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process deviceの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 19598件
To attach an identification mark to the surface of a steel material when working the steel material for a steel structure without especially providing a marking device or a marking process for attaching the identification mark to the steel material.例文帳に追加
識別マークを鋼材に付すためのマーキング装置及びマーキング工程を格別に設けることなく、鋼構造用鋼材の加工時に鋼材表面に識別マークを付与する。 - 特許庁
To provide a production device and a production method for suppressing facility costs, and for surely executing processing corresponding to manufacture instruction information applied to each product in each process.例文帳に追加
設備コストを抑制し、かつ、各工程において、製品毎に与えられる製造指示情報に応じた処理を確実に実行できる生産装置および生産方法を提供する。 - 特許庁
The device tip position controller obtains information, such as the position of the device tip from a camera 148 and execute process, including initial measurement region split step, image processing step, verification step, redivision step, coordinate administration step and another reference measuring point selection step.例文帳に追加
デバイスチップ位置制御装置は、デバイスチップの位置等の情報をカメラ148から取得して、初期測定領域分割ステップ、画像処理ステップ、検定ステップ、再分割ステップ、座標管理ステップ及び別基準測定点選定ステップを含む処理を実行する。 - 特許庁
To provide a hole formation method which achieves high process reproductivity and allows fine holes to be formed efficiently at low cost, and to provide a multilayer interconnection, a semiconductor device, a display element, an image display device, and a system that form via holes by using the hole formation method.例文帳に追加
プロセス再現性が高く、微細なホールを効率よく低コストで形成することができるホール形成方法、並びに、該ホール形成方法を用いてビアホールを形成した多層配線、半導体装置、表示素子、画像表示装置、及びシステムの提供。 - 特許庁
To provide an image forming device constituted so that the occurrence of an afterimage, filming on an intermediate transfer medium, toner scattering and the mixture of color may be prevented by stabilizing the unstable electrified polarity of toner left on the intermediate transfer medium after a transfer process and enhancing the performance of a cleaning device.例文帳に追加
中間転写媒体上の転写残トナーの不安定な帯電極性を安定させてクリーニング装置の性能を上げ、残像の発生や中間転写媒体のフィルミング、トナー飛散、混色の防止をした画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a communication device capable of confirming the validity of retrieval conditions in a process of inputting the retrieval conditions for acquiring destination information while suppressing the amount of information exchanged with a destination information storage device.例文帳に追加
宛先情報記憶装置との間でやり取りされる情報量を抑制しつつ、宛先情報を取得するための検索条件を入力している過程で検索条件の妥当性を確認することができる通信装置を提供する。 - 特許庁
To provide an energy absorbing device having high capability of absorbing vibration energy and a manufacturing method thereof for efficiently manufacturing the energy absorbing device having high capability of absorbing vibration energy without a complicated process.例文帳に追加
振動エネルギーの吸収能力の高いエネルギー吸収装置、および振動エネルギーの吸収能力の高いエネルギー吸収装置を、複雑な工程を必要とせず、効率よく製造することが可能なエネルギー吸収装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a nitride semiconductor device wherein a GaN layer is easily formed on a silicon substrate by using a simpler process and generation of cracks can be sufficiently restrained, and to provide a nitride semiconductor device manufactured by the method.例文帳に追加
より単純な工程によりシリコン基板上にGaN層を容易に形成し、且つクラックの発生を充分に抑制することが可能な窒化物系半導体装置の製造方法及びこれによる窒化物系半導体装置を開示する。 - 特許庁
An information collecting device 1 which collects the information transmitted from an information transmitting device 2, which is a ubiquitous node, performs a sorting process into an identification information registering phase and a transmission information collecting phase for collecting transmission information.例文帳に追加
ユビキタスノードである情報発信装置2から発信される発信情報を収集する情報収集装置1は、識別情報登録フェーズ及び発信情報を収集する発信情報収集フェーズに区分される処理を実行する。 - 特許庁
To provide an element transfer device capable of transferring the element fed from an element feed device side to a latter process side after positioning the elements accurately and speedily and capable of performing an identification inspection of the elements from the underside.例文帳に追加
