「pattern technology」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The present invention includes a method for forming a word line pattern of the nonvolatile memory array including a step of producing the sub-F word lines using a mask producing device having a width of at least minimum characteristic size F through the use of spacer technology.例文帳に追加

少なくとも最小特徴サイズＦの幅を有するマスク生成素子から、スペーサー技術を用いてサブＦワード線を生成する段階を含む不揮発性メモリアレイのワード線パターン形成のための方法を含む。 - 特許庁

To provide a novel patterning technology capable of inexpensively and easily patterning a piezoelectric film without need of expensive equipment, having excellent pattern shaping accuracy of the film and free from contamination during film formation.例文帳に追加

高価な装置を要することなく低コストに圧電体膜を容易にパターニングすることができ、圧電体膜のパターンの形状精度が良く、成膜時のコンタミネーションの問題がない新規なパターニング技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of preventing damages to a gate insulating film even during a fine pattern process with respect to the manufacturing technology of an insulating gate field effect transistor (IGFET) using plasma.例文帳に追加

プラズマを用いた絶縁ゲート型電界効果トランジスタ（ＩＧＦＥＴ）の製造技術に関し、微細パターンの加工においてもゲート絶縁膜の損傷を防止できる半導体装置の製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus technology enabling formation of a high quality image over a long term by forming a toner pattern on a non-image region of an image carrier (photoreceptor) without increase of the toner use amount.例文帳に追加

トナーの使用量を増加させずに像担持体（感光体）の非画像領域上にトナーパターンを形成して長期に渡って高品質な画像の形成を可能とする画像形成装置技術を提供すること。 - 特許庁

To achieve further precision increase by considering not only difference in dot pattern but difference in output density gradation characteristic of an image forming apparatus, in technology of predicting toner consumption based on a halftone image.例文帳に追加

ハーフトーン画像に基づいてトナー消費量を予測する技術において、ドットパターンの違いだけでなく画像形成装置の出力濃度階調特性の違いを考慮することによりさらなる高精度化を実現する。 - 特許庁

To provide technology for reducing unevenness of polishing speed due to the density of a pattern causing protrusions and recesses when a film having multilayer structure is planarized by polishing the protrusions and recesses.例文帳に追加

積層構造を有する膜の凹凸段差を研磨することにより平坦化するとき、凹凸段差の原因となるパターンの疎密による研磨速度の不均一性を低減する技術を提供することを課題とする。 - 特許庁

To simultaneously and nondestructively measure a panel alignment position and a pattern profile by improving resolution, quantifying accuracy, and repeatability for realize a pattern imaging which does not rely on optical measurement technology for inspection using a device which is markedly reduced in cost and complexity, while increasing the throughput of the device significantly.例文帳に追加

検査のためのパターン像化に依らない光学的測定技術を、スループットを大きく向上させつつ、コスト及び複雑性を非常に低下させた装置によって実現し、分解能、定量化精度、及び繰り返し精度の向上を図り、重ね合せ位置及びパターンプロフィールの同時かつ非破壊測定を行えるようにする。 - 特許庁

To provide a technology that can precisely control the flow direction and area of a softened resist and thereby can be utilized for forming a pattern and manufacturing a TFT element for liquid crystal displays in the reflow treatment of the resist.例文帳に追加

レジストのリフロー処理において、軟化したレジストの流動方向および流動面積を高い精度に制御可能で、もってパターン形成や液晶表示装置用ＴＦＴ素子の製造に利用できる技術を提供する。 - 特許庁

The laminated substrate is pattern-molded, by using a standard photograph flat-plate technology and etching is applied, and a rectangular or a columnar column is formed on the upper part of the substrate, composed of conductive layer(s) and non-conducive layer(s).例文帳に追加

積層された基板を標準的な写真平板技術を使用してパターン成形し、そしてエッチングして、導電性層及び非導電性層からなる基板の上部に矩形状または円柱状の柱を形成する。 - 特許庁

To provide a technology that can precisely control the flow direction and area of a softened resist, and thereby can be utilized for forming a pattern and manufacturing a TFT element for liquid crystal displays in the reflow treatment of the resist.例文帳に追加

