「pattern technology」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To attain the efficient and further accurate formation of a fine magnetizing pattern, in the technology to form the magnetizing pattern on a magnetic disk by combining the local heating and the application of external magnetic field.例文帳に追加

局所加熱と外部磁界印加を組み合わせて磁気ディスクに磁化パターンを形成する技術において、微細な磁化パターンを効率よく更に精度よく形成することができるようにする。 - 特許庁

To provide technology for correctly discriminating an apparatus from apparatuses having a flow rate pattern caused by control characteristics and apparatuses having a flow rate pattern including also factors excluding the control characteristics.例文帳に追加

制御特性に起因する流量パターンを持つ器具、制御特性以外の要因も含む流量パターンを持つ器具の中から、正しく器具を判別する技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide technology in which the exchange of pattern procession can be displayed in an easily recognizable way by simple processing in a game machine for displaying a plurality of patterns for lottery while varying them on the screen of a pattern display device.例文帳に追加

図柄表示装置の画面に複数の抽選用図柄を変動させて表示する遊技機において、簡単な処理によって図柄列の入替えを分かり易く表示できる技術を提供する。 - 特許庁

The use of a semiconductor microfabrication technology for manufacturing enables a low-cost resonator to be manufactured, and the formation of a resonator by the use of an arbitrary pattern reduces the number of external optical parts for forming a laser beam pattern.例文帳に追加

半導体微細加工技術を利用して製造するため、廉価であり、共振器部が任意パターンで形成されているためレーザ光パターン形成のための外部光学部品が少なくてすむ。 - 特許庁

To provide a technology for forming wiring with a desired pattern on the surface of a substrate, by selectively depositing the plating catalyst into the desired pattern on the surface.例文帳に追加

本発明では、基板の表面に選択的にめっき触媒を付着させることができ、所望パターンで付着しためっき触媒によって所望パターンの配線を形成することができる技術を実現する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device having a fine pattern which exceeds the conventional limit of conventional fine work by succeeding previously established i-beam exposure technology as it is and correcting etching technology.例文帳に追加

既に確立されたｉ線露光技術はそのまゝ継承してエッチング技術を小修正することで、従来の微細加工の限界を越える微細パターンを有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide technology for suppressing a transfer error being a problem in a magnetic recording medium side by contriving a magnetic pattern formed on the master body.例文帳に追加

マスター体に形成する磁気パターンを工夫することにより、磁気記録媒体側で問題となる転写誤差を抑制する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for measuring three-dimensional geometrical information of a plane and the positional information of a point, from an optical flow pattern or a stereo image.例文帳に追加

オプティカルフローパターン、あるいはステレオ画像から平面の三次元幾何情報や点の位置情報などを計測する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology capable of improving security without using a pattern file which contains characteristics of the virus in an automatic transaction device.例文帳に追加

自動取引装置において、ウィルスの特徴を含んだパターンファイルを用いることなく、セキュリティを向上させることが可能な技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology capable of restraining enlargement of a lamp for a vehicle for forming a light distribution pattern diffused in a horizontal direction.例文帳に追加

水平方向に拡がる配光パターンを形成するための車両用灯具の大型化を抑制することができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a deskew device which can complete deskewing in a shorter time than possible with conventional technology which corrects the entire skew pattern in all lanes.例文帳に追加

全レーンにおける全スキューパターンを補正する従来技術と比較して、より短時間でデスキューを完了することのできるデスキュー装置を得る。 - 特許庁

To provide a technology continuing a tracking process as precisely as possible even if a pattern matching process is not performed at sufficient precision.例文帳に追加

パターンマッチング処理が十分な精度で実行されない場合でも可能な限り正確にトラッキング処理を継続させる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology capable of forming a pattern having a fixed line width on a coating object having steps by an ink-jet method.例文帳に追加

段差を有する塗布対象物においてインクジェット法を用いて一定の線幅のパターンを形成することができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an exposure pattern capable of detecting the connection failure of an exposure pattern unique to electron beam exposure technology with high accuracy in a Die to Die defect inspection just like a pattern failure caused by a process other than an exposure process.例文帳に追加

Die to Dieの欠陥検査において、電子線露光技術特有の露光パターンの接続不良を、露光プロセス以外のプロセスに起因するパターン不良と同様に精度良く検出することができる露光パターンの形成方法及び電子線露光装置の提供。 - 特許庁

To provide an overlay vernier mask pattern of a semiconductor element, along with a method of forming the same, capable of correctly forming a first overlay vernier pattern at a lower part and a second overlay vernier pattern at an upper part in the case where a triplex key method is utilized by applying a double patterning technology.例文帳に追加

ダブルパターニング技術を適用して三重キーの方法を利用する場合、下部の第１オーバーレイバーニアパターンと、上部の第２オーバーレイバーニアパターンとが正常に形成されるようにする半導体素子のオーバーレイバーニアマスクパターンとその形成方法を提供する - 特許庁

To provide a technology for achieving highly accurate pattern drawing based on a relative position of a drawing position of a drawing unit and a substrate.例文帳に追加

