「process device」に関連した英語例文の一覧と使い方(253ページ目) - Weblio英語例文検索

To perform a uniform treatment to multiple elements, without equipping a high-vacuum exhaust device in an activation process for depositing a deposit containing carbon on an electron emission part of an electron emission element.例文帳に追加

電子放出素子の電子放出部に炭素を含む堆積物を堆積させる活性化工程において、高真空の排気装置を備えることなく、複数の素子にむらなく処理を行う。 - 特許庁

In the process for fabricating a semiconductor device comprising a capacitor employing a dielectric film (4), a composite oxide (5) is used as the mask material, when the dielectric film is etched.例文帳に追加

誘電体膜（４）を用いたキャパシタを備える半導体装置の製造方法であって、前記誘電体膜をエッチングする際のマスク材料として複合酸化物（５）を使用する。 - 特許庁

By specifying a process, wafer, shot region, and its coordinates by using these graphs and pulldown menus 657, 659, and 661; the specified device structure can be shown as a graphical image.例文帳に追加

このグラフやプルダウンメニュー６５７、６５９、６６１により、プロセス、ウエハ、ショット領域及びその位置座標を指定すれば、指定されたデバイス構造体のグラフィックイメージを表示することができる。 - 特許庁

To improve mechanical strength of a part where a pad is formed while complication of a manufacture process is suppressed in a semiconductor device having copper wiring and the aluminum pad.例文帳に追加

銅配線およびアルミのパッド部を有する半導体装置において、製造工程の複雑化を抑えつつ、当該パッド部が形成される部分の機械的強度を向上させる。 - 特許庁

To form a thin gate insulating film in terms of SiO_2 thickness of different film thickness in a simple process concerning a semiconductor device having a high dielectric constant film and its manufacturing method.例文帳に追加

高誘電率膜を有する半導体装置及びその製造方法に関し、異なった膜厚で且つＳｉＯ_２ 換算膜厚の薄いゲート絶縁膜を簡単な工程で形成する。 - 特許庁

To prevent the deterioration of a semiconductor device by electrification of the front/rear face of a support substrate which occurs during a plasma process in the manufacture of a semiconductor apparatus using an SOI substrate.例文帳に追加

ＳＯＩ基板を用いた半導体装置の製造時にけるプラズマプロセス中に発生する支持基板の表面・裏面の帯電によって生じる半導体素子の劣化を防止する。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device containing a ferroelectric capacitor having such a structure as to prevent the diffusion of hydrogen into a ferroelectric film without needing an additional process.例文帳に追加

追加の工程を必要とすることなく強誘電体膜への水素拡散を防止することができる構造の強誘電体キャパシタを備える半導体記憶装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a mesa semiconductor device and a manufacturing method thereof wherein the specification of exact coordinates of the wire bonding position can be carried out by obtaining a clear binarized image upon camera recognition in the assembly process.例文帳に追加

組み立て工程で、カメラ認識の際に鮮明な二値化画像を得て、ワイヤーボンド位置の正確な座標特定が可能なメサ型半導体素子とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide core shell type fine particles which can be used for manufacturing a semiconductor device in a wet process such as coating, have adequate electrical characteristics and can be inexpensively manufactured.例文帳に追加

塗布等の湿式プロセスによる半導体デバイスの製造において用いることができ、良好な電気特性を有し、安価に製造することができるコアシェル型微粒子を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device for measuring the outer shape of an unvulcanized tire capable of efficiently measuring the circumferential length of the unvulcanized tire and its radial deflection before being transferred to a vulcanizing process.例文帳に追加

未加硫タイヤの周長とその半径方向の振れを加硫工程に移行する前に効率的に測定することのできる未加硫タイヤの外形測定方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

In the curing process, the disk 11 on which the ultraviolet curing resin is applied is irradiated with the ultraviolet rays at low illuminance by an ultraviolet irradiation device 10 until it is semi-cured.例文帳に追加

