル形状データ17a、セル属性データ17b及び配置制約条件データ17cが格納される。 - 特許庁
Since by only controlling the injection current I decreases the influence of the speckled pattern position on the semiconductor laser 101, the influence restricting its layout can be decreased to improve the degree of design flexibility.例文帳に追加
単に注入電流Iの制御だけでスペックルパターンの影響を低減できる半導体レーザ101は、その配置に制約を受ける影響を小さくでき、設計の自由度の向上を図ることができる。 - 特許庁
A resistor 7 for base bias fine adjustment arranged in the vicinity of a layout 5 for power supply and the base bias resistor 8 are connected in a wiring pattern 9 that forms high impedance with respect to an oscillation frequency.例文帳に追加
また、電源供給用レイアウト5の近傍に配置されたベースバイアス微調整用抵抗7と前記ベースバイアス抵抗8の間を発振周波数に対してハイインピーダンスとなる配線パターン9で接続する。 - 特許庁
DEVICE, METHOD, AND PROGRAM FOR CORRECTING LAYOUT-PATTERN OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED DEVICE, AND READABLE RECORDING MEDIUM例文帳に追加
半導体集積回路のレイアウトパターン修正装置、半導体集積回路のレイアウトパターン修正方法、半導体集積装置の製造方法、半導体集積回路のレイアウトパターン修正プログラムおよび可読記録媒体 - 特許庁
The living body is authenticated based on the three-dimensional information of the angle of rotation and vein pattern so that it is possible to correctly authenticate regardless of such image pickup conditions as the layout of the living body 2.例文帳に追加
これらの回転角および静脈パターンの3次元情報に基づいて、生体の認証が行われることにより、生体2の配置等の撮像条件によらず、正しく認証を行うことができる。 - 特許庁
Furthermore, items to be inputted such as layout offset of board size or external dimension of board, etc., are indicated corresponding to the board pattern 44, by arrow marks 47 and 48 or outgoing lines, in the board drawing 43.例文帳に追加
更に、基板図面部43におていは、「基板寸法レイアウトオフセット」や「基板外形寸法」等の入力すべき項目が、矢印47,48や引き出し線によって、基板図形44に対応して表示されている。 - 特許庁
A collimator 26A, in which a plurality of rectangular through-holes 27A are arranged in a grid pattern, with septa 28A separating the through-hole 27A from the through-hole 27A, is rotated through a predetermined angle as viewed from above in relation to the layout of a plurality of rectangular detectors 21 that are arranged in a grid pattern.例文帳に追加
複数の矩形状の貫通穴27Aが碁盤目状に配列され、貫通穴27Aと貫通穴27Aはセプタ28Aで仕切られたコリメータ26Aにおいて、碁盤目状に配列された複数の矩形状の検出器21の配列に対して、コリメータ26Aを平面視して所定の角度で回転して配置させる。 - 特許庁
When a prescribed pattern layout is selected by a lottery means, patterns of multiple pattern display means displayed on display windows 3a, 3b, 3c are moved based on the notification shift mode different from the normal shift mode, then the patterns are moved based on the normal shift mode in a lottery notification means.例文帳に追加
抽選手段により所定の図柄配列が選出されたとき、表示窓3a,3b,3cに表示されている複数の図柄表示手段8a,8b,8cの図柄を、通常移動形態とは異なる告知移動形態に基いて移動させた後、通常移動形態に基いて移動させる抽選告知手段を備えている。 - 特許庁
In this semiconductor acceleration sensor by the same manufacturing process as that of the leading-out electrode, an electrode thin film pattern of the same width is newly installed, so that the electrode thin film pattern layout of the flexible part region for forming the piezo resistance elements is made uniform in both the detection axial direction and the direction vertical to the detection axial direction.例文帳に追加
本発明では引き出し電極と同一の製造工程で同一幅の電極薄膜パターンを新たに設けることにより、ピエゾ抵抗素子を形成する可撓部領域の電極薄膜パターンレイアウトを検出軸方向および検出軸方向と垂直な方向の両方ともに均一化した。 - 特許庁
Font pattern data and a function for calculation of its layout address the provided as a pair in a font file, and an address calculation function in this font file is used to calculate the address of font pattern data corresponding to a designated character code in the case of display control (a), and therefore, a system program can be used for various purposes.例文帳に追加
