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pattern technologyの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 278件
To provide technology capable of attaining high speed printing and not pressing various resources such as the memory of a computer and a hard disk even when generating a tint pattern image by a printer driver on a system configuration.例文帳に追加
システム構成上プリンタドライバによる地紋画像の生成であっても、高速に印刷可能でかつコンピュータのメモリやハードディスクといった各種リソースを圧迫しない。 - 特許庁
To provide a pattern inspection technology enabling inspecting the surface shape by the inspection device of mirror electron projection type even though the resist material is formed on the sample.例文帳に追加
試料上にレジスト材料が形成されていても、その表面形状を、ミラー電子プロジェクション式検査装置によって検出可能にするパターン検査技術を提供する。 - 特許庁
To provide a technology for producing an electroconductive line and surface pattern having a low electric resistance on a porous paper and a polymer substrate or the surface of a semiconductor.例文帳に追加
多孔質の紙及びポリマー基材上又は半導体表面上に低い電気抵抗をもつ導電性のライン及び表面パターンを作製する技術を提供する。 - 特許庁
The test pattern generator dynamically arranges a test signal to a line selected in advance for a VBI period in the video frame at a period of the frame by adopting a concealment technology.例文帳に追加
テスト・パターン・ジェネレータはVBI期間における事前選択されたラインに、ビデオ・フレームの時間周期でテスト信号を隠蔽技法を使用してそのフレームに動的に配置する。 - 特許庁
To improve uniformity within a wafer surface in the size of circuit pattern obtained in the trimming process of a photoresist mask formed with a double patterning technology using a freezing method.例文帳に追加
フリージング法を用いたダブルパターニング技術により形成されたフォトレジストマスクのトリミング工程において、得られる回路パターン寸法のウエハ面内の均一性を改善する。 - 特許庁
To provide technology to simply, reliably and neatly saw a pattern spreading over a sewing area and out of the sewing area with a processed fabric fixed to a movable frame.例文帳に追加
可動枠に加工布を固定した状態における縫製領域とその縫製領域外に亙って広がる模様を簡単・確実・綺麗に縫製できる技術を提供する。 - 特許庁
To provide a technology for correcting a dot size by a printer alone so that the dot size when an image including a dot pattern is printed and outputted to a recording medium by the printer is suitable for reading the dot pattern using an electronic pen or the like.例文帳に追加
ドットパターンを含む画像を印刷装置で記録媒体に印刷出力したときのドットサイズが、電子ペン等を用いたドットパターンの読み取りに適合するように、当該ドットサイズを印刷装置単体で補正することができる技術を提供する。 - 特許庁
To provide a technology capable of forming a proper light distribution pattern, when performing control for automatically forming the light distribution pattern in response to a position of a front vehicle, on a road where a light shielding body exists between a one's own traffic lane and an oncoming traffic lane.例文帳に追加
前方車の位置に応じて配光パターンを自動で形成する制御を自車線と対向車線の間に遮光体が存在する道路で実施する場合に適切な配光パターンを形成することができる技術を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of precious metal ornaments having a watermark pattern such as a stained glass-like pattern by suitably combining the fired body of a precious metal clay state component with raw materials for cloisonne and technology, and to provide the precious metal ornaments.例文帳に追加
貴金属粘土状組成物の焼成体と、七宝の原材料や技術とを適宜に組み合わせることによりステンドグラス風の模様等の透かし模様を有する貴金属装飾品の製造方法、及び貴金属装飾品を提供する。 - 特許庁
On the other hand, this method has versatility for combination with a specified conventional technology in order to achieve prominent performance with respect to a specific important pattern while achieving a general pattern application range at the same time.例文帳に追加
他の諸態様によれば、本発明は、同時に普遍的なパターン適用範囲を達成しながら、特定の重要なパターンに関する優れた性能を伝達するために特定の従来の技術と結合できるという点で多様なものでもある。 - 特許庁