このときの硬化させる過程において、紫外線照射装置１０で低い照度の紫外線を紫外線硬化樹脂が塗布されたディスク１１に対して半硬化になるまで照射する。 - 特許庁

To provide a manufacturing system where hollow parts can be manufactured at a low cost and rationally by a hydro-forming device without having an intermediate stock in process.例文帳に追加

製造工程中における中間在庫を発生させず、低コストで合理的に中空部品をハイドロフォーム装置により製造することができる中空部品の製造システムを提供する。 - 特許庁

This metal polishing solution used in a semiconductor device wiring process is characterized by containing the compound expressed by the formula (1), an amino acid having hydroxyethyl group, and an oxidant.例文帳に追加

下記式（１）で表される化合物と、ヒドロキシエチル基を有するアミノ酸と、酸化剤と、を含有することを特徴とする、半導体デバイスの配線工程における金属用研磨液。 - 特許庁

To provide a device for treating organic waste, which is capable of performing the decomposition of the organic waste containing metals with supercritical water and the fractional recovery of the metals in one process.例文帳に追加

金属類を含む有機廃棄物の超臨界水による分解処理と金属類の分別回収を一つの工程で行うことができる有機廃棄物の処理装置を提供する。 - 特許庁

Due to the change in the TMBS device structure, the need for removing all the oxides from both the polysilicon of the TMBS portion and the silicon mesa regions, prior to contact process is eliminated.例文帳に追加

このようなデバイス構造の変化により、コンタクト工程の前に、ＴＭＢＳ部のポリシリコンおよびシリコンメサ領域の両方から酸化物をすべて除去する必要がなくなる。 - 特許庁

A micro-bubble washing process is executed by circulating water stored in an outer tub 5 inside a micro-bubble generating device 40 and feeding micro-bubbles into the circulating water.例文帳に追加

外槽５内に貯められた水をマイクロバブル発生装置４０内に循環させて、その循環する水の中にマイクロバブルを供給することにより、マイクロバブル洗濯行程を実行する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device in which a silicon oxide film formed on a silicon substrate or on the interface of a silicon layer and a high-permittivity insulating film are made thin easily.例文帳に追加

シリコン基板又はシリコン層と高誘電率絶縁膜の界面に形成されるシリコン酸化膜を容易に薄膜化することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

By a method and a device, a hybrid automatic repeat request (H-ARQ) process is dynamically allocated in a wireless transmission/reception unit to support enhanced uplink (EU) transmission.例文帳に追加

拡張上りリンク（ＥＵ：enhanced uplink）送信を支援するために、無線送受信ユニットにおいてハイブリッド自動再送要求（Ｈ−ＡＲＱ：hybrid-automatic repeat request）プロセスを動的に割り当てる方法および装置である。 - 特許庁

To improve processing efficiency of processing on substrates without greatly altering specifications of a processing device which performs a process of processing on the substrates and a cassette containing the substrates.例文帳に追加

基板に対して処理工程を行う処理装置及び基板を収納するカセットの仕様を大幅に変更することなく、基板に対する処理の処理効率を向上させる。 - 特許庁

To provide a chemical supply system in which chemical can be supplied stably to a processing unit and various problems in the production process of semiconductor device can be overcome.例文帳に追加

安定して薬液を処理装置に供給することが可能で、半導体装置の製造工程における諸問題を解決することのできる薬液供給装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern image forming device and method capable of shortening process time and reducing production cost without using photomask in an etching technology or lithography technology.例文帳に追加

リソグラフィー技術或いはエッチング技術において、フォトマスクを使用せずにプロセス時間の短縮化や生産コストの低減を図ることが可能なパターン画像形成装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reading classification device of ballot papers capable of eliminating a process for aligning the front and back surfaces of the ballot papers in advance and improving its convenience.例文帳に追加

