「process-base」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To shorten the cycle of a molten raw material stirring/injection process and reducing a load on the sealing part of a cylinder base for a screw.例文帳に追加

溶融原料の攪拌、射出工程のサイクルを短縮するとともに、スクリュー用シリンダ基部のシール部の負担を軽減すること。 - 特許庁

In the high corrosion-resistant member, the surface of the stainless steel base material is not exposed to a high temperature of 450°C or higher in manufacturing process.例文帳に追加

上記の高耐食性部材は、製造工程において、ステンレス鋼製の基材の表面が、高温（＞４５０℃）に曝されない。 - 特許庁

A base engine 100 includes a process controller 102, a video control unit 105, an I/O control unit 106, a memory module 107, etc.例文帳に追加

ベースエンジン１００にはプロセスコントローラ１０２、ビデオ制御部１０５、Ｉ／Ｏ制御部１０６、メモリー・モジュール１０７などが設けられる。 - 特許庁

(a): The process in which a coating liquid layer is formed by application of a coating liquid containing catalyst and ion-exchange resin on a base material.例文帳に追加

（ａ）基材の上に、触媒およびイオン交換樹脂を含む塗工液を塗工して塗工液層を形成する工程。 - 特許庁

(c) A process in which 4-benzyl-2-oxo-5- oxazolidinecarboxylic acid is treated with a base to obtain β-amino-α- hydroxycarboxylic acid.例文帳に追加

（ｃ）４−ベンジル−２−オキソ−５−オキサゾリジンカルボン酸を塩基で処理し、β−アミノ−α−ヒドロキシカルボン酸を得る工程。 - 特許庁

In the assembly process before soldering, an insulation substrate 1 is positioned on the heat dissipation base 2 using this carbon jig 4a.例文帳に追加

半田付け前の組立工程において、このカーボン治具４ａを使用して絶縁基板１を放熱ベース２上で位置決めする。 - 特許庁

A separating membrane 81 (a base) formed of lead at a lower temperature than a predetermined temperature in an annealing treatment process is formed on a stage 80.例文帳に追加

まず、アニール処理工程での所定の温度よりも低い鉛からなる分離膜８１（基材）をステージ８０上に形成する。 - 特許庁

To establish and maintain stable wireless communication connections between different remote devices and a base computer by a process control system.例文帳に追加

プロセス制御システムにおいて異なる遠隔装置とベースコンピュータとの間で安定したワイヤレス通信接続を確立し、維持する。 - 特許庁

To provide a process of stably producing a cycloolefin resin film by improving the brittleness of an unoriented intermediate base film.例文帳に追加

未延伸の中間ベースフィルムの脆性を改善し、安定して環状オレフィン系樹脂フィルムを製造できる方法を提供する。 - 特許庁

There is always some process in control of a processor, namely that one which has its descriptor in the descriptor base register. 例文帳に追加

プロセッサの支配下にあるプロセスが常に存在する。すなわち、デスクリプタベースレジスタ中にその（プロセッサの）デスクリプタを持つプロセスである。 - コンピューター用語辞典

To provide a method for reducing the discharge of perfluoro base compounds in a semiconductor manufacturing process consisting of a number of sub-processes.例文帳に追加

多数のサブ−工程を含む半導体製造工程におけるパーフルオロ系化合物の排出低減方法を提供する。 - 特許庁

(a): A drilling process for making a hole on the base material A is carried out by means of a tool 13a mounted on the main spindle 11 of the machine tool.例文帳に追加

（ａ）工作機械の主軸１１に装着したツール１３ａにより母材Ａに孔を穿ける穿孔工程を行なう。 - 特許庁

To prevent thermal damage of filter base material and improve fuel economy by reducing a fuel use quantity during a forcible regeneration process.例文帳に追加

フィルタ基材の熱損傷を防止するとともに、強制再生処理時の燃料使用量を低減し燃費を向上させる。 - 特許庁

The aluminum layer from the sheath is made to sock in the SiC preform during the pressure casting process to diffuse the aluminum layer in the preform to form the aluminum silicon carbide(AlSiC) base layer 116.例文帳に追加

次いで、純粋なアルミニウムが基板をカプセル化し、ＡｌがＳｉＣ中に拡散されてＡｌＳｉＣを形成する。 - 特許庁

The fourth process is for baking the stuck base board under the second atmosphere to coat the pixel area with the resin layer 121.例文帳に追加

