「pattern technology」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

This prevents bit line patterning failure in the core/peripheral circuit region, and can apply SPT (Spacer Pattern Technology) when forming a bit line is formed.例文帳に追加

これを介し、本発明ではコア/周辺回路領域におけるビットラインパターニングの不良を防止し、ビットライン形成時にSPT(Spacer Pattern Technology)を適用することができる。 - 特許庁

To reduce defects in a resist pattern when reducing the size of the resist pattern by using the RELACS technology.例文帳に追加

ＲＥＬＡＣＳ技術を用いてレジストパターンの寸法を縮小する際に、レジストパターンの欠陥を低減する。 - 特許庁

To provide a technology for creating a dictionary for pattern recognition which is high in recognition accuracy.例文帳に追加

認識精度の高いパターン認識用辞書の作成技術を提供する。 - 特許庁

To draw or lithographically form an extremely fine linear pattern without any defect by using a liquid jet technology.例文帳に追加

液体噴射技術により極めて微細な線パターンを欠陥無く描画する。 - 特許庁

As free energy technology blends with the toroidal pattern, to access unlimited power例文帳に追加

フリーエネルギー技術が、トロイドの型と調和して、 無限の力を利用するのと同様、 - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

To provide a technology which forms a fine pattern of fixed density, and forms wiring having the fine pattern.例文帳に追加

本発明は、固定密度の微細なパターンを形成し、そして微細なパターンの配線を形成する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology making the area to be obtained of an actual pattern close to the area of a design pattern in an ink jet process.例文帳に追加

インクジェットプロセスにおいて、得られる実パターンの面積を設計パターンの面積に近づける技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a fine pattern method for forming a pattern by a photo-lithography technology, and for precisely working lower layer materials by using the pattern as a mask.例文帳に追加

フォトリソグラフィ技術においてパターンを形成し、且つ、それをマスクに用い、下層材料を精度良く加工する微細パターン方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a technology for performing tuning with a capacity pattern by forming the relevant capacity pattern on a non-contact data carrier device composed of a surface pattern only.例文帳に追加

表面パターンのみからなる非接触式データキャリア装置に容量パターンを形成して、当該容量パターンによりチューニングを行う技術を提供する。 - 特許庁

To establish a pattern forming technology using a reel-to-reel system and a droplet ejecting system.例文帳に追加

リールツーリール方式と液滴吐出方式とを用いたパターン形成技術を確立する。 - 特許庁

To provide a new technology for converting an image scanning pattern.例文帳に追加

本発明の目的は、画像の走査パターンを変換する新たな技術を提供することである。 - 特許庁

METHOD, PROGRAM AND DEVICE FOR PERFORMING DECOMPOSITION OF PATTERN FOR USE IN DOUBLE PATTERNING TECHNOLOGY (DPT) PROCESS例文帳に追加

ＤＰＴプロセスで用いられるパターン分解を行うための方法、プログラムおよび装置 - 特許庁

To provide an information processing technology capable of high-speed and high-accuracy pattern recognition.例文帳に追加

高速、かつ、高精度のパターン認識が可能な情報処理技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a technology for forming a minute pattern, using a simple method.例文帳に追加

本発明は、簡便な方法で微細パターンを形成する技術を提供するものである。 - 特許庁

To provide a technology capable of detecting a circuit pattern defect at a high S/N ratio.例文帳に追加

高いＳ／Ｎ比で回路パターンの欠陥を検出することができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology of effectively reducing electromagnetic noise emitted from a wiring pattern on a printed circuit board.例文帳に追加

プリント基板上の配線パターンから放射される電磁波ノイズを効果的に低減する。 - 特許庁

To provide a technology for shortening generation time of a test pattern in ATPG.例文帳に追加

ＡＴＰＧにおけるテストパタンの生成時間を短縮するための技術を提供する。 - 特許庁

To provide a robust and highly precise pattern identification technology to a change of a pattern to be identified or its peripheral environment.例文帳に追加

識別対象のパターンやその周辺環境など変動に対してロバスト、且つ高精度なパターン識別技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a technology for collecting an image for learning, especially, a technology for efficiently collecting negative case image including a similar pattern which is likely to be erroneously recognized as a prescribed pattern.例文帳に追加

学習用画像を収集する技術、特に、所定パターンとして誤認識し易い類似パターンを含む負事例画像を効率的に収集できるようにした技術を提供する。 - 特許庁

One embodiment of the present invention uses a principal component analysis(PCA) technology to recognize a pattern and another embodiment uses a programmed neuro-net pattern recognition technology.例文帳に追加

本発明のある実施形態は、パターン認識を行なうために主成分分析（ＰＣＡ）技術を使用するが、別の実施形態は、プログラムされた神経網パターン認識技術を使用する。 - 特許庁

To provide an overcurrent protecting technology convenient to use in which a pattern conductor for a fuse is used.例文帳に追加

ヒューズ用パターン状導体を用いた使い勝手の良い過電流保護技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for printing a ground pattern composite image with an appropriate image density.例文帳に追加

適切な画像濃度の地紋合成画像を印刷出力可能とする技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for achieving pattern learning excellently reflected with similarity between patterns.例文帳に追加

パターン間の類似度を良好に反映したパターン学習を実現するための技術を提供する。 - 特許庁

To establish a technology for forming a pattern by using a reel-to-reel method and a droplet-discharging method.例文帳に追加

