「reflection method」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a radio wave absorber which has enough reflection damping ability for preventing communication jamming such as by reflection of an electromagnetic wave, can be made thin and lightweight, and has a damping characteristic in a wide band; and to provide a manufacturing method of the radio wave absorber.例文帳に追加

電磁波の反射などによる通信障害を防止できるだけの反射減衰能力を有し、薄型化および軽量化が可能であり、且つ、広帯域な減衰特性を有する電波吸収体および電波吸収体の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the recording method where a yellow inkdrop is recorded on a material to be recorded in response to a recording signal, when chroma of an image formed with the yellow ink is expressed by L^*a^*b^* color system, b^* between a reflection density 1.2 and a reflection density 1.8 is ≥85.例文帳に追加

イエローインク滴を記録信号に応じて被記録材に記録を行う記録方法において、前記イエローインクで画像を形成した場合の色度を、Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系で表示した時、反射濃度１．２〜１．８間のｂ^*が８５以上である記録方法。 - 特許庁

In the film thickness measuring method, the film thickness of a resin film 12 formed on the surface of a metal band 10 is measured by receiving reflection light of infrared cast on the metal band 10 surface and operating the absorption amount of the reflection light by a resin film 12.例文帳に追加

金属帯１０の表面に形成された樹脂皮膜１２の膜厚を、金属帯１０の表面に投光させた赤外線の反射光を受光し、樹脂皮膜１２による反射光の吸収量を演算することで測定する膜厚測定方法である。 - 特許庁

To provide a phase modulation element which controls the position of a reflection face of light with a position accuracy sufficiently shorter than light wavelength by driving a structure in which a micromirror is integrated in a micron size structure, in a method of modulating the optical phase by the position of reflection face of light.例文帳に追加

光の反射面位置により光位相を変調する方式において、ミクロンサイズの構造にマイクロミラーを一体化した構造体の駆動において光波長より十分短い位置精度で光の反射面位置を制御する位相変調素子を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition apparatus which can deposit a reflection film capable of attaining an initial reflectance of a level nearly equal to that of a reflection film formed of pure silver and formed of a material obtained by adding bismuth to silver and excellent in the environmental resistance on a substrate, and to provide a vacuum film deposition method.例文帳に追加

純Ａｇからなる反射膜と略同等レベルの初期反射率に到達でき、かつ銀にビスマスを添加した材料からなる耐環境性に優れた反射膜を基板に堆積可能な、真空成膜装置および真空成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide an observation method for identifying a fine particle set to which a heterogeneous element has been added using: a method of determining observation conditions of SEM reflection electron measurement capable of giving a maximum luminance contrast and performing measurement with high reproducibility with respect to the kind and thickness of a film-like element; and a method of predicting a combination of element kinds that can be identified by SEM reflection electron measurement.例文帳に追加

薄膜状元素の種類と厚さに対して、輝度コントラストが最大となり且つ再現性よく計測することができるSEM反射電子計測の観測条件を決定する方法および、SEM反射電子計測により識別することが可能な元素種類組み合わせを予測する方法を用いて異種元素が付加された微粒子セットを識別する観察方法を提供すること。 - 特許庁

In this reflection damping amount measuring method for receiving reflection light generated when light coming out of a light source enters an object to be measured by a light detector to measure a reflection damping amount of the object to be measured, the light source consists of an ASE light source, and a light receiver consists of a measuring device for measuring optical power per wavelength.例文帳に追加

光源から出射した光が被測定物に入射する際に生じる反射光を、光検出器で受光して被測定物の反射減衰量を測定する反射減衰量測定方法において、前記光源はＡＳＥ光源からなり、かつ前記受光器は波長毎の光パワーを測定する測定器からなる反射減衰量測定方法および装置を用いる。 - 特許庁

To provide: a reflection type mask such that the reflection type mask having been used and contaminated has its EUV light reflectivity restored to original reflectivity when the EUV light reflectivity decreases as a result of cleaning with respect to a reflection type mask for EUV exposure used to transfer a mask pattern onto a wafer using EUV light; and a method of repairing the same.例文帳に追加

本発明は、ＥＵＶ光を用いてマスクパターンをウェハ上に転写するためのＥＵＶ露光用の反射型マスクに関し、使用により汚染した反射型マスクを、洗浄することにより生じるＥＵＶ光反射率の低下に対し、ＥＵＶ光反射率を元の反射率に復元することが可能な反射型マスクおよびその修復方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

The method for manufacturing the solar battery element having a diffusion layer 2 and an anti-reflection layer 3 on the surface of a semiconductor substrate 1 removes a damage layer 11 by performing chemical treatment after forming on the semiconductor layer 1 the damage layer 11 penetrating the anti-reflection layer 3 by performing physical processing above the anti-reflection film 3.例文帳に追加

半導体基板１の表面に、拡散層２と反射防止膜３を有する太陽電池素子の製造方法において、前記反射防止膜３上から物理的処理を施すことによって、前記半導体基板１に前記反射防止膜３を貫通したダメージ層１１を形成した後に、化学的処理を施すことによって前記ダメージ層１１を除去することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method for the color filter substrate is characterized in that a color filter layer comprises both a color filter 5 on an opening part which is made thick by sufficient exposure from a side on the substrate 2 where a reflection layer 3 is not formed and a color filter 6 on the reflection layer which is formed selectively by exposure from the side where the reflection layer 3 is formed.例文帳に追加