本発明は、投票用紙の表裏を予め揃える工程を不要にでき、利便性を向上できる投票用紙の読取分類装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a process for preparing glycidol from glycerin carbonate with a high selectivity without having an agitation device or the like in the reactor and without requiring a catalyst separation operation in the post-step.例文帳に追加

反応器に撹拌装置等を備えることなく、また後工程での触媒分離操作の必要がなく、グリセリンカーボネートからグリシドールを高選択的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface mount electrostatic discharge device simple to manufacture and easy to mount on a printed-circuit board manufactured by a laminating ceramic process, and provide its manufacturing method.例文帳に追加

積層セラミック工程により製造することで、製造が容易で印刷回路基板に簡単に実装できる表面実装型静電気放電装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lighting device suitable for a front light or the like of a liquid crystal module with high illumination efficiency not hindering visibil ity, which can be manufactured in a simple process.例文帳に追加

照明効率が高く、視認性を妨げることなく、簡便なプロセスで製造することのできる液晶モジュールのフロントライト等に用いて好適な照明装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which a nitride containing layer formed through a plasma nitriding treatment has no unnecessary part in a process of manufacturing various semiconductor devices.例文帳に追加

各種半導体装置の製造過程で、プラズマ窒化処理によって形成された窒素含有層を不必要な部位に残存させない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fixture that facilitates transferring a semiconductor wafer during a process for forming imprints by irradiating laser, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device using the fixture.例文帳に追加

レーザー照射により捺印を形成する工程における半導体ウェハの搬送を容易にする固定治具およびそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an antistatic monomer cast nylon molding which has antistatic properties suitable for the process for manufacturing an electronic device, and can be produced in an industrial scale with good reproducibility.例文帳に追加

電子デバイス製造工程に好適な帯電防止性を有し、且つ、工業規模で再現性良く生産することができる帯電防止性モノマーキャストナイロン成形体を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a manufacturing method thereof in which ion implantation is conducted before the silicide process and leak current in MISFET can be controlled more reliably.例文帳に追加

シリサイドプロセス前にイオン注入を行う半導体装置およびその製造方法であって、より確実にＭＩＳＦＥＴにおけるリーク電流の抑制が図れるものを実現する。 - 特許庁

To prevent voids from occurring in a wiring and a plug when a multilayer interconnection structure is formed by forming the wiring and the plug using a groove interconnection method in a manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程において、溝配線法により配線やプラグを形成し、多層配線構造を形成する場合に、配線やプラグにボイドが生じることを防止する。 - 特許庁

To prevent a toner leakage and toner scattering during a period from process cartridge's shipping to be loaded into an imaging device or from an end of the lifetime to be collected.例文帳に追加

プロセスカートリッジが、出荷から画像形成装置に装着されるまでの期間、もしくは、寿命到達後から回収されるまでの期間に、トナー漏れやトナー飛散などを防止する。 - 特許庁

To provide a radiation imaging device capable of eliminating an afterimage while enhancing utilization efficiency of light generated by a scintillator without providing a reflecting layer requiring a complicated manufacturing process.例文帳に追加

煩雑な製造工程を必要とする反射層を設けることなく、シンチレータで発生する光の利用効率を高めつつ残像を消去できる放射線撮影装置を提供する。 - 特許庁

COMPOUND FOR COMPRESSION MOLDING AND ITS MANUFACTURING METHOD, LENGTHY MAGNET MOLDING AND ITS MANUFACTURING METHOD, MAGNET ROLLER, DEVELOPING ROLLER, DEVELOPING APPARATUS, PROCESS CARTRIDGE, AND IMAGE FORMING DEVICE例文帳に追加

圧縮成形用コンパウンド、及び、その製造方法、並びに、長尺磁石成形体、及び、その製造方法、並びに、マグネットローラ、現像ローラ、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置 - 特許庁

To provide a container of semiconductor chip which reduces breakage of a semiconductor chip during transportation, and to provide a process for manufacturing a semiconductor device using that container.例文帳に追加