レジストのリフロー処理において、軟化したレジストの流動方向および流動面積を高い精度に制御可能で、もってパターン形成や液晶表示装置用ＴＦＴ素子の製造に利用できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device realizing high resolution and an increase in an inspection speed in a technology for inspecting a pattern defect, foreign matter, residue, a step and the like on a wafer in a production process of a semiconductor by an electron beam.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a technology whereby a user can freely control contents and a communication pattern of a message intended by the user for a message exchange in a star form network comprising a plurality of nodes and the message exchange being a line concentrator.例文帳に追加

複数ノードと集線装置であるメッセージ交換装置から構成されるスター型のネットワークにおいて、ユーザが意図したメッセージについて、その内容や通信パターンをメッセージ交換装置に対して自在に操作できるようにする。 - 特許庁

To provide a technology to irradiate an object with light of a desired pattern while highly efficiently using the light, and also, observe the dynamic change of the object caused by the irradiation with the light, with high time resolution.例文帳に追加

高い光の利用効率で所望のパターンの光を対象物に照射し、且つ、光の照射に伴って生じる対象物の動的な変化を高い時間分解能で観測する技術を提供することを課題とする。 - 特許庁

Specific half-toning technology is proposed to achieve the reduction or limitation and by using an input density value of an image pixel to gradually increase, image dots are alternately added to both sides to produce a linear growth pattern in the predetermined direction.例文帳に追加

これを達成するために、特定のハーフトーン化技術を提案し、次第に増加する画像画素の入力密度値を用いて、両側に画像ドットを交互に加えることにより、所定方向に線形成長パターンを生成する。 - 特許庁

By calling a model sentence about the acquired metaphor and sentence pattern by a description sentence generation device that is existing technology and practically using a replacement function, the device generating the advertisement sentence grabbing the consumer is provided to the enterprise.例文帳に追加

そして、取得したメタファーと文型について既存の技術である描写文生成装置より文例を呼び出し、置換機能を活用することによって消費者をとらえた広告文を生成する装置を企業に提供する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection technology capable of grasping quantitatively the inspection performance of a defect to be detected when setting properly both a detection condition and a determination condition, and setting accurately the detection condition and the determination condition.例文帳に追加

検出条件と判定条件の双方を適切に設定した場合の検出すべき欠陥の検出性能を定量的に把握でき、正確に検出条件と判定条件を設定できるパターン検査技術を提供する。 - 特許庁

To take a countermeasure against power supply noise efficiently by forming a capacitor at a desired position with no restriction of interconnection and to fabricate a capacitor of large capacity with a smaller area even in a finer pattern process technology.例文帳に追加

配線等の制約を受けることなく所望の位置にキャパシタを形成して電源ノイズ対策を効率的に行うことができ、微細化の進んだプロセス技術においても、より少ない面積でより大容量のキャパシタを構成する。 - 特許庁

To decrease a rate of interlacing or duplicate reading of frames in the synthesis of different video image signals into one image pattern with a frame synchronization technology with a simple contrivance and to eliminate temporal discontinuity between frames after frame synchronization processing.例文帳に追加

フレームシンクロ技術によって異なる映像信号を１画面に合成する際に、フレームの飛び越しや重複読み出しをする割合を簡素な仕組みで低くし、またフレームシンクロ処理後のフレーム間の時間的不連続性を改善する。 - 特許庁

Since the opening 15a of the gettering mask film 15 is formed by self-aligment technology utilizing the photoresist 16 as a mask, the opening pattern of the gettering mask film is formed, without being shifted from the opening pattern 16a of the photoresist 16 and a CGS film containing no impurity of catalytic metal can be formed by performing a photolithographic process only once.例文帳に追加

ゲッタリングマスク膜１５の開口部１５ａは、フォトレジスト１６をマスクとして利用して、セルフアラインにより形成されるので、フォトレジスト１６の開口部１６ａのパターンに対して、ゲッタリングマスク膜の開口部のパターンがずれることなく形成され、１回のフォトリソグラフィ工程によって、触媒金属による不純物を含まないＣＧＳ膜を形成することができる。 - 特許庁

In a stage for forming groove patterns on the air bearing surface of a thin film magnetic head slider 15 by photolithography technology, photoresist patterns 2 and 3 used for working are formed in step-shapes corresponding to a shallow pattern 12 and a deep pattern 13 and the photoresist patterns are transferred onto the air bearing surface in one etching step to work the shallow and deep grooves collectively.例文帳に追加