第４の工程は、貼り合せ基板を第２の雰囲気下でベークし、画素領域を樹脂層１２１で被覆させる工程である。 - 特許庁

The method of manufacturing the ultra-thin polyimide film characteristically comprises: a process (I) of applying a polyimide resin precursor solution containing a releasing agent on a base material; a process (II) of drying the applied polyimide resin precursor solution, a process (III) of thermally curing a polyimide resin precursor solution layer to form the polyimide film; and a process (IV) of exfoliating the polyimide film from the base material.例文帳に追加

下記工程（I）〜（IV）を含むことを特徴とする極薄のポリイミドフィルムの製造方法：（I）離型剤を含有するポリイミド樹脂前駆体溶液を基材上に塗布する工程、（II）塗布されたポリイミド樹脂前駆体溶液を乾燥する工程、（III）ポリイミド樹脂前駆体溶液層を熱硬化してポリイミドフィルムを形成する工程、および（IV）ポリイミドフィルムを基材から剥離する工程。 - 特許庁

The design coating method comprises a process for imparting energizing property by energizing the surface of the base material, a process for forming a coating film by applying an ultraviolet curing-type powder coating on a base material and heating to melt the powder coating after coating, a process for curing the coating film by irradiating the coating film with ultraviolet ray and a process for printing a design on the cured coating film.例文帳に追加

基材表面に通電処理を施し、通電性を付与する工程と、紫外線硬化型の粉体塗料を基材上に塗装し、塗装後粉体塗料を加熱溶融して塗膜を形成する工程と、塗膜に紫外線を照射して塗膜を硬化させる工程と、硬化塗膜上に意匠を印刷する工程とを備えることを特徴としている。 - 特許庁

The manufacturing method for the birefringent layer includes processes of coating a base material with a material forming the birefringent layer and drying the applied forming material to form the birefringent layer on the base material, and uses as the base material a resin-made base material whose size variation quantity, shown by equation (A), after the coating process and drying process is ≤1 %.例文帳に追加

基材に複屈折層の形成材料を塗工し、前記塗工した形成材料を乾燥することより、前記基材上に複屈折層を形成する工程とを有する複屈折層の製造方法において、前記基材として、前記塗工工程および乾燥工程を施した後の下記式（Ａ）に示す寸法変化量が１％以下となる樹脂製基材を使用する。 - 特許庁

The result about the formation of the atomic layer deposition film is determined between an deposition process and an oxidation process, or after the oxidation process, when having the deposition process depositing a film raw material on the base to form a precursor film and the oxidation process for steam-oxidation-treating the precursor to form the atomic layer deposition film, in the formation of the atomic layer deposition film.例文帳に追加

原子層堆積膜形成が、膜原料を基体上に堆積させて前駆体膜を形成する堆積工程と、前駆体膜を水蒸気酸化処理して原子層堆積膜とする酸化工程とを有している場合、原子層堆積膜形成の成否の判定を、堆積工程と酸化工程との間、または酸化工程の後に行うようにする。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor substrate related to a first aspect includes: a preparation process for preparing a base substrate formed of Cr; and a nitriding process for nitriding a (110) plane of the base substrate to form a (111) plane of a chromium nitride layer.例文帳に追加

本発明の第１側面に係る半導体基板の製造方法は、Ｃｒで形成された下地基板を準備する準備工程と、前記下地基板の（１１０）面を窒化してクロム窒化物層の（１１１）面を形成させる窒化工程とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

A method for producing an alpha-alumina-formed member on a surface of a base material comprises (1) a process for forming an alumina layer of an alpha-type crystal structure on at least a partial surface of the base material; and (2) a process for performing an ion bombardment treatment to the surface of the resulting alumina layer.例文帳に追加

基材表面にαアルミナ層が形成された部材を製造する方法であって、（１）基材の少なくとも一部の面に、α型結晶構造のアルミナ層を形成する工程、（２）得られたアルミナ層の表面にイオンボンバード処理を施す工程、を含む。 - 特許庁

The method for producing the gas-barrier film comprises a process of preparing a radiation-curable monomer layer on a base film, a process of treating the radiation-curable monomer layer with heat, and a process of curing the heat-treated radiation-curable monomer layer with a radiation.例文帳に追加

基材フィルム上に放射線硬化性モノマー層を設ける工程と、該放射線硬化性モノマー層を加熱処理する工程と、該加熱処理後の放射線硬化性モノマー層を放射線により硬化させる工程を経てガスバリア性フィルムを製造する。 - 特許庁

A first intermediate layer 4 is formed on a base substrate 3 in which a growing base layer 2 of AlN is formed on a sapphire base material 1, and an AlN single crystal layer 7 is further formed by an HVPE (hydride vapor phase epitaxy) process, so as to obtain a stacked body 10.例文帳に追加