半導体チップの輸送時に半導体チップの破損を低減することができる半導体チップの収納容器、その収納容器を用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

When manufacturing the organic EL device, after forming a pixel electrode 4 comprising an ITO film on an element substrate 2, a surface reforming process applied to the pixel electrode 4 is performed.例文帳に追加

有機ＥＬ装置を製造するにあたっては、素子基板２にＩＴＯ膜からなる画素電極４を形成した後、画素電極４に対する表面改質工程を行う。 - 特許庁

To provide a new deep trench(DT) collar process which reduces disturbance of strap diffusion to an array metal oxide semiconductor field effect transistor(MOSFET) of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスのアレイ金属酸化物半導体電界効果トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）に対するストラップ拡散の侵害を低減する、新しいディープ・トレンチ（ＤＴ）カラー・プロセスを提供する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a semiconductor device in which hydrogen can be supplied sufficiently to the interface of the gate insulating film and the semiconductor substrate of a transistor, without having to elevate the processing temperature.例文帳に追加

処理温度を高温にしなくてもトランジスタのゲート絶縁膜と半導体基板の界面に水素を十分に供給することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

For manufacturing a thin-film semiconductor device 100, a film forming process is performed and a polycrystalline semiconductor thin-film of amorphous or relatively small particle size is formed on an insulating substrate 0.例文帳に追加

薄膜半導体装置１００を製造する為、成膜工程を行ない、絶縁基板０の上に非晶質又は比較的粒径の小さな多結晶の半導体薄膜を形成する。 - 特許庁

The silicon member used for the semiconductor manufacturing process device is provided with a main body made of silicon and a high-purity silicon nitride covering the surface of the main body.例文帳に追加

半導体製造プロセス装置に用いられるシリコン部材であって，シリコン製の本体と、この本体の表面を覆う高純度の珪素窒化物とを備えていることを特徴とする。 - 特許庁

To improve overall productivity in a production line environment where a plurality of types of semiconductor device, process flows and manufacturing devices are mixed, in relation to a semiconductor production control system.例文帳に追加

半導体生産管理システムに係わり、複数の種類の半導体デバイス、工程フロー、及び製造装置などが混在する生産ライン環境で全体の生産性を向上する。 - 特許庁

To provide a display device of array data in a debugger having high debug efficiency by designating array elements and graph-displaying dispersed arrays processed in a process becoming the object of debugging.例文帳に追加

配列要素を指定してデバッグ対象となるプロセスで処理する分散配列をグラフ表示することにより、デバッグ効率の高いデバッガにおける配列データの表示装置を提供する。 - 特許庁

To improve reliability and characteristics of a semiconductor device by performing a crystallization heating process stably by using a metal element that promotes a crystallization of an amorphous silicon film.例文帳に追加

アモルファスシリコン膜の結晶化を助長する金属元素を利用した結晶化加熱処理工程を安定的に行ない、半導体装置の信頼性および特性を向上する。 - 特許庁

To provide a method and a device for shortening a time-consuming process to be repeated until the optimum damper tube length is specified when operating a gas turbine engine 10.例文帳に追加

本発明は、ガスタービンエンジン（１０）を作動させる際に、最適なダンパチューブ長さが特定されまで反復されなければならない時間のかかるプロセスを短縮する方法・装置を提供する。 - 特許庁

To provide a general purpose machine device capable of omitting a process clamping and releasing a machined gear or gear type tool, concretely a shaving cutter.例文帳に追加

機械加工される歯車または歯車型工具、具体的にはシェービングカッタを、把持し解放するプロセスを省略することができるようにするための汎用機械装置を提供する。 - 特許庁

To provide an information processing system and a program thereof capable of performing a highly precise calibration process of position coordinates on a display screen in display means of a computer device.例文帳に追加

コンピュータ装置の表示手段における表示画面上の位置座標との精度の高いキャリブレーション処理を行うことができる情報処理システム及びそのプログラムを提供する。 - 特許庁