本案((a)参照)は、フォントパターンデータと、その割付アドレスの計算のための関数とを対にしてフォントファイルとして持ち、表示制御に際しては、そのフォントファイル中のアドレス計算関数を用いて指定文字コードに対応するフォントパターンデータのアドレスを計算するようにしたため、システムプログラムは汎用化される。 - 特許庁
An aperture rate calculating means 4 is provided for calculating flare quantity of a mask pattern, corresponding to a transfer pattern in each one shot region, the means which calculates the flare quantity based on the exposure layout of a plurality of shot regions, more specifically, by considering flare from a plurality of shot regions present in the positions surrounding the objective shot region.例文帳に追加
1つのショット領域毎に、転写パターンに対応するマスクパターンのフレア量を算出するに際して、複数のショット領域の露光レイアウトに基づいて、具体的には当該ショット領域の周辺に位置する複数のショット領域からのフレアを加味して、フレア量を算出する開口率算出手段4を設ける。 - 特許庁
When the test pattern layout is determined and the operator performs a specified data-forming operation, the dot is formed on the recording face of the recording sheet P by an arrangement of a test pattern TP displayed on the screen of the liquid crystal monitor 302 by a data-forming function 12, and the record controlling data 13 for performing the recording are generated.例文帳に追加
テストパターンレイアウトを決定し、操作者が所定のデータ作成操作を行うと、データ作成機能12によって、液晶モニタ302の画面上に表示されたテストパターンTPの配置で記録紙Pの記録面にドットが形成されて記録が実行される記録制御データ13が生成される。 - 特許庁
A parasitic capacity extraction means 13 determines the parasitic capacity value of the parasitic capacity attached to the substituted insulator, based on layout pattern data 34 and an extraction rule 35, while applying the regression equation of the regression equation information to the dimension information related to the fillmetal pattern, and outputs parasitic capacity information 37.例文帳に追加
寄生容量抽出手段13は、レイアウトパターンデータ34及び抽出ルール35に基づき、フィルメタルパターンに関連した寸法情報に回帰式情報の回帰式を適用しながら、置換絶縁体に付随する寄生容量の寄生容量値を求め寄生容量情報37を出力する。 - 特許庁
To surely detect a pattern for correcting positional deviation even when tolerance is found in the layout and dimension of a part where two or more sets of patterns for correcting positional deviation are formed and detected on an endless conveying body constituting a color image forming apparatus.例文帳に追加
カラー画像形成装置を構成する無端状の搬送体上に複数セットの位置ずれ補正用パターンの作像、検出を行う部分のレイアウト及び寸法の公差があっても、位置ずれ補正用パターンを確実に検出する。 - 特許庁
To eliminate restriction by the pattern layout and to reduce or prevent mixture of noise in the reference voltage for detecting a sensor signal even when a sensor signal detection circuit for automobile is mounted on a circuit substrate together with an oscillator circuit which may be a noise generating source.例文帳に追加
ノイズ源となる発振回路と一緒に回路基板に搭載する場合にもパターンレイアウトの制約をなくし、しかもセンサ信号を検出するための基準電圧にノイズが混入するのを低減または防止する。 - 特許庁
A material 2 of desired picture, pattern, characters, photograph, etc., is read in a scanner and taken in and processed by a computer connected to the scanner for graphic processing such as layout, etc., to print the material 2 of the desired picture, characters, etc., as a original sheet 1.例文帳に追加
所望の絵や図柄、文字、写真等の素材2をスキャナーに読み込み該スキャナーと接続するコンピュータに取り込んでレイアウト等の画像処理を行うなどして、前記所望の絵や文字等の素材2をオリジナルシート1として印刷する。 - 特許庁
To provide a slot machine capable of suppressing the increase in the cost required for disposal and capable of reliably informing a player of a lottery result at the timing with a margin in mind when a prescribed pattern layout is selected by a lottery means.例文帳に追加