薄膜磁気ヘッドスライダー１５のエアーベアリング面にフォトリソグラフィ技術により溝パターンを形成する工程に際して、加工に用いるフォトレジストのパターン２、３を、浅溝パターン１２及び深溝パターン１３に対応した階段状に形成し、フォトレジストのパターンを、一回のエッチングによりエアーベアリング面上に転写し、浅溝、及び深溝の加工を一括して行う。 - 特許庁

To provide a method and technology which form "linear" behavior as to the printing of CD (Critical Dimensions) when the CD and pitches of features which are included in a prescribed mask pattern change and enable simple and systematic approach for maintaining this.例文帳に追加

所定のマスクパターンに含まれるフィーチャのＣＤ（臨界寸法）およびピッチが変わる際、ＣＤのプリンティングに関して「線形」挙動を形成し、これを維持するための簡単で系統的なアプローチを可能にする方法および技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology by which improvement in security is attained by combining images, a plurality of images from which a new image is generated when combined can be delivered via different routes and when an interference pattern is not present in a specific region, it is decided to be invalid.例文帳に追加

画像を合成することで、セキュリティの向上をはかり、合成されると新たな画像の生じる複数の画像を別経路で受け渡すことができ、干渉パターンが特定の領域に存在しない場合は無効とする技術を提供する。 - 特許庁

To provide technology for accurately and rapidly finding, for each wiring pattern, electric resonance frequencies of all the wiring patterns present on a circuit board, which is a printed circuit board mounted with a component.例文帳に追加

部品が搭載されたプリント配線基板において、当該配線基板上に在る全ての配線パターンの電気的な共振周波数を各々の配線パターンについて精度良く、かつ、高速で求めることが出来る技術を提供することである。 - 特許庁

To develop a technology for enabling not only the existence proof but also the traveling route or behavioral pattern of a rat to be grasped on the basis of the data of moving images for a target area for rat detection (detection target region) having been taken by means of a video camera.例文帳に追加

ねずみ検出対象範囲（検出対象領域）をビデオカメラによって動画撮影した撮影動画像データに基づき、ねずみの存在証明のみならず、ねずみの移動経路や行動パターンの把握も可能とする技術の開発。 - 特許庁

To provide an optical device having functions of reflection prevention, wavelength selection, wavelength dispersion and the like by forming a nano pattern by a highly accurate and simple method in a joining portion where patterning is difficult by a conventional lithographic technology and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

従来のリソグラフィ技術ではパターニングが困難な接合部位に高精度でかつ簡便な手法によりナノパターンを形成し、反射防止、波長選択、波長分散などの機能を持たせる光デバイスとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of inspecting a defect that controls a spatial filtering technology that actualizes a defective image independently of polarization characteristics of defective scattered light and suppresses brightness saturation of a normal pattern to improve a defect capturing rate, and a device using the same.例文帳に追加

欠陥散乱光の偏光特性に依存されずに欠陥像を顕在化する空間フィルタリング技術と正常パターンの明るさ飽和を抑制して欠陥捕捉率を向上する欠陥検査方法とその欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a technology that allows a softened resist to flow rapidly and can precisely control the flow direction and area, and thereby can be utilized for forming a pattern and manufacturing a TFT element for liquid crystal displays in the reflow treatment of the resist.例文帳に追加

レジストのリフロー処理において、軟化したレジストを速やかに流動させ、しかもその流動方向および流動面積を高精度に制御し、もってパターン形成や液晶表示装置用ＴＦＴ素子の製造に利用できる技術を提供する。 - 特許庁

The image generation algorithm simply requires that the generated watermark pattern be detected by a watermark detection algorithm of a watermark detection part; and not only watermark algorithm for still images but also two-dimensional symbol algorithm and algorithm that utilizes OCR technology may be adopted.例文帳に追加

画像生成アルゴリズムは、生成する透かしパターンが透かし検出部の透かし検出アルゴリズムにより検出できればよく、静止画像向けの電子透かしのアルゴリズムだけでなく、２次元シンボルのアルゴリズムやＯＣＲ技術を利用したものでもよい。 - 特許庁