描画手段の描画位置と基板との相対位置に基づいて、高精度なパターン描画を実現する技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

The specific image recognition section 311 discriminates the identity between the read original image data and the specific image by means of a known pattern matching recognition technology.例文帳に追加

特定画像認識部３１１は、読み取られた原稿画像データと特定画像との同一性を周知のパターンマッチング認識技術によって判定する。 - 特許庁

This technology adopts a system of stepwise adjusting the driving force of the supporting driver by tracing the transmission data pattern through the use of a counter and decoding the count.例文帳に追加

本発明では、カウンタを用いて伝送データパターンを追跡し、その値をデコードして補助ドライバの駆動力を段階的に調節する方式を用いている。 - 特許庁

To provide the batch manufacturing technology for enhancing the manufacture efficiency of a servo writing head and for forming an excellent shape by improving the defining of servo pattern.例文帳に追加

サーボ書き込みヘッドの製造効率を向上させると共に、サーボパターンの画定を改善して優れた形状にするバッチ製造技術を提供すること。 - 特許庁

The technology can be applied to an image processing apparatus which converts the frame rate of an input image which has been pulled down with a predetermined pull-down pattern.例文帳に追加

本技術は、所定のプルダウンパターンでプルダウン処理が行われた入力画像をフレームレート変換する画像処理装置に適用することができる。 - 特許庁

To provide an image processing technology for establishing the high speed operation of a density pattern method and high picture quality equivalent to that of an error diffusion method(or blue noise mask method).例文帳に追加

濃度パターン法の高速化と誤差拡散法（或いはブルーノイズマスク法）並みの高画質を両立させ得る画像処理技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology of forming an emboss pattern on the surface of an FRP product simultaneously while manufacturing the fiber-reinforced plastic product by hot pressing a prepreg material.例文帳に追加

プリプレグ材にホットプレスを施してＦＲＰ製品を製造する際に製品の表面にシボ模様を同時に形成する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology capable of specifying the position of a line pattern with higher accuracy (accuracy of a unit less than one pixel of a reading image pitch) than an image reading resolution.例文帳に追加

ラインパターンの位置を、画像読取解像度よりも高い精度（読取画像ピッチの１画素未満単位の精度）で特定することができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide an information processing technology allowing detection of a characteristic pattern properly reflected with imparted data even when data include a loss value.例文帳に追加

データが欠損値を含む場合であっても、与えられたデータを的確に反映した特徴的なパターンを検出可能な情報処理技術を提供する。 - 特許庁

To provide image correction technology for removing a spectacles pattern in an image by generating a spectacles model adaptable to spectacles with various frame shapes.例文帳に追加

様々なフレーム形状の眼鏡に対応可能な眼鏡モデルを生成して、画像中の眼鏡パターンを除去する画像補正の技術を提供する。 - 特許庁

To provide application technology for various information processing in character and language fields through numerals by easily expressing each numeral by a bar pattern.例文帳に追加

棒状パターンにより数字を容易に表現し、数字を媒介にした文字や言語分野における各種の情報処理の応用技術を提供する。 - 特許庁

To reduce undercut caused by wet etching and to improve the working precision at the time of forming a surface wave element aluminum vapor deposition film or aluminum alloy vapor deposition film electrode by applying lithography technology to a thin film formed on the film surface on a substrate and executing etching with the formed resist pattern and a thin film fine pattern as masks.例文帳に追加

表面波素子、中でも表面波共振器電極形成プロセスでは、アルミニウム電極、アルミニウム蒸着膜厚が１μｍから２μｍで、線幅２μｍから５μｍに対して厚い。 - 特許庁

To provide a technology for shortening the time required for visual comparative inspection in a semiconductor device having a plurality of kinds of pattern group where the comparing pitch and comparing direction of a repetitive pattern are different from each other.例文帳に追加

繰り返しパターンの比較ピッチおよび比較方向が互いに異なる複数種類のパターン群を有する半導体装置において、外観比較検査に要する時間を短縮することのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a light control device by which light having a desired beam section is obtained in a technology for presenting a phase pattern formed by superposing a phased grating pattern and a phase pattern having predetermined phase modulation distribution to a space light modulator of a phase modulation type.例文帳に追加

ブレーズドグレーティングパターンと所定の位相変調分布を有する位相パターンとが重畳されてなる位相パターンを位相変調型の空間光変調器に呈示させる技術において所望のビーム断面を有する光を得ることができる光制御装置を提供する。 - 特許庁

To allow calculation of a difference value corresponding to one-to-multiple between an example sentence pattern and a word string of a text sentence without depending on pattern automatic extraction technology, and to translate an input sentence with high accuracy with a small calculation amount by use of an obtained reference parallel translation pattern.例文帳に追加

パターン自動抽出技術に依存することなく、例文パターンとテキスト文の単語列間で一対複数に対応した相違値の算出を可能とし、求められた参照対訳パターンを用いて、少ない計算量で精度良く入力文を翻訳できるようにする。 - 特許庁