廃棄処理に要するコストの上昇を抑制でき、しかも、抽選手段により所定の図柄配列が選出されたとき、遊技者に心の余裕があるタイミングでその抽選結果を確実に告知できるスロットマシンを提供する。 - 特許庁
To provide a key switch that can remove the necessity for arranging numerous apertures for limiting layout of pattern in a switch element in the shape of sheet such as membrane switch, and efficiently cope with poor operation of a cross-linked body in an assembling step.例文帳に追加
メンブレンスイッチ等のシート状スイッチ素子に引き廻しパターンのレイアウトを制約する多数の孔を設ける必要がなく、かつ組立段階でクロスリンク体の動作不良に効率よく対応できる、キースイッチを提供すること。 - 特許庁
To provide a CAM design system capable of automating and automatically checking a series of manual operation such as an optimum blank layout, a test pattern design, a correction of a change in dimension, a confirmation of a manufacturing constraint, and a writing of a manufacturing work instruction or the like.例文帳に追加
板取の最適レイアウト、テストパターン設計、寸法変化の補正、製造上の制約確認、製造作業指示書の作成など、一連の人手介入作業を自動化し、自動チェックするCAM設計システムを提供する。 - 特許庁
To provide an electrostatic flocking apparatus by which the application of an adhesive and electrostatic flocking corresponding to a required pattern are carried out without forming a layout paper accordingly whether a design is simple or complicated.例文帳に追加
単純なデザインはもとより複雑なデザインであっても、その度に版下なるものを作成しなくても、求めるパターンの接着剤塗布を行うこと、及び、静電植毛を行うことのできる静電植毛装置を提供する。 - 特許庁
The changing unit 4 changes the layout design data in such a manner that, when the distance measured by the measuring unit 3 is longer than a preliminarily designated value, the dummy pattern regulating the distance is enlarged to reduce the distance.例文帳に追加
変更部4は、測定部3にて測定された間隔が予め指定された指定値よりも大きい場合、その間隔を規定しているダミーパターンを拡大して、その間隔が短縮するように、レイアウト設計データを変更する。 - 特許庁
In print coil substrates 7a and 7b used for the actuator device 3 of the optical pickup 1, same components are used, which has coils and lands located in the same positions, and the same layout of wiring such as pattern of wiring for connecting them.例文帳に追加
光ピックアップ1のアクチュエータ装置3に用いられるプリントコイル基板7a、7bにおいて、コイルやランドの位置およびそれらを接続する配線パターンといった配線レイアウトを互いに同一とした同じ部品を使用する。 - 特許庁
To obtain a method and a device for picture processing which surely and quickly retrieve a pattern, that consists of plural elements and that is specified by relative layout information of respective elements, from a picture and to obtain a recording medium where a picture processing program is recorded.例文帳に追加
複数エレメントからなり各エレメントの相対的な配置情報により特定されるパターンを画像から確実にかつ高速に検索する画像処理装置、方法及び画像処理プログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁
A plurality of second lead parts 29 is connected to a plurality of second connecting part 23 formed in the same layout pattern as that of the first connecting parts on a side opposite to the surface facing the first body component part of the second component part.例文帳に追加
また、第2本体構成部の、第1本体構成部との対向面と反対側の面に、第1結合部と同じ配置パターンで形成された複数の第2結合部23には、複数の第2リード部29が結合される。 - 特許庁
While referring to the cell area information 2, the layout data 3 having pattern information and cell quotation information in the same area are collected as one cell definition and a cell quotation to quote this cell definition is added to the relevant area.例文帳に追加
セル領域情報2を参照して、レイアウトデータ3におけるパターン情報およびセル引用情報が同一の領域のものを1つのセル定義としてまとめ、このセル定義を引用するセル引用を、該当する領域に追加する。 - 特許庁