To provide a mold which is used for obtaining a molding having a protective wall provided around a molding surface with a transferred mold pattern and where the mold pattern is formed by using photolithography and an etching technology, and its manufacturing method.例文帳に追加
本発明は、金型パターンが転写された成型面の周囲に保護壁を有した成型物を得るための金型であって、金型パターンがフォトリソグラフィ及びエッチング技術を用いて形成された金型、及びその製造方法を提供するものである。 - 特許庁
To enable to suppress a lowered pattern connection accuracy among fields caused by lowered pattern position accuracy caused by charged up of resist, in the charged particle drawing technology.例文帳に追加
荷電粒子ビーム描画技術において、レジストのチャージアップによるパターン位置精度の低下に起因する隣接するフィールド間のパターン接続精度の低下を抑制可能な荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁
To provide a technology capable of forming an excellent film with an accurate pattern by a heating film formation method using light and capable of producing a high definition light-emitting device with satisfactory productivity.例文帳に追加
光による加熱成膜法により正確なパターンで、かつ良質な膜を成膜し、高繊細な発光装置を生産性よく作製できる技術を提供することを課題の一とする。 - 特許庁
To provide a pachinko game machine constituted so that a plurality of special pattern start ports are provided in a game area and a player can play a game while intervention of his or her own technology.例文帳に追加
遊技領域に複数の特図始動口が設けられていて、遊技者が自身の技術を介入しながら遊技を行うことができるようにしたパチンコ遊技機の提供である。 - 特許庁
To provide a technology for accurately inspecting pattern defect by eliminating a difference in level between sensor data and reference data, and eliminating recognition errors in detecting defects.例文帳に追加
パターンの欠陥を検査する技術で、センサデータと参照データのレべル差を解消し、欠陥検出の際の誤認識を無くして、正確な欠陥検査を行う技術を提供すること。 - 特許庁
After forming an organic single molecular film 12 on a 1st substrate 11, the organic single molecular film 12 is finely worked by photolithographic technology to form an organic single molecular film pattern 14.例文帳に追加
第1の基板11上に有機単分子膜12を形成した後、有機単分子膜12をフォトリソグラフィ技術によって微細加工し、有機単分子膜パターン14を形成する。 - 特許庁
To provide a semiconductor memory device capable of constituting a wiring pattern satisfying constrained conditions about low manufacturing expenditure, limit in a lithographic technology, and arrangement of selective transistors.例文帳に追加
低コスト化、リソグラフィ技術の限界、及び選択トランジスタの配置に関する制約条件を満たした配線パターンを構築することが可能な半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁
To measure the shift amount of the whole transfer belt without degrading productivity during continuous printing in a technology for forming a toner pattern image for correcting color shift on the transfer belt.例文帳に追加
転写ベルト上に色ずれ補正用のトナーパターンを画像形成する技術において、連続印刷中に生産性を落とすことなく転写ベルト全体のずれ量を適切に測定する。 - 特許庁
To provide a technology for correcting map coordinates wherein, by dividing an area in a dividing pattern matching the correction amount of each reference point, the accuracy of coordinate value is kept high after correction transformation.例文帳に追加
個々の基準点の補正量に合致した区分パターンにて領域を区分することで、補正変換後の座標値の精度を高く保つ地図の座標補正技術を提供する。 - 特許庁
To provide a technology for displaying a diagnosis screen corresponding to diagnosis skill to each doctor by learning in advance a diagnosis pattern of the individual doctor and relying upon the result of the learning.例文帳に追加
医師個々の診断パターンを予め学習しておき、当該学習結果に基づいて診断スキルに応じた診断画面を各医師に対して表示するようにした技術を提供する。 - 特許庁
To provide an electron beam detector and an electron beam drawing technology using it wherein an effective range of an opening pattern on a scattered body is made large and drawing with a high precision is possible.例文帳に追加