サファイア基材１の上にＡｌＮの成長下地層２を形成した下地基板３の上に、第１中間層４を形成したうえで、さらにＡｌＮ単結晶層７をＨＶＰＥ法によって形成し、積層体１０を得る。 - 特許庁

The printer information data base 2 is equipped with an installation place data base 21 which stores the installation places of printers 6 and 7 connected by the network and a processing capability data base 22 which stores printing process capability data of the printers 6 and 7.例文帳に追加

印刷装置情報データベース２は、ネットワーク接続される印刷装置６、７の設置場所データを記憶する設置場所データベース２１と、印刷装置６、７の印刷処理能力データを記憶する処理能力データベース２２とを備えている。 - 特許庁

Consequently, difference in linear expansion coefficient is decreased between the base board 1 and an insulating substrate 2, and warp of the base board 1 resulting from difference in linear expansion coefficient between the base board 1 and the insulating substrate 2 can be reduced in heating process.例文帳に追加

その結果、ベース板１と絶縁基板２の線膨張係数の差が小さくなるので、加熱工程において、ベース板１と絶縁基板２の線膨張係数の差が大きいことに起因して生じるベース板１のそりを低減することができる。 - 特許庁

A base material is laminated on the conductor pattern 12 produced, which is subjected to a press working process to the base material using a die heated to a temperature over the softening point of the base material, so that thermocompression bonding is established, followed by punching off of the contour, and thus the intended flexible print circuit harness is manufactured.例文帳に追加

形成した導体パターン１２にベース材をラミネートし、ベース材の軟化点以上の温度に加熱した金型で導体パターンをベース材にプレス加工して熱圧着し、外形抜きを行いフレキシブルプリント回路ハーネスを製造する。 - 特許庁

To curtail a molding process by making only the unnecessary part of a board base material removable while a skin material secures a length for covering the terminal of the board base material during molding when the board base material and the skin material are molded integrally.例文帳に追加

ボード基材と表皮材とを一体成形する場合に、その成形時において表皮材はボード基材の端末を被うだけの長さを確保したまま、ボード基材の不要部分のみを除去可能とし、それによって成形工程の短縮を図る。 - 特許庁

To provide a hydrogenation purification process which enables simultaneous achievement of both isomerization of the normal paraffins present in a fuel base material and reduction of the oxygen-containing substances present in the fuel base material while sufficiently maintaining the yield of the fuel base material.例文帳に追加

燃料基材の収率を十分に維持しつつ、燃料基材に含まれるノルマルパラフィンの異性化と、燃料基材中の含酸素化合物の低減との双方を同時に達成することが可能な水素化精製方法を提供すること。 - 特許庁

In the brazing method of the aluminum member and the member composed of the copper or the stainless steel by using Zn-Al alloy base or Al-Si-Zn alloy base brazing filler metal, the brazing filler metal and Cs-F base non-corrosive flux are set on a joining surface, and the heating process is continued.例文帳に追加

Zn-Al 合金系又はAl-Si-Zn合金系のろう材を用いて、アルミニウム部材と銅又はステンレスからなる部材とをろう付けする方法であって、ろう材と、CsＦ系の非腐食性フラックスとを接合面に配置し、加熱する工程を有する。 - 特許庁

A base 22 includes a screwing hole 26 for fixing the base 22 to a mold that is a mold form of a basket in a basket manufacturing process, and a tip of the bolt 27 is protruded from the lower surface of the base 22 through the screwing hole 26.例文帳に追加

ベース２２には、バスケット製造過程においてベース２２をバスケットの型枠であるモールドに固定するためのネジ止め孔２６が空けられており、ボルト２７はこのネジ止め孔２６を貫通して、先端がベース２２の下面から突出している。 - 特許庁

After that, when a holding releasing process of releasing the base metal 10 from holding of a first chuck 140 is performed, the base metal 10 drops owing to its dead load, and the first revolving table is stopped with a part of the base metal 10 projected from the end part of the first revolving table 102.例文帳に追加

その後、第１チャック１４０による母材１０の保持を解除する保持解除工程を行うと、母材１０が自重によって落下し、母材１０の一部が第１旋回テーブル１０２端部から突出した状態で停止する。 - 特許庁

To provide a heating device equipped with a ceramic base body and a heating element buried in the base body, and provided with a heating surface to process a heating object to the base body, with stabilized operation in each part of the heating device.例文帳に追加

セラミックス製の基体と、この基体の中に埋設されている発熱体とを備えており、基体に被加熱物を処理するべき加熱面が設けられている加熱装置において、加熱装置の各部分における動作状態を安定化する。 - 特許庁