素子供給装置側より送られてきた素子を正確かつ高速に位置決めして後工程側に移載することができ、素子に対する下方からの認識検査も可能である素子移載装置および素子移載方法を提供する。 - 特許庁
To provide a technique further suitable for miniaturization of a device while providing a shielding effect similar to a processing technique using a shield plate, in a substrate processing device and a substrate processing method carrying out a predetermined process with a substrate kept nearly-horizontal.例文帳に追加
基板を略水平に保持した状態で所定の処理を行う基板処理装置および基板処理方法において、遮断板を用いた処理技術と同様の遮断効果を得ながらも、より装置の小型化に適した技術を提供する。 - 特許庁
In the imaging device or the process cartridge, a fibrous sound absorbing material having sound-absorbing function in the audible region, preferably having sound-absorbing function in the frequency band of 200 Hz to 3 kHz is stuck on an inner surface of an external cabinet surrounding the device.例文帳に追加
装置を囲む外筐体の内面に、可聴領域で吸音機能を有する、より好ましくは200Hz〜3kHzの周波数帯域に吸音機能を有する繊維状の吸音材を貼付した画像形成装置またはプロセスカートリッジとすること。 - 特許庁
To provide a mask for hologram exposure that can be easily aligned with high accuracy in an exposure process, and to provide a method for manufacturing a mask for hologram exposure, a hologram exposure method, a method for manufacturing a semiconductor device and a method for manufacturing an electro-optical device.例文帳に追加
露光工程において高い精度で位置合わせが容易にできるホログラム露光用マスク、ホログラム露光用マスクの製造方法、ホログラム露光方法、半導体装置の製造方法および電気光学装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a near field opticalprobe which can be manufactured at low cost by simple process, a near field opticalprobe, a near field optical microscope, a near field light fine processing device and a near field optical record playback device.例文帳に追加
単純な工程で、安価なコストで作製することが可能となる近接場光プローブの作製方法、及び近接場光プローブ、近接場光学顕微鏡、近接場光微細加工装置、近接場光記録再生装置を提供する。 - 特許庁
To provide a developing device which not only prevents gathering by a simple method but also secures a stable image density up to the end of its lifetime to form images, an image forming apparatus provided with this developing device, and a process cartridge.例文帳に追加
簡易な方法ではき寄せを防止し、且つ現像装置寿命まで安定した画像濃度を確保して画像形成を行うことのできる現像装置、並びに、斯かる現像装置を備えた画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
To provide a lithographic device with which various sizes of substrates including nonstandard substrates can be processed without making a major change for the lithographic device which is so designed as to hold and process specific sizes and forms of substrates.例文帳に追加
特定のサイズ及び形の基板を保持及び処理するように設計されたリソグラフィ装置に大きな変更を加えることなく、標準外の基板を含めた様々な基板のサイズを処理することができるリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an electro-optic device which makes it possible to inspect whether a resin for forming a light shielding film can be well developed or not during the course of a manufacturing process step, the electro-optic device manufactured by this method and electronic apparatus.例文帳に追加
遮光膜を形成するための樹脂を良好に現像できたか否かを製造工程の途中で検査することを可能にした電気光学装置の製造方法、この方法で製造した電気光学装置、および電子機器を提供すること。 - 特許庁
In the interface unit of a coating/developing process system 1, a partitioning plate 42 is arranged, and a first gas-feed device 80 is arranged on the upper part of a region S1 for pre-exposure substrates, while a second gas-feed device 81 is arranged on the upper part of a region S2 for post- exposure substrates.例文帳に追加
塗布現像処理システム1のインタフェイス部に仕切板42を設け,露光前の領域S1の上部に第1の気体供給装置80を,露光後の領域S2の上部に第2の気体供給装置81をそれぞれ設ける。 - 特許庁
The method of changing a communication protocol of a first field device in a process control system includes decoupling from the first field device a first removable communication module configured to communicate using a first communication protocol.例文帳に追加
プロセス制御システムにおいて第1のフィールド装置の通信プロトコルを変更する方法は、第1の通信プロトコルを使用して通信するよう構成された第1の取外し可能な通信モジュールを第1のフィールド装置から切り離すことを含む。 - 特許庁
To provide a semiconductor device for forming a thin lower electrode film while controlling breakdown of the lower electrode during formation of HSG and peeling of HSG with the wet process after formation of HSG, and also to provide a manufacturing method of the same semiconductor device.例文帳に追加