散乱体上の開口パターンの有効な範囲を広くし、高精度な描画を可能にする電子ビーム検出器とそれを用いた電子ビーム描画技術を提供する。 - 特許庁
To provide a coating technology for producing fine particle film of a desired pattern in an atmosphere of a room temperature with high productivity, without using organic solvent or almost without using organic solvent.例文帳に追加
有機溶媒を不使用ないしは殆ど使用することなく、常温の大気中で高い生産性をもって所望のパターンの微粒子膜を製造できる塗布技術の提供。 - 特許庁
Utilizing a fine mask pattern by the photolithography technology, Sn solder 5 covered with an Ag film 6 is fed onto a semiconductor 1 and an electrode pad 3A of a board.例文帳に追加
フォトリソグラフィー技術による微細なマスクパターンを利用して、表面がAg膜6で覆われたSnはんだ部5を、半導体1および基板の電極パッド3A上に供給する。 - 特許庁
To provide a printer for a construction board utilizing ink jet print technology in which even a nozzle not used at all on a print pattern is not clogged with ink.例文帳に追加
印刷柄の上では全く使用しないノズルが存在したとしてもインク詰まりを起こすことがないようにしたインクジェット印刷技術を利用した建築板印刷装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a technology by which the alternation of a layout pattern from the production side is made unnecessary, the design time can be shortened and the yield can be improved in the method for forming a mask.例文帳に追加
マスクの形成方法において、製造側からのレイアウトパターンの変更をなくし、設計工期を短縮するとともに歩留まりの向上を図ることができる技術を提供する。 - 特許庁
To solve both of coping to complicated shapes and uniformity on an exposure surface which are defects in conventional technology in pattern formation by the proximity exposure of photosensitive resist.例文帳に追加
感光性レジストの近接露光によるパターン形成において、従来技術の欠点であった形状の複雑化への対応、及び露光面内の均一化を同時に解決すること。 - 特許庁
To provide an electronic camera with a user interface technology that can easily select an image to be transferred in the electronic camera where master and slave images of the same image pattern are intermingled.例文帳に追加
同一絵柄の親子画像が混在する電子カメラ上において、画像転送する画像を容易に選別するためのユーザーインターフェース技術を提供することを目的とする。 - 特許庁
Since the dither pattern with the low resolution is included in the pseudo dot processing, more stable color print is attained without the need for using a complicated process technology.例文帳に追加
したがって、疑似網点化処理において、低解像度のディザパターンが含まれることから複雑なプロセス技術を使用することなく、より安定したカラー印刷を可能とするものである。 - 特許庁
A transfer electrode 6 formed on a vertical transfer 4 is embedded by a tungsten film 9, and then a resist pattern is formed on the tungsten film using general-purpose photolithography technology.例文帳に追加
垂直転送部4上に形成された転送電極6をタングステン膜9で埋め込みを行い、汎用のフォトリソグラフィー技術を用いてタングステン膜上にレジストパターンを形成する。 - 特許庁
To provide a technology on the improvement of a game machine to store information on displayed patterns and execute an additional game based on whether the stored pattern information satisfies a prescribed condition or not.例文帳に追加
表示した図柄の情報を記憶し、記憶されている図柄情報が所定の条件を満たすか否かにより付加的な遊技を行う遊技機の改良に関する技術を提供する。 - 特許庁
To provide an optical substrate manufacturing method capable of molding a core part and an external pattern at high positional accuracy as to a manufacturing method for molding a core part by using a molding die in which a core pattern formation part is formed and filling the core pattern part of the molding die with a core material in consideration of defects in conventional technology.例文帳に追加
本発明は、かかる従来技術の欠点に鑑みてなされたもので、コアパターン形成部を形成した成形型を用い、この成形型のコアパターン部にコア材を充填してコア部を成形する製造方法で、コア部の成形と外形の成形を位置精度よく行うことが可能な光基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
