「pattern layout」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

A first conversion part 209 converts a layout pattern to transistor connection information 211 including a signal name by use of layout pattern information 206 or the like.例文帳に追加

第１の変換部２０９は、レイアウトパターン情報２０６等を用いてレイアウトパターンを、信号名を含んだトランジスタ接続情報２１１に変換する。 - 特許庁

To apply the marking of a layout pattern onto a spectacle lens by generating the layout pattern corresponding to the dedicated spectacle lens most suitable for individual persons wearing their spectacles.例文帳に追加

眼鏡装用者個々人に最適な専用の眼鏡レンズに対応してレイアウトパターンを生成し、このレイアウトパターンを当該眼鏡レンズにマーキングできること。 - 特許庁

LAYOUT PATTERN VERIFYING DEVICE, ITS METHOD, AND MEDIUM RECORDING ITS PROGRAM, LAYOUT PATTERN CORRECTING DEVICE, ITS METHOD AND MEDIUM RECORDING ITS PROGRAM例文帳に追加

レイアウトパターン検証装置、その方法およびそのプログラムを記録した媒体、並びにレイアウトパターン補正装置、その方法およびそのプログラムを記録した媒体 - 特許庁

Since the evaluation is performed by using a circuit design value and actual pattern layout data, the more precise and highly accurate evaluation based on the actual pattern layout is performed.例文帳に追加

回路設計値と実際のパターンレイアウトデータを用いて評価するので、実際のパターンレイアウトに即した、より正確で高精度な評価が行える。 - 特許庁

A partial region of a pattern layout is displayed automatically on a monitor from a verifying positional coordinate designating file 1 and a figure file 6 of the pattern layout of a glass substrate.例文帳に追加

確認位置座標指定ファイル１およびガラス基板パターンレイアウト図ファイル６からパターンレイアウトの一部の領域を自動的にモニタに表示させる。 - 特許庁

A layout pattern decision means 3 extracts a layout pattern appropriate to the counted number of character (S3), a data flowing means 6 flows the inputted data onto the extracted layout pattern to acquire edited data (S4).例文帳に追加

レイアウトパターン決定手段３は、計数された文字数を基に、対応するレイアウトパターンを抽出し（Ｓ３）、データ流し込み手段６が、抽出されたレイアウトパターンに、入力された文字列データを流し込んで編集データを得る（Ｓ４）。 - 特許庁

As the result of the actual measurement, when variations of the film thickness are large, a layout of a circuit pattern, an area rate or layout of a dummy pattern, and a layout, a film forming amount and a polishing amount of a reverse pattern are optimized to materialize the flatness after the CMP process.例文帳に追加

実測の結果、膜厚のばらつきが大きい場合は、回路パターンの配置、ダミーパターンの面積率や配置、リバースパターンの配置及び成膜量、研磨量を最適化して、ＣＭＰ加工後の平坦化を実現する。 - 特許庁

To automatically obtain an optimum layout with the smallest layout area which is free of a dangerous pattern under given process conditions.例文帳に追加

自動でかつ与えられたプロセス条件下で危険パターンのない最小のレイアウト面積となる最適レイアウトを得る。 - 特許庁

A layout pattern preparation section 27 in a lithographic process margin evaluation device 120 prepares a plurality of design layout patterns, with the use of analysis conditions and information stored in a layout pattern template holding section 22.例文帳に追加

リソグラフィプロセスマージン評価装置１２０内のレイアウトパターン作成部２７は、解析条件とレイアウトパターンテンプレート保持部２２に保存された情報とを用いて複数の設計レイアウトパターンを作成する。 - 特許庁

In a lithography method, an original layout with line patterns and pad patterns is designed, and a pad pattern is extracted, and then a first reduction layout which is reduced by a first reduction width relative to the pad pattern layout is obtained.例文帳に追加

ラインパターン及びパッドパターンを含む原本レイアウトを設計して、パッドパターンを抽出した後、パッドパターンのレイアウトに対して第１縮小幅に縮小された第１縮小レイアウトを得る。 - 特許庁

To provide a layout method for a mask capable of securing pattern uniformity.例文帳に追加

パターンの均一性を確保することができるマスクの設計方法を提供する。 - 特許庁

PATTERN LAYOUT METHOD, ITS APPARATUS, ITS PROGRAM, AND MEDIUM WITH PROGRAM RECORDED THEREON例文帳に追加

パターンレイアウト方法、その装置、そのプログラム、およびこのプログラムを記録した媒体 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE, PHOTOMASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PATTERN LAYOUT METHOD例文帳に追加

半導体装置、フォトマスク、半導体装置の製造方法およびパターンレイアウト方法 - 特許庁

On the basis of active node information, which is extracted in the Pre-layout simulation of S1, a parasitic element is extracted from the layout pattern data and a net list with parasitic element which contains all the device in the layout pattern data and extracted parasitic element information, is generated (S3).例文帳に追加