HSG形成時の下部電極の破れや、HSG形成後のウェット処理によるHSGの剥がれを抑制しつつ、下部電極の膜厚を薄くすることが可能な半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a driving device capable of reducing shock jitters appearing in an image by relaxing an abutting shock when a developing unit abuts against a photoreceptor during color image formation, a developing device, a process cartridge, and an image forming apparatus.例文帳に追加
本発明の課題は、カラー画像形成時の現像ユニットが感光体に当接する際に、当接ショックを和らげることで、画像に現れるショックジターを低減できる駆動装置、現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することにある。 - 特許庁
To provide a device used for creating software and instructions for a distributed process control system wherein a user workstation is arranged in a place distant from a distributed control device for controlling one or more field devices by using a control module.例文帳に追加
制御モジュールを用いて1個以上のフィールド装置を制御する分散型制御装置から離れた場所にユーザワークステーションが配置された分散型処理制御システムのためのソフトウェア及び命令の作成に使用する装置を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device, a photomask to be used for producing the same and an overlapping accuracy improving method, with which accuracy in overlapping is improved by detecting the aberration of a lens to become a problem in the production process of the semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置の製造工程において問題となるレンズの収差を検出することにより、重ね合せ精度が向上した半導体装置、その製造に用いるフォトマスクおよびその重ね合せ精度向上方法を提供する。 - 特許庁
To provide a nonvolatile semiconductor storage device using W that has favorable compatibility with a CMOS process as a material for a resistance variable type memory cell, and to obtain a large capacity nonvolatile semiconductor storage device at low cost utilizing its oxide.例文帳に追加
不揮発性半導体記憶装置に関し、抵抗変化型メモリセルの材料としてCMOSプロセスと親和性が良好なWを用い、その酸化物を利用して低コストで大容量の不揮発性半導体記憶装置を実現しようとする。 - 特許庁
A display controlling CPU starts the rotation of drums constituting the variable display device to display an initial pattern in the variable display device when a special pattern power supply loading display command is received from a main board 31 in the initialization process.例文帳に追加
表示制御用CPUは、初期化処理において、主基板31から特別図柄電源投入表示コマンドを受信した場合等に、可変表示蔵置に初期図柄を表示させるために、可変表示装置を構成するドラムの回転を開始する。 - 特許庁
To provide a developing device, an image forming device and a process cartridge capable of realizing one-component development without providing a contact member for the triboelectrification of toner and preventing a defective image from being caused at the time of starting image forming operation.例文帳に追加
トナー摩擦帯電用の接触部材を設けることなく一成分現像が可能となるとともに、画像形成動作開始時の欠陥画像の発生を防止することができる現像装置、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
To provide a page buffer of a flash memory device capable of reducing program time, reducing the area of the device by omitting a data transmission circuit required for a data transmission process and lowering power consumption, and its program operation control method.例文帳に追加
プログラム時間を減らすことができ、データ伝送過程に必要なデータ伝送回路を省略して素子の面積を減らすことができるうえ、消費電力を低めることができる、フラッシュメモリ素子のページバッファおよびそのプログラム動作制御方法の提供。 - 特許庁
To provide a cleaning device capable of maintaining the initial abutting state compared with a constitution using a conventional blade of a laminated structure; and to provide an image forming apparatus, process cartridge, intermediate transfer unit, and recording body conveying unit, each including the cleaning device.例文帳に追加
従来の積層構造のブレードを備えた構成よりも初期の当接状態を維持することができるクリーニング装置、並びに、これを備える画像形成装置、プロセスカートリッジ、中間転写ユニット及び記録体搬送ユニットを提供する。 - 特許庁
To provide a developing device for suppressing developer leakage by controlling the crushing direction of a first seal member when a developer carrier is attached to a housing, and to provide a process unit and an image forming apparatus which have the developing device.例文帳に追加
現像剤担持体の筐体に対する装着時に、第1シール部材の潰れ方向が制御されており、現像剤の漏れを抑制することのできる、現像装置、および、その現像装置を備えるプロセスユニットおよび画像形成装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a display device, in which the shift in the threshold voltage of a thin-film transistor, including an oxide semiconductor layer can be suppressed, even if it is subjected to ultraviolet-light irradiation in a process of manufacturing the display device.例文帳に追加
表示装置の作製工程で紫外線の照射を行っても、酸化物半導体層を用いた薄膜トランジスタのしきい値電圧のシフトを低減させることができる、表示装置の作製方法を提供することを課題の一つとする。 - 特許庁