To provide such a technology that can obtain a refined wiring pattern by an energy saving process without an expensive manufacturing apparatus, utilize a material, obtain a resource saving process; and to provide a high-quality and highly reliable wiring member.例文帳に追加

微細な配線パターンを高価な製造装置を必要とせず、また、省エネルギープロセスで実現できる技術を提供すること、材料の有効利用を図り、省資源のプロセスを実現すること、高品質、高信頼性の配線部材を得ること。 - 特許庁

To provide an image processing method and an image processing apparatus capable of achieving image processing by a general print technology, including a correction pattern into an image without changing an appearance of the image and improving the image processing performance.例文帳に追加

一般的な印刷技術で実現可能であり、かつ、画像の外観を変更することなく、補正用パターンを画像内に含めることができ、画像処理性能を向上させることができる画像処理方法および画像処理装置を提供する。 - 特許庁

The substrate for growing a GaN-based crystal usable in the ELO technology is obtained by forming a mask layer 2 with a pattern which is constituted of mask areas (d) and non-mask areas (e) on the surface of a crystal substrate 1 on which the GaNbased crystal can grow.例文帳に追加

ＧａＮ系結晶が成長可能な結晶基板１の該基板面に、マスク領域ｄと非マスク領域ｅとが形成されるパターンにてマスク層２を形成し、ＥＬＯ技術に対応し得るＧａＮ系結晶成長用基板とする。 - 特許庁

To provide consumers with a commodity having a low price and a high quality by supplementing recessed and protruding pattern machining related to mounting of a decorative stone on a surface of a glass support frame in a wristwatch case by a press machining technology by use of a mold to reduce a cost.例文帳に追加

装飾石の装着に関連する、腕時計ケースにおけるガラス支持枠表面の凹凸模様加工を、金型を用いたプレス加工技術で補ってコスト削減を図り、低価格で高品質の商品を消費者に提供する。 - 特許庁

As a basic digital code padding technology, a structure for padding extra information in an image by using a machine readable code arranged to represent digital data by the difference of arrangement pattern between two adjacent pixel groups of different gradation is utilized.例文帳に追加

ベースとなるデジタルコード埋込み技術としては、階調の異なる隣接した２つの画素群の配置パターンの違いによってデジタルデータを表わすようにした機械可読コードを使って付加情報を画像中に埋め込む仕組みを利用する。 - 特許庁

To provide a patterning process in which pattern densities of some regions are doubled by a double patterning technology while patterns having different widths are simultaneously formed, and to provide a semiconductor device having a structure to which the process is easily applicable.例文帳に追加

多様な幅を有するパターンを同時に形成しつつ、一部領域ではダブルパターニング技術によりパターン密度を倍加させる半導体素子のパターン形成工程、及びその工程を容易に適用しうる構造を有する半導体素子を提供する。 - 特許庁

To complete planarization of all insulation separation grooves formed on a substrate or steps generated at a wiring pattern formation, in a process for embedding an insulation material into the groove or wiring gap without using a CMP technology.例文帳に追加

基板上に形成された絶縁分離用溝もしくは配線パターン形成により生じた段差を、ＣＭＰ技術を用いることなく、溝もしくは配線間隙への絶縁材料埋め込み工程段階ですべて平坦化を完了させるようにする。 - 特許庁

Then, metal foil does not have to be stuck to both surfaces of the card substrate and the manufacturing cost 4 can be reduced in comparison with a conventional technology that sticking metal foil to both surfaces of a card substrate and forming a prescribed pattern by etching the metal foil.例文帳に追加

従って、従来の金属箔をカード基材の両面に貼り付け、これをエッチングで所定のパターンに形成する技術と比較して、金属箔をカード基材の両面に貼る必要がなくなり、製造コストを低減させることができる。 - 特許庁

To provide a polishing liquid which is used for metals, can reduce the quantity of erosion in a metal wiring portion having a high wiring density in comparison with that by conventional technology, and can form a metal film-buried pattern having high reliability, and to provided a polishing method using the same.例文帳に追加