Ｓ１のPre-layoutシミュレーション時に抽出されたアクティブノード情報に基づいて、レイアウトパターンデータより寄生素子が抽出され、レイアウトパターンデータのすべてのデバイスと抽出された寄生素子情報を含んだ寄生素子付ネットリストが生成される（Ｓ３）。 - 特許庁

FORMATION OF LAYOUT OF PATTERN FOR LSI, FORMATION OF PATTERN FOR LSI AND FORMATION OF MASK DATA FOR LSI例文帳に追加

ＬＳＩ用パターンのレイアウト作成方法、ＬＳＩ用パターンの形成方法及びＬＳＩ用マスクデータの作成方法 - 特許庁

The method also comprises the steps of erasing the layout information after the elongation or contraction of the pattern information (S19), and forming the forgery preventive pattern.例文帳に追加

パターン情報の伸縮完了後、レイアウト情報を消去して（Ｓ１９）、偽造防止パターンを作成する。 - 特許庁

After a shape of the exposed pattern is recognized, the exposed pattern is identified on layout data of the object to be processed.例文帳に追加

当該露出パターンの形状を認識した後、被加工体のレイアウトデータ上で露出パターンを特定する。 - 特許庁

Next, pattern data for a charge-up countermeasure necessary for charge up is extracted from the layout pattern data (S2).例文帳に追加

次に、前記レイアウトパターンデータからチャージアップ対策に必要なチャージアップ対策用パターンデータを抽出する（Ｓ２）。 - 特許庁

In a pattern correction method of an embodiment, the distribution of pattern coverage on a design layout in the periphery of a position, where an on-substrate pattern becomes an error pattern when the on-substrate pattern corresponding to the design layout of a circuit pattern is formed on a substrate, is calculated.例文帳に追加

実施形態のパターン修正方法では、回路パターンの設計レイアウトに対応する基板上パターンを基板上に形成した場合に前記基板上パターンがエラーパターンとなる位置の周辺における前記設計レイアウト上でのパターン被覆率の分布を算出する。 - 特許庁

In a layout determining process, the layout of the bearing walls is determined story by story on the basis of the highest-rated layout pattern in each direction in the rating process.例文帳に追加

配置決定工程では、点数付け工程に於いて最高点を付与された各方向毎の配置パターンに基づいて各階層毎に耐力壁の配置を決定する。 - 特許庁

In a layout determining process, the layout of the bearing walls are determined story by story based on the highest-rated layout pattern in each direction in the rating process.例文帳に追加

配置決定工程では、点数付け工程に於いて最高点を付与された各方向毎の配置パターンに基づいて各階層毎に耐力壁の配置を決定する。 - 特許庁

To provide a printer and a device for setting a print pattern for easily setting a layout pattern, wherein print target data are arranged in print areas defined by template data, to a predetermined layout pattern.例文帳に追加

テンプレートデータに規定された印刷領域に印刷対象データを配置した配置パターンを、容易に所望の配置パターンに設定しうる印刷装置及び印刷パターン設定装置を提供する。 - 特許庁

The method for designing a phase shift mask includes steps of: placing an underlay pattern 102 in the layout data designing a phase shift mask; placing a first overlay pattern 100 overlapping the underlay pattern 102 and a second overlay pattern 101 not overlapping the underlay pattern in the layout data; and placing a dummy underlay pattern 105 overlapping the second overlay pattern 101 in the layout data.例文帳に追加

位相シフトマスクの設計方法は、位相シフトマスクを設計するレイアウトデータに、下層パターン１０２を配置するステップと、レイアウトデータに下層パターン１０２と重なる第１の上層パターン１００及び下層パターンと重ならない第２の上層パターン１０１を配置するステップと、レイアウトデータに第２の上層パターン１０１と重なるダミー下層パターン１０５を配置するステップとを備えている。 - 特許庁

To provide a minimum layout pattern dimension detector capable of detecting the dimensions of a minimum layout pattern and a spot of the dimensions without processing a plurality of times.例文帳に追加

複数回の処理を行うことなく、最小レイアウトパターンの寸法及びその寸法の箇所を検出可能な最小レイアウトパターン寸法検出装置を提供する。 - 特許庁

Each module 10 has a common circuit layout and a common wiring pattern.例文帳に追加

各モジュール１０は、共通の回路配置および共通の配線パターンを有している。 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM-DRAWING DEVICE, PATTERN INSPECTION DEVICE AND LAYOUT DISPLAYING METHOD例文帳に追加

荷電粒子ビーム描画装置およびパターン検査装置並びにレイアウト表示方法 - 特許庁

LAYOUT DATA VERIFICATION METHOD, MASK PATTERN VERIFICATION METHOD AND CIRCUIT OPERATION VERIFICATION METHOD例文帳に追加

レイアウトデータ検証方法、マスクパターン検証方法および回路動作検証方法 - 特許庁

METHOD, APPARATUS AND PROGRAM FOR MANAGING LAYOUT PATTERN DATA FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

液晶表示装置用レイアウトパターンデータの管理方法、その装置、および、そのプログラム - 特許庁

METHOD FOR INSERTING SELF-ASSEMBLED DUMMY PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING CIRCUIT LAYOUT例文帳に追加