To provide a technology which quickly detects an obstacle on a crosswalk even when position and direction of an image pattern of the crosswalk in an image taken by a vehicle-mounted camera are not coincident with position and direction of a reference pattern representing the image pattern of the crosswalk on which no obstacle exists.例文帳に追加

車載カメラによる撮影画像の横断歩道部分の画像パターンの位置方向が、障害物が存在しない横断歩道部分の画像パターンである基準パターンの位置方向と合わないときにも横断歩道上の障害物を早期に検出できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a light control device by which light having a desired beam section is obtained in a technology for presenting a phase pattern formed by superposing a blazed grating pattern and a phase pattern having predetermined phase modulation distribution on a phase modulation type space light modulator.例文帳に追加

ブレーズドグレーティングパターンと所定の位相変調分布を有する位相パターンとが重畳されてなる位相パターンを位相変調型の空間光変調器に呈示させる技術において所望のビーム断面を有する光を得ることができる光制御装置を提供する。 - 特許庁

The sensor part is used for receiving the corresponding infrared ray from the ink of the prescribed pattern and taking information of the prescribed pattern, and dispenses with an internal light source explained in a conventional technology only by utilizing an external light source.例文帳に追加

センサ部は、所定のパターンのインクからの対応する赤外線を受け取り、所定のパターンの情報を取り込むために使用され、外部の光源を利用するだけで、従来技術で説明されるような内部の光源を必要としない。 - 特許庁

To prevent erroneous diagnosis by capturing a change in an iris pattern by data processing technology, not by visual observation in health diagnosis using an iris pattern and easily manage the data obtained by such health diagnosis.例文帳に追加

アイリスパターンによる健康診断において、アイリスパターンの変化を目視観察ではなくデータ処理技術によって捉えるようにすることで誤診断をなくし、また、そのような健康診断で得られるデータも容易に管理できるようにする。 - 特許庁

To provide a wiring pattern having a substantially identical wiring width by using a super resolution technology able to realize a fine pattern beyond the resolution of an exposure apparatus by combining process technologies without raising the resolution limit of the exposure apparatus.例文帳に追加

露光装置の解像度を超える微細パターンを、露光装置の露光限界を上げることなくプロセス技術を組み合わせて実現する超解像技術を用いて、略同一の配線幅を有する配線パターンを提供する。 - 特許庁

To provide a technology for reducing an estimation error of a beat noise estimator by reducing influence by the fluctuation of a bit pattern.例文帳に追加

本発明は、ビットパターンのゆらぎによる影響を小さくすることにより、ビート雑音推定器の推定誤差を小さくすることができる技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a technology in which a test pattern for determining the correction value of positional shift at the time of bi-directional printing can be printed depending on a print mode being used actually.例文帳に追加

実際に使用される印刷モードに応じて、双方向印刷時の位置ズレの補正値を決定するためのテストパターンを印刷することができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus for revealing a hidden character of an output object with a copy-forgery-inhibited pattern even when using a copying machine with a super-resolution technology for copying.例文帳に追加

超解像技術を導入した複写機で複写を行う際にも、地紋付きの出力物の隠し文字を顕在化させることが出来る画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method and an exposure apparatus, by which the plurality of parameters are calculated with a simulation technology and a targeted pattern image is formed on a wafer front surface.例文帳に追加

シミュレーション技術によって前記複数のパラメータを導出し、目標とするパターン像をウェハ表面に形成する露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To improve ease of operation of a user interface in a technology for output of information using a paper medium on which a pattern readable by a reader is printed.例文帳に追加

読取装置で読取可能なパターンが印刷される紙媒体を利用して情報の出力を行う技術において、ユーザーインターフェースの操作性を向上する。 - 特許庁

To provide a system and method which measure a different interlayer overlay in a semiconductor manufacturing technology such as double patterning process and the like by the use of an imaged device pattern.例文帳に追加

撮像されたデバイス・パターンを使用して、ダブル・パターニング・プロセス等の、半導体製造技術における異なる層間のオーバレイを測定するシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

To provide technology for improving accuracy where modification added to a conductive pattern arranged on a circuit block to be protected is detected.例文帳に追加

保護対象の回路ブロックの上に配置された導電パターンに加えられた改変の検出する精度を向上するための技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide the technology of highly accurately adjusting a resist by forming satisfactory resist pattern images even when starting a color mode after a monochrome mode.例文帳に追加

単色モード実行後カラーモードを開始する際においても良好なレジストパターン像の形成を可能とし、レジスト調整を高精度に行うことを可能とする技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for generating simulation data for accurately expressing a connecting state between a wiring pattern and a via with the minimum number of nodes and resistor.例文帳に追加

配線パターンとビアの接続状態を最小限の数のノード及び抵抗によって正確に表現したシミュレーション用データを作成する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for improving the measuring resolution of three-dimensional shape measurement using pattern light for space coding with a simple structure in consideration of the actual condition.例文帳に追加

上述した実情に鑑み、簡単な構成で、空間コード化用パターン光を用いた三次元形状測定の測定分解能を向上させる技術を提供する。 - 特許庁