配線密度の高い金属配線部でのエロージョン量を従来技術よりも小さくすることを可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属用研磨液及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technology whereby a terminal side can easily detect a reproduction start point in received data by controlling a data transmission pattern in units of packets in a communication protocol at a distribution server side so as to stabilize a video signal at reproduction start by the terminal side.例文帳に追加

配信サーバ側で通信プロトコルのパケット単位のデータ送信パターンを制御することにより、端末側で受信データ中の再生開始ポイントを容易に検出できるようにし、端末側の再生開始時の映像信号が安定することを目的とする。 - 特許庁

To provide a technology that causes a softened resist to quickly flow and precisely controls the flow direction and the flow area of the softened resist, in the reflow treatment of the resist, and thereby can be utilized for forming a pattern and manufacturing a TFT element for liquid crystal displays.例文帳に追加

レジストのリフロー処理において、軟化したレジストを速やかに流動させ、しかもその流動方向および流動面積を高精度に制御し、もってパターン形成や液晶表示装置用ＴＦＴ素子の製造に利用できる技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a CMP polishing agent capable of efficient and high-speed polishing with reduced influence of pattern density dependency and easy polishing process management without polishing scratches, with respect to CMP technology for smoothening an interlayer dielectric film, a BPSG film, and a shallow-trench-isolation insulation film.例文帳に追加

層間絶縁膜、ＢＰＳＧ膜、シャロートレンチ分離用絶縁膜を平坦化するＣＭＰ技術において、パターン密度依存の影響を少なく、効率的、高速に、研磨傷なく、かつ研磨プロセス管理も容易に、研磨できるＣＭＰ研磨剤を提供する。 - 特許庁

To provide a simple and efficient electroless plating technology which can form an electroconductive pattern on the surface of various kinds of substrate materials including a porous non-electroconductive material, and particularly can impart electroconductivity to the internal voids of the substrate materials.例文帳に追加

多孔質の非導電性材料を含む各種の基板材料の表面に導電性パターンを形成することができ、特に、それらの内部の空孔にも導電性を付与することができるような簡便で効率的な無電解メッキ技術を提供する。 - 特許庁

A technology which segments the halftone formation bitmap into a plurality of image tiles, compares each image tile with a corresponding halftone-formed reference pattern, and identifies it as the one comprising a uniform region by which halftone is formed if it is compatible with the corresponding reference pattern and detects a region which is not uniform in the halftone formation bitmap.例文帳に追加

ハーフトーン形成ビットマップを複数のイメージフタイルに区分化すること、各イメージタイルを対応するハーフトーン形成された基準パターンと比較すること、及び、これが対応する基準パターンと適合する場合には、該イメージタイルをハーフトーン形成された一様な領域を含むものとして識別することを含む、ハーフトーン形成ビットマップにおいて一様でない領域を検出する技術。 - 特許庁

The method of processing biological specimens comprises steps of: providing a slide with a biological specimen; creating an image of the specimen; using pattern recognition technology to compare the image to known information; and interpreting the image.例文帳に追加

生物学的標本を処理するための方法であって、スライドに生物学的標本を提供する工程；該標本の画像を作成する工程；パターン認識技術を使用して、該画像を既知の情報と比較する工程；および該画像を解釈する工程を包含する方法。 - 特許庁

To provide an improved polymer and photoresist composition in which the formation of a fine pattern in an electronic device production is enabled, and at least one of problems (separately described) relating to a newest technology can be avoided or remarkably improved, and to develop a photolithographic method for negative tone development.例文帳に追加

電子デバイス製造における微細パターンの形成を可能にし、および最新技術に関連する１以上の上記課題を回避するかまたは顕著に改善する、改良されたポリマー、フォトレジスト組成物、およびネガティブトーン現像のためのフォトリソグラフィ方法の開発。 - 特許庁

The present invention is related to a method for forming a storage electrode of a semiconductor element, and it is a technology of increasing the surface area of a storage electrode region by using especially a hard mask layer pattern and preventing the damage to an oxide film for the storage electrode and the bridge phenomenon between contacts.例文帳に追加

本発明は半導体素子の格納電極形成方法に関し、特にハードマスク層パターンを利用して格納電極領域の表面積を増加させ、格納電極用は酸化膜の損傷、及びコンタクト間のブリッジ現象を防止することができる技術である。 - 特許庁