リールツーリール方式と液滴吐出方式とを用いたパターン形成技術を確立する。 - 特許庁

To provide technology for reducing a user's burden of imaging a pattern for proofreading.例文帳に追加

校正用パターンを撮像するユーザへの負担を軽減させるための技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a technology for easily and surely performing gradation correction control for each image processing pattern.例文帳に追加

画像処理パターンごとに、容易且つ確実に階調補正制御を行う技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern of a benzocyclobutene resin using a thermal imprint lithography technology.例文帳に追加

熱インプリントリソグラフィー技術を用いて、ベンゾシクロブテン樹脂のパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for appropriately verifying the accuracy of a simulation model of a semiconductor layout pattern.例文帳に追加

半導体のレイアウトパターンのシミュレーションモデルの精度を適切に検証する技術を提供する。 - 特許庁

To reduce the amount of a resist pattern dimension reduction agent used for the RELACS technology, and to uniform pattern dimensions within the wafer surface.例文帳に追加

ＲＥＬＡＣＳ技術において，レジストパターン寸法縮小剤の使用量を低減し，ウェハ面内のパターン寸法を均一にする。 - 特許庁

To conquer the limit of time shortening in servo pattern recording by a head recording system and to conquer the limit of recording density in servo pattern recording by transfer recording technology or pre-embossed technology at the same time.例文帳に追加

ヘッド記録方式によるサーボパターン記録での時間短縮の限界を克服すると同時に、転写記録技術やプリエンボスト技術によるサーボパターン記録での記録密度の限界を克服する。 - 特許庁

To form a metallic film on a base, and to require an etching process in order to form a circuit pattern by using an inprint technology or a photolithography technology.例文帳に追加

インプリント技術やフォトリソグラフィー技術を用いて回路パターンを形成するためには、下地に金属膜を形成し、さらにエッチング工程を必要とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor luminous element where light-extraction efficiency is high and a radiating pattern is excellent without using a microscopic lithography technology and a dry etching technology.例文帳に追加

微細リソグラフィー技術やドライエッチング技術を用いることなく、光取り出し効率が高く且つ放射パターンが良好な半導体発光素子を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for improving an application detection speed as a technology regarding traffic classification based on statistical information of a communication pattern.例文帳に追加

通信パタンの統計情報に基づいたトラフィック分類に関する技術において、アプリケーション検出速度を向上できる技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a technology capable of making a stop pattern hardly identifiable even when a pattern position correction is performed in a pinball game machine including a reel unit.例文帳に追加

リールユニットを備えた弾球遊技機において、図柄位置補正を実行しても停止図柄を判別困難とできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern-arranged substrate manufacturing method capable of forming a more fine pattern of the catalyst metal in comparison with the photo-lithographic technology.例文帳に追加

フォトリソグラフィ技術よりも微細な触媒金属等のパターンを形成することができるパターン配列基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming technology for forming a prescribed pattern on a substrate by applying an application liquid containing a pattern forming material from a nozzle relatively moved to the surface of the substrate, wherein the pattern stable in the pattern width and in an end part position is formed.例文帳に追加

基板表面に対して相対移動するノズルからパターン形成材料を含む塗布液を塗布して、基板上に所定のパターンを形成するパターン形成技術において、パターン幅および端部位置の安定したパターンを形成する。 - 特許庁

This first pattern 6 is a periodic high density pattern which adds a dummy pattern to an aperture pattern which should finally be formed in the processed layer 4, and super-resolving technology, such as an optimal deformed illumination, etc. is used at the time of exposure.例文帳に追加

この第１のパターン６は被加工層４に最終的に形成すべき開口パターンにダミーパターンを付加した周期密集パターンであり、露光時にこれに最適な変形照明等の超解像技術を用いる。 - 特許庁

To provide technology by which a printing result is enhanced when a density pattern method is used.例文帳に追加

濃度パターン法を利用する場合の印刷結果を向上させることのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a new technique for recognizing a pattern, and a technology for realizing this technique.例文帳に追加

パターン認識を行うための新たな手法とともに、その手法を実現させるための技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology capable of processing charge settlement in a period, corresponding to a service providing pattern.例文帳に追加

サービスの提供形態に応じた周期で課金決済処理を行うことが可能な技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology related to a manufacturing method of a pattern sheet excellent in transfer stability and mass-productivity.例文帳に追加

転写安定性および量産性に優れたパターンシートの製造方法に関する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for stably forming a film having a prescribed pattern shape with an excellent controllability.例文帳に追加

所定のパターン形状を有する薄膜を制御性良く安定的に形成する技術を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure technology capable of forming a fine pattern on the level of the wavelength of illumination light or less inexpensively.例文帳に追加

照明光の波長程度以下の微細パターンを安価に形成可能な露光技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method for improving the lithography technology of a semiconductor device 100 comprising a sparse/dense pattern.例文帳に追加

疎密のパターンを備える半導体デバイス１００のリソグラフィー技術を改善する方法を提供する。 - 特許庁

To provide dense contact hole pattern formation technique of a semiconductor device by using self-align double patterning technology so as to form a high-density hole pattern which is twice or three times higher than that formed by lithography technology.例文帳に追加

半導体装置の密集コンタクトホールパターン形成技術において、セルフアラインダブルパターニング技術を用いて、リソグラフィ技術で形成したパターンの２倍、あるいは３倍の密度のホールパターンを高精度で形成する。 - 特許庁