The projection exposure device 11 has a mercury lamp 13 generating an illuminating light 31 required for an exposure to form a pattern on a wafer 12 by photolithography technology, and a reticle 22 having a pattern image for forming a pattern on a wafer 12.例文帳に追加
投影露光装置11は、フォトリソグラフィ技術を用いてウエハ12上にパターンを形成するべく、露光に必要な照明光31を発生させる水銀ランプ13と、ウエハ12にパターンを形成するためのパターン像を有するレチクル22と、レチクル22に照射する1ショットの露光領域を制御する液晶ブラインド19と、ウエハ12を載置固定するステージ25とを有する。 - 特許庁
To provide a radioactive ray setting resin composite which yields a pattern which is highly fine and excellent in shape when an optical waveguide is manufactured by a pattern forming method using a fine lithograph technology, to provide an optical waveguide using the resin composite and to provide a method of manufacturing the optical waveguide.例文帳に追加
微細なリソグラフィ技術を用いたパタン形成方法によって光導波路を作製するに際し、高精細で形状の優れたパタンを得ることを可能とする放射線硬化性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた光導波路及び光導波路の製造方法を提供する。 - 特許庁
To fabricate a transistor in which reverse short channel effect does not take place by suppressing formation of a recess through etching of the sidewall part of an isolation pattern formed on a semiconductor pattern when a pad oxide film, a sacrifice oxide film, and the like, are removed by etching thereby solving the problem in an STI(shallow trench isolation) technology.例文帳に追加
パッド酸化膜、犠牲酸化膜等のエッチング除去時に半導体基板に形成した素子分離パターンの側壁部がエッチングされて窪みが形成されるのを抑制してSTI技術の課題を解決し、逆狭チャネル効果を生じないトランジスタの形成を可能にする。 - 特許庁
To provide a cryptogram recording medium, wherein two cryptogram images are overlapped with each other to restore an original pattern by using a visual decoding type encryption technology, for allowing easy visual recognition of a restored image in restoration to easily discriminate a hidden pattern.例文帳に追加
視覚復号型暗号技術を用い、2つの暗号画像を重ね合わせ、元となる図柄を復元する暗号記録媒体において、復元する際に復元画像が容易に視認でき、隠された図柄が容易に判別可能な暗号記録媒体を提供することを課題とする。 - 特許庁
Using vector quantization technology, the image is transposed with either of a plurality of different pixel patterns for each of the blocks consisting of the number of predetermined pixels, and the index image expressed by an index value of each of the pixel patterns is decoded with reference to a code book in which the pixel pattern and the index value of the pixel pattern are associated.例文帳に追加
ベクトル量子化技術を利用し、画像を所定画素数からなるブロック毎に複数の異なる画素パターンのいずれかに置き換え、各画素パターンのインデックス値で表わしたインデックス画像を、画素パターン及び画素パターンのインデックス値が対応付けられているコードブックを参照して復号する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a photomask for inexpensively manufacturing a mask having a mask pattern having high uniformity of in-plane distribution of sizes by being used in a lithography technology of a half pitch of 65 nm and later and possessing excellent size precision of a minute pattern, and to provide a photomask blanks used for it.例文帳に追加
ハーフピッチ65nm以降のフォトリソグラフィ技術に用いられ、微小パターンの寸法精度に優れ、かつ寸法の面内分布の均一性が高いマスクパターンを有するマスクを安価に製造するフォトマスクの製造方法、およびそれに用いられるフォトマスクブランクスを提供する。 - 特許庁
Furthermore, a capacitor of large capacity can be fabricated with a smaller area even in a finer pattern process technology using the same process as other devices without requiring any special process additionally.例文帳に追加
また、微細化の進んだプロセス技術においても、より少ない面積でより大容量のキャパシタを、他のデバイスと同一のプロセスで特別な工程を追加することなく形成することが可能である。 - 特許庁
A common mode filter is realized which is adaptive to an integrated circuit technology by using a structure that utilizes a flat conductor pattern, for constituting a D-CRLH (dual type right hand/left hand compound) differential transmission line.例文帳に追加