To provide an ignition starting device for use in an airbag system without performing a costly polishing process, in the configuration of which the ignition starting device has an insulator having a smooth and uniform outer surface which is free of an air gap, bubble, crack etc.例文帳に追加
エアバッグシステムに使用する点火起動装置の構成において、空隙や泡、亀裂などの無い平滑で面一な外表面を有する絶縁体を備えた点火起動装置を、コストの多くかかる研磨工程を行うことなく提供する。 - 特許庁
To divide a wafer into chips without limiting an applicable wafer, without a problem of alignment after dividing, and without requiring a device other than a dicing device, while suppressing occurrence of chipping, burr, contamination and the like in a dicing process of the wafer.例文帳に追加
ウエハのダイシング工程におけるチッピング、バリ、コンタミ等の発生を抑えつつ、適用可能なウエハが限定されることもなく、分割後の整直性の問題もなく、ダイシング装置以外の装置を必要とすることなく、ウエハをチップに分割すること。 - 特許庁
By using the semiconductor device, a power supply line is not required, thereby achieving a higher aperture ratio without increasing the number of masks or the number of steps in a panel creation process in comparison with a conventional semiconductor device.例文帳に追加
本発明の半導体装置を用いることにより、電源供給線が必要なくなるため、従来の半導体装置に比べて、パネル作成プロセスにおけるマスク枚数や工程数の増加を伴うことなく、より高い開口率を実現することが出来る。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor optical device for reducing a harmful influence caused by heat treatment even if there is a process for performing heat treatment after forming a dielectric film on a surface of a semiconductor layer, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加
半導体層の表面上に誘電体膜を形成した後に熱処理を行う工程を有する場合であっても、熱処理による悪影響を低減できる半導体光デバイスの製造方法および半導体光デバイスを提供すること。 - 特許庁
A model base development support part 100 generates general purpose peripheral IO model information 160 and device-independent source code 150 having a substitute instruction rewritable to a process dependent on device-specific input/output, from a controller model simulating a target controller.例文帳に追加
モデルベース開発支援部100は、ターゲットコントローラを模擬するコントローラモデルから、汎用周辺IOモデル情報160と、デバイス固有の入出力に応じた処理に書き換え可能な置換命令を有するデバイス非依存ソースコード150を生成する。 - 特許庁
If the extracted identification information indicates a device which can be encoded with the same attribute as the attribute which can be handled by an encoder of the edition device, an edition process is performed by using the method for performing re-encoding by decoding only the minimum necessary section.例文帳に追加
抽出された識別情報が編集装置のエンコーダの対応可能な属性と同じ属性でエンコードできる装置であることを示していれば、必要最小区間のみをデコードし再エンコードする手法を用いて編集処理を行う。 - 特許庁
Thereby phase difference control based on the additional etching can be performed also on the way of the phase shifting mask preparing process, the preparation efficiency of the phase shifting mask can be improved, the quality of a semiconductor device can be stabilized, and the cost of the device can be reduced.例文帳に追加
したがって、位相シフトマスクの作製工程途中でも、追加エッチングによる位相差制御を行なうことが可能になり、位相シフトマスクの作製効率を改善でき、半導体装置の品質の安定化やコストダウンを図ることが可能となる。 - 特許庁
To provide a development device which will not only prevent gathering by a simple method, but will secure a stable image density up to the end of its lifetime to form images, and to provide an image forming apparatus provided with this developing device, and a process cartridge.例文帳に追加
簡易な方法ではき寄せを防止し、且つ現像装置寿命まで安定した画像濃度を確保して画像形成を行うことのできる現像装置、並びに、斯かる現像装置を備えた画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device improving filling nature of an insulating film in a space between gate lines and freely adjusting the opening width for a junction region to improve process reliability and electrical characteristics of the device.例文帳に追加
ゲートライン間の区間で絶縁膜の埋め込み特性を向上させ、接合領域の開放幅を自由に調節して工程の信頼性及び素子の電気的特性を向上させることが可能な半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
In a manufacturing method of a semiconductor device with a plasma treatment process of a wafer for forming a semiconductor device, a wafer in which an organic film is formed is regularly subjected to plasma treatment by S2 (plasma treatment of an organic film) and the plasma treatment state is checked.例文帳に追加
半導体装置が形成されるウエハのプラズマ処理工程を備えた半導体装置の製造方法において、「有機膜のプラズマ処理」S2によって、有機膜を形成したウエハを定期的にプラズマ処理して、前記プラズマ処理状態を調べる。 - 特許庁