To provide a semiconductor storage device which can prevent interference between adjacent bit lines on a memory cell plate by changing a wiring pattern of column selection signal lines in a layout of the conventional memory cell plate and a peripheral circuit.例文帳に追加
従来のメモリセルプレート及び周辺回路のレイアウトにおいて、カラム選択信号線の配線パターンを変えることにより、メモリセルプレート上で隣接するビット線同士の干渉を防ぐことのできる半導体記憶装置を提供すること。 - 特許庁
In the layout data S7, the position of the repeater is also calculated which is inserted into the wiring pattern whose wiring delay deviates from a prescribed technical standard, and then the repeater, which is the nearest to this calculated position from the temporarily arranged repeater, is selected.例文帳に追加
また、レイアウト・データS7において配線遅延が所定の規格を外れる配線パターンに挿入されるリピータの位置が計算され、仮配置されたリピータから、この計算された位置に最も近接するリピータが選択される。 - 特許庁
Article modification pattern management tables 100, 200, 300 and so on are provided with start condition information in which one or more article categories applied to an article modification pattern and refining conditions for refining the articles to be modified from among the articles corresponding to the article categories are described for every article modification pattern for determining a layout of one or more articles.例文帳に追加
記事加工パターン管理テーブル100,200,300…は、1つ又は複数の記事をどのような体裁で掲載するべきかを定める個々の記事加工パターン毎に、当該記事加工パターンに適用される1つ又は複数の記事種別と、当該記事種別に該当する記事の中からさらに加工処理の対象となる記事を絞り込むための絞込条件とが記載された起動条件情報を有する。 - 特許庁
The overlap evaluation method of the patterns uses an overlap evaluation pattern, acquires an image of the overlap evaluation pattern using electron microscopes 10, 109 (S1), compares the acquired image with layout information in which the overlap evaluation pattern registered in a storage part 111 is to be arranged to calculate the amount and the direction of displacement of each exposure step (S2) and displays an evaluation result (S3).例文帳に追加
重ね合わせ評価パターンを用いるパターンの重ね合わせ評価方法であって、重ね合わせ評価パターンの画像を、電子顕微鏡10、109を用いて取得し(S1)、取得した画像と、記憶部111に登録されていた、重ね合わせ評価パターンが配置されるべきレイアウト情報とを比較して、各露光ステップのずれ量と方向とを算出(S2)し、評価結果を表示(S3)する。 - 特許庁
The method includes a circuit layout pattern and layout method for making it possible to match circuit parts accurately or proportionally by uniformly distributing the circuit parts so that the circuit parts are not affected by an environment or a process variation or an influence is kept to a minimum and, thereby improving the performance of an analog and mixed-signal circuit.例文帳に追加
回路部品が環境の影響またはプロセス変動の影響を受けないような形で、またはその影響を最小限に抑えるような形で回路部品を一様に分配することによって回路部品を正確にまたは比例的に適合させることを可能にし、それによってアナログおよび混成信号回路の性能を改善する回路レイアウト・パターンおよびレイアウト方法を含む。 - 特許庁
Further, a component space measurement means 16 calculates a clearance for the insertion component set, and a component space tolerance selection means 15 selects a component space tolerance from a component space tolerance table 14, according to the layout pattern index value.例文帳に追加
さらに部品間隔測定手段16が挿入部品組みについてクリアランスを算出し、部品間隔許容値選択手段15が、部品間隔許容値テーブル14から配置パターン指標値に応じて部品間隔許容値を選択する。 - 特許庁
To provide a simple mask handling method and an apparatus therefor which greatly reduced generation of contaminant particles disturbing the forming of a clear image of a reflective mask pattern for lithographic projectors using EUV and has a good mask layout reproducibility.例文帳に追加
超紫外線を使うリソグラフィ投影装置用反射性マスクのパターンの鮮明な結像を妨害する汚染物質粒子の発生を大幅に減少し、マスク配置再現性のよい、単純なマスク取扱い方法、および装置を提供すること。 - 特許庁
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