D−CRLH(デュアル型右手/左手複合)差動伝送線路を構成するために、平面導体パターンを利用した構造により、集積回路技術に適合したコモンモードフィルタを実現する。 - 特許庁
To provide a technology for raising the output of supersonic vibration while preventing peeling or falling of a micro pattern formed on a substrate, relating to a substrate processing equipment that uses supersonic vibration.例文帳に追加
超音波振動を利用した基板処理装置において、基板上に形成された微細パターンの剥離や倒壊を防止しつつ、超音波振動の出力を上げることができる技術を提供する。 - 特許庁
To provide an analytical technology which can reduce an influence of a noise element on a distinctive feature extraction of an amplitude pattern of a pulse wave and can increase the precision of an obtained hemodynamics index.例文帳に追加
ノイズ成分による脈波振幅パターンの特徴抽出に対する影響を低減することができ、得られる循環動態指標の精度を高めることができる分析技術を提供する。 - 特許庁
In a verification support apparatus, normal simulation by a random test pattern generated in accordance with a set Seed number is executed as in a conventional technology by steps S101-S109.例文帳に追加
検証支援装置では、ステップS101〜S109によって従来技術と同様に、設定されたSeed番号に応じて発生させたランダムなテストパターンによる通常のシミュレーションを実行させる。 - 特許庁
To obtain a laminated aperture surface array antenna which can be manufactured easily with a general laminating technology for a multi-layered wiring board, is small-sized and thin, and obtains a uniform radiation pattern and excellent antenna characteristics.例文帳に追加
多層配線基板に対する一般的な積層技術で容易に作製可能な、小型・薄型で、均一な放射パターンと良好なアンテナ特性が得られる積層型開口面アレイアンテナを提供する。 - 特許庁
To provide an embossing technology for inexpensively embossing an embossed pattern that can effectively exhibit, on the rubber surface of an eraser, a visual action effect of stimulating a user's feeling of taste.例文帳に追加
消しゴムのゴム表面に、ユーザの趣味的感情を刺激する視覚的作用効果を有効に発揮し得るエンボス模様を安価に型押し成形することができるエンボス加工技術を提供する。 - 特許庁
To provide a technology for simply extracting, without conducting a complicated calculation, only line patterns having the same directivity from a photographed image including a line pattern having two or more directivity.例文帳に追加
複雑な演算を行うことなく、二種類以上の方向性を持つ線パターンが存在する撮像画像から、同一の方向性を持つ線パターンのみを容易に抽出する為の技術を提供すること。 - 特許庁
To provide a system which verifies fast whether an LSI designed by electronic design automating technology and a test pattern of the LSI generated on the basis of CAD data at the time of development designing are proper.例文帳に追加
電子設計自動化手法で設計したLSIと、開発設計時におけるCADデータを基に作成されたそのLSIのテストパターンの適否を高速に検証するシステムを提供する。 - 特許庁
To provide printing equipment for a building board, which uses an inkjet printing technology for preventing a nozzle from being clogged with ink, even in the existence of the nozzle which is not used for a printing pattern at all.例文帳に追加
印刷柄の上では全く使用しないノズルが存在したとしてもインク詰まりを起こすことがないようにしたインクジェット印刷技術を利用した建築板印刷装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a technology capable of preventing a pattern on a semiconductor wafer from being damaged by electrification during a process of cleaning the semiconductor wafer to thereby improve yield in the manufacture of a semiconductor device.例文帳に追加
半導体ウエハの洗浄工程において、帯電による半導体ウエハ上のパターンの損傷を防いで、半導体装置の製造歩留まりを向上させることのできる技術を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device capable of reducing the influence of a stress applied by an upper wiring layer on the semiconductor device, and maintaining the effect obtained by providing a dummy wiring pattern and applying a CMP technology.例文帳に追加
上部配線層が半導体素子に与えるストレスの影響を低減すると共に、ダミー配線パターンを設けてCMP技術を適用した効果を維持し得る半導体装置を提供する。 - 特許庁
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