To provide a semiconductor device in which fluorides being produced when oxides on the metal surface are removed after forming a contact hole can be removed and production of TiOH can be prevented, and to provide a process for fabricating a semiconductor device.例文帳に追加
コンタクトホール形成後における、金属表面の酸化物除去の際に生じるフッ化物の除去を可能にすることと、TiOHが生成されるのを防ぐ半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供することである。 - 特許庁
To reduce cost by simplifying a manufacturing process of a steering shaft; to improve the machining accuracy; to enable miniaturization of a device, automatic counter-steering operation and automatic steering, in so-called a rack assisting type electric power steering device.例文帳に追加
いわゆるラックアシストタイプの電動パワーステアリング装置において、転舵軸の製造工程をより簡素にしてコストを低減すると共に加工精度をより向上し、さらには装置の小型化および自動的なカウンタステア操作・自動操舵を可能にする。 - 特許庁
To provide a developing device which is capable of surely keeping the toner concentration of a developer supplied to a developer carrier to be constant and extending the lifetime of the developer and to provide a process cartridge and an image forming apparatus which use the developing device.例文帳に追加
現像剤担持体に供給する現像剤のトナー濃度を確実に一定にすることができ、かつ、現像剤の長寿命化を図ることが可能な現像装置、並びにこれを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a compound semiconductor crystal (an epitaxial substrate) capable of improving the alignment precision for a mask pattern with reference to an orientation flat in a device manufacturing process without reducing the device forming region of a substrate.例文帳に追加
基板のデバイス形成領域を狭めることなく、デバイス製造プロセスにおいてオリエンテーションフラットを基準とするマスクパターンの位置合わせの精度を向上させることができる化合物半導体結晶(エピタキシャル基板)の製造方法を提供する。 - 特許庁
An exhaust emission control system is provided with the hydrogen enrichment catalyst installed in an exhaust gas flow passage of an internal combustion engine operated under a condition where atmosphere of exhaust gas is lean-rich, this invented device for diagnosing the hydrogen enrichment catalyst and a regeneration process execution device.例文帳に追加
排気ガスの雰囲気がリーン〜リッチの状態で運転される内燃機関の排気ガス流路に設置した水素富化触媒と、上記本発明の水素富化触媒劣化診断装置と、回復処理実行装置とを備える排気ガス浄化システム。 - 特許庁
Thereby failures of the manufacture of the semiconductor integrated circuit device can be reduced, and the small-scale correction of the semiconductor integrated circuit device can be easily realized on and after the wiring process by using the dummy wiring group.例文帳に追加
このことにより、半導体集積回路装置の製造上の不良を低減することができると共に、ダミー配線群を用いて半導体集積回路装置の小規模な修正を、配線工程以降で容易に実現することができる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device which has superior productivity without a flax washing process, and can reduce warpage caused by grinding a back surface of a semiconductor wafer, and the semiconductor device manufactured by using the same.例文帳に追加
フラックス洗浄工程が不要で生産性に優れ、かつ半導体ウエハの裏面を研削した際の反りを低減することが可能な半導体装置の製造方法およびその製造方法で製造された半導体装置を提供すること。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of a silicon carbide semiconductor device, which is provided with a film forming process for forming a film including silicon carbide epitaxial film or the like with uniform thickness and uniform quality on a silicon carbide substrate, and its manufacturing device.例文帳に追加
炭化珪素エピタキシャル膜をはじめとする膜を炭化珪素基板上に均一な膜厚で均一な膜質の膜を形成する膜形成工程を備えた炭化珪素半導体装置の製造方法およびその製造装置を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the semiconductor device has the method of forming the thin film in its process, and consequently, the silicide film, the silicate film or the like is formed in the semiconductor device having the proper in-plane uniformity of the film thickness and the film quality.例文帳に追加
本発明の半導体装置の製造方法は、上述した薄膜形成方法を工程中に有するものであり、その結果、シリサイド膜やシリケート膜等を薄膜の膜厚や膜質の面内均一性よく半導体装置中に形成できる。 - 特許庁
A first presentation to validate the operation of a presentation button 17 is performed in a liquid crystal display device 13, and when the presentation button 17 is operated in the process of the first presentation, a second presentation is performed in the liquid crystal display device 13.例文帳に追加
演出ボタン17の操作が有効となる第1の演出が液晶表示装置13において実行され、この第1の演出中に演出ボタン17を操作すると第2の演出が液晶表示装置13において実行される。 - 特許庁
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