In the contents distributing device 1 during a contents purchasing process, right information regarding usage of contents purchased by a user is registered in a data base 20 for rights owned by the user on the basis of a user data base 18 and a data base 19 for contents rights.例文帳に追加

コンテンツ購入処理時には、コンテンツ配信装置１において、ユーザが購入したコンテンツの利用に関する権利情報が、ユーザデータベース１８及びコンテンツ権利データベース１９に基づいて、ユーザ所有権利データベース２０内に登録される。 - 特許庁

In a process where a gaseous starting material is cracked by glow discharge to deposit fine particles on a base board 11, the size of the fine particles deposited on the substrate is controlled by the voltage to be applied to the base board 11 or a base board holder 12 having electrical conductivity.例文帳に追加

グロー放電により原料ガスを分解して基板１１の上に微粒子を堆積する工程において、導電性を有する基板１１または基板ホルダー１２に付与する電圧の値により、基板上に堆積する微粒子サイズを制御する。 - 特許庁

Thereby, the length from the base 104a to the aperture reception face 205 is made long, and the heat quantity radiated from an aperture fixing base 201 is made large in a process that the heat is conducted from the aperture fixing base 201 to the aperture reception face 205.例文帳に追加

これにより、ベース台１０４ａからアパーチャ受け面２０５までの距離を長くすることができ、アパーチャ固定台２０１から受け面２０５へ熱が導電される過程で、アパーチャ固定台２０１から放出される放熱量を多くできる。 - 特許庁

The method of manufacturing the solar cell module includes a cell preparation process of preparing a solar cell 1 having electrode wiring, a wiring board preparation process of preparing a wiring board having a base 20 and a wiring pattern provided over the base 20, a mounting process of electrically connecting the wiring pattern and electrode wiring to each other and mounting the solar cell 1 on the wiring board, and an exposure process of removing the base 20 to expose the wiring pattern.例文帳に追加

本発明に係る太陽電池モジュールの製造方法は、電極配線を有する太陽電池セル１を準備するセル準備工程と、基材２０と、基材２０の上方に設けられる配線パターンとを有する配線基板を準備する配線基板準備工程と、配線パターンと電極配線とを電気的に接続させ、配線基板に太陽電池セル１を搭載する搭載工程と、基材２０を除去し、配線パターンを露出させる露出工程とを備える。 - 特許庁

This liquid processing device is used for spraying a processing liquid to a surface of a substrate supported to a substrate support base to process the surface of the substrate.例文帳に追加

基板支持台に支持された基板の表面に処理液をかけて当該基板の表面の処理を行う液処理装置である。 - 特許庁

The manufacturing method of the wooden material has a clear layer forming process of forming a clear layer on the right surface of the wooden base material.例文帳に追加

本発明の木質材の製造方法は、木質基材の表面側にクリア層を形成するクリア層形成工程を備えている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a ceramic joined material formed by laminating and joining a ceramic base material and a conductive plate without using a high-temperature process.例文帳に追加

高温プロセスを用いずにセラミック基材と導電板とを積層接合してなるセラミック接合材の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a metal joined material formed by laminating and joining a metal base material and a conductive plate without using a high-temperature process and a parts with used the same.例文帳に追加

高温プロセスを用いずにメタル基材と導電板を積層接合したメタル接合材およびそれを用いた部品の提供。 - 特許庁

Then, these GWs inform their own base stations of their preferred sub-channel allocation and the troubled GW 1 of the completion of the process.例文帳に追加

次いで、他のＧＷは、自身の基地局にはそれらの好ましいサブチャネル割当を、及びＧＷ１には処理の完了を知らせる。 - 特許庁

In the process control of a controller 21, control parameters are prevented to deviate from a previously measured range of data base.例文帳に追加

このときに制御装置２１で行うプロセスコントロールでは、制御パラメータが、あらかじめ測定したデータベースの範囲を逸脱しないようにする。 - 特許庁

The gas permeable membrane is fixed in a process of polymerization solidification, when using a poly-dimethyl siloxiane (PDMS) as a base material for preparing the microchannel.例文帳に追加

ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を、マイクロチャネルを作成する基材に用いれば、その重合固化の過程でガス透過性膜を固着する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a male terminal fitting manufacturable with a simple process, and hardly causing separation of plating of its base end.例文帳に追加

簡易な工程で作成でき、かつ基端部のメッキ剥離の可能性が低い雄側端子金具の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A retreated base oxide film 12 in a wet etching process affects a shape change in an upper edge 141 of a trench 14.例文帳に追加

ウェットエッチング工程による下地酸化膜１２の後退は、トレンチ１４における上部エッジ１４１の形状変化に影響を与える。 - 特許庁