回路レイアウトを用いて半導体素子の自己組立ダミーパターンを挿入する方法 - 特許庁

The first and second line groups have the same layout pattern.例文帳に追加

そして、第１配線体のレイアウトパターンと、第２配線体のレイアウトパターンとを同じとする。 - 特許庁

A first layout pattern including at least a first group and a second group is provided.例文帳に追加

まず少なくとも第一グループと第二グループを含む第一レイアウトパターンを設ける。 - 特許庁

A design rule checker 115 subsequently processes the marked layout pattern and validates all but the marked patterns of the second layout pattern against a set of specified design rules.例文帳に追加

デザインルールチェッカー115は続いてマークされたレイアウトパターンを処理し、特定のデザインルールのセットに照らして、第２レイアウトパターンのマークされたパターンを除いた全てについて検証する。 - 特許庁

PATTERN LAYOUT SYSTEM CONTROL METHOD, ITS DEVICE, ITS PROGRAM, AND MEDIUM RECORDING THE SAME例文帳に追加

パターンレイアウトシステム制御方法、その装置、そのプログラム、および、これを記録した媒体 - 特許庁

For example, cell patterns (A) having the same pattern are extracted from layout data.例文帳に追加

レイアウトデータの中から、例えば、同一のパターンを有するセルパターンＡを抽出する。 - 特許庁

One of photograph layout patters 301 to 304, including the arrangement of one or more photographs, is selected as a current photograph layout pattern, and one of the photograph arrangements of the current photograph layout pattern is selected as a current photograph arrangement.例文帳に追加

１つ以上の写真配置を含む写真レイアウトパターン３０１〜３０４の１つを現写真レイアウトパターンとして選択し、当該現写真レイアウトパターンの写真配置の１つを現写真配置として選択する。 - 特許庁

Further, when the imaging apparatus displays first image data whose layout is coincident with that of an inadequate layout pattern image and second image data whose layout is coincident with that of an optimum layout pattern image side by side on a display section, since it is naturally understandable, the photographer can really feel the difference.例文帳に追加

さらに、不最適構図パターン画像と構図が一致する第１の画像データと、最適構図パターン画像と構図が一致する第２の画像データとを並べて表示部に表示すると、見た目に明らかであるので、撮像者はその違いを実感することが出来る。 - 特許庁

The photomask layout pattern includes an H-shaped pattern having a first line pattern, a second line pattern provided parallel to the first line pattern, and a central zone connecting the first and second line patterns.例文帳に追加

フォトマスクレイアウトパターンは、第一ラインパターンと、第一ラインパターンと平行に設けられている第二ラインパターンと、第一ラインパターンと第二ラインパターンを接続する中間領域とを含むＨ字型パターンを有する。 - 特許庁

For the above selected insertion component set, by referring to a component data table 11, a component layout relation calculation means 13 calculates a layout relation value, and selects a layout pattern index value corresponding to the layout relation value.例文帳に追加

選択された挿入部品組みについて、部品データテーブル１１を参照し、部品配置関係算出手段１３が、配置関係値を算出し、配置関係値に対応する配置パターン指標値を選択する。 - 特許庁

The layout apparatus for a pattern figure functions to layout basic figures 44 in the number determined by a determining part 34 of the layout number in a ring-type region 41 from the top of the ring-type region 41 as the starting point with a designated layout spacing 53.例文帳に追加

リング型領域４１の頂点を起点にして、指定された配置間隔５３をもって配置数決定部３４により決定された配置数分の基本図形４４をリング型領域４１に配置する。 - 特許庁

To start up an OPC which is adaptive to nearly all patterns early by adequately correcting a layout pattern and a mask pattern in a short time.例文帳に追加

レイアウトパターン、マスクパターンを短時間で適切に補正し、ほとんどのパターンに対応したＯＰＣを早期に立ち上げる。 - 特許庁

To provide a method of testing a pattern which can improve simulation accuracy of a layout pattern for an actual product.例文帳に追加

実製品に対するレイアウトパターンのシミュレーション精度を向上させることができるパターン検証方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR DISPLAY ELEMENT PATTERN LAYOUT, DEVICE, PROGRAM, AND MEDIUM WITH THE PROGRAM STORED THEREIN例文帳に追加

表示素子用パターンレイアウト方法、その装置、そのプログラムおよびこれを記憶した媒体 - 特許庁

To provide a pattern layout method capable of calculating a critical area accurately in a short time.例文帳に追加

クリティカルエリアを正確かつ短時間に算出できるパターンレイアウト方法を提供する。 - 特許庁

An end portion of a pattern of an object is detected from design layout information (step S11).例文帳に追加

設計レイアウト情報から、対象物のパターンの端部を検出する（ステップＳ１１）。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a multiface layout pattern form whose connection part is inconspicuous.例文帳に追加

接続部分が目立たない多面付けパターン形成体の製造方法を提供する。 - 特許庁