本発明のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、カラーフィルタ層は、基板２上の反射層３が形成されていない側から充分に露光されて厚く形成された開口部上のカラーフィルタ５と、反射層３が形成された側から露光されて、選択的に形成された反射層上のカラーフィルタ６と、の両方により構成されることを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor thin film comprises steps of forming at least a semiconductor thin film on a substrate, forming an anti-reflection film pattern and a reflection film pattern on the semiconductor thin film to be adjacent to each other, and forming direction-aligned semiconductor grains in the lower part of the anti-reflection film pattern by applying a first laser beam from the above side of the substrate.例文帳に追加

この発明による半導体薄膜の製造方法は、基板上に少なくとも半導体薄膜を形成し、半導体薄膜上に反射防止膜パターン及び反射膜パターンを互いに隣接するように形成し、基板上方から第１レーザを照射して反射防止膜パターンの下部に方向性の揃った半導体粒を形成する工程を備える。 - 特許庁

To provide a resists pattern forming method capable of obtaining the resist patterns of high accuracy while preventing the degradation in resist resolution even near level differences or on high-reflection surfaces, a frame plating method using the resist patterns formed by this method and a method for manufacturing thin-film magnetic heads.例文帳に追加

段差近傍においても、また高反射面上であってもレジスト解像度の低下を防止でき、高精度のレジストパターンを得ることができるレジストパターン形成方法、この方法によって形成したレジストパターンを用いたフレームめっき方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a strength reinforcing treatment method for a fiber reinforced cement board capable of improving mechanical strength of the fiber reinforced cement board such as a slate board and provide a coating method and a reflection thermal insulation treatment method capable of prolonging its service life further.例文帳に追加

スレート板板などの繊維強化セメント板の機械的強度を向上させることができる繊維強化セメント板の強度強化処理方法、また、寿命をさらに延ばすことができる塗装方法及び反射断熱処理方法を提供する。 - 特許庁

The invention is related to a manufacturing method of a reflection screen 1 with which a reflecting surface 4 can be formed on a base film 9 formed by a droplet discharge method, without using the mask, the printing plate, etc., to simplify the manufacturing method.例文帳に追加

マスクまたは印刷版などを用いずに、液滴吐出法により形成した下地膜９上に反射面４を形成するので、製造方法を簡略化することが可能な反射スクリーン１の製造方法を提供することができる。 - 特許庁

To provide a recording method onto a new and useful thermally reversible recording medium using a cholesteric liquid crystal compound and a recording device by which a recording can be performed with a desired reflection color.例文帳に追加

所望の反射色で記録の行える新規かつ有用な、コレステリック液晶性化合物を用いた熱可逆性記録媒体への記録方法及び記録装置を得る。 - 特許庁

To provide a jig for ultrasonic wave and an ultrasonic wave detecting method using it which can easily and definitely specifies a reflection wave from an object to be detected.例文帳に追加

探知対象物からの反射波を容易かつ明確に特定することができる超音波探触子用治具及びそれを使用した超音波探知方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a liquid crystal display device that can improve the yield and reflection efficiency of embossing patterns more and make manufacturing steps simpler.例文帳に追加

エンボシングパターンの収率と反射効率との更なる向上、及び製造工程の更なる簡単化を実現可能な液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

This polyester film for the mold-releasing film of the polarized plate is characterized by having an L-value of 65 to 77 measured by a reflection method of the film and an image clarity value of ≥90%.例文帳に追加

フィルムの反射法で測定したＬ値が６５〜７７であり、写像性値が９０％以上であることを特徴とする偏光板離型フィルム用ポリエステルフィルム。 - 特許庁

To provide a material for forming a lower layer film of a photoresist with which a lower layer film with high etching resistance, a high reflection preventing effect, and a high poisoning resistant effect is formed as a lower layer film for a two layered or three layered resist process, and also to provide a pattern forming method.例文帳に追加

２層あるいは３層レジストプロセス用下層膜として、エッチング耐性、反射防止効果、耐ポイゾニング効果の高い下層膜を形成する。 - 特許庁

To form a fine multiplex reflection preventing structure on the surface of a light emitting element with sufficient reproducibility, and to improve light emitting efficiency in the light emitting element and a manufacturing method of the element.例文帳に追加

発光素子とその製造方法において、発光素子の表面に微細な多重反射防止構造を再現性良く形成して発光効率の向上を図る。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor light emitting device in which occurrence of a material loss is avoided as far as possible and a light reflection film is formed with an inexpensive technique.例文帳に追加

材料ロスが生じることを出来るだけ避けることができ、安価な工法で光反射膜を形成し得る半導体発光装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a personal identification method and a personal identification apparatus for generating iris information for personal identification even with an iris image including reflection of light.例文帳に追加

光の映り込みを含む虹彩画像であっても本人認証可能な虹彩情報を生成し得る個人認証方法及び個人認証装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a highly coloring synthetic fiber yarn capable of suppressing fiber surface reflection, having a depth in color and improved in dye exhaustion ratio without whitishness.例文帳に追加

繊維表面反射を抑え、白っぽさがなく、色に深みのある、染料吸尽率を向上させた高発色性合成繊維の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for measuring internal quantum efficiency, with which the reflection factor and external quantum efficiency can be exactly provided in the case of irradiating with the same light.例文帳に追加

同一の光が照射された場合の反射率と外部量子効率とを正確に得ることができる内部量子効率測定装置および方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming the metallic wiring of a semiconductor memory device capable of effectively preventing irregular reflection caused by a metal contact at the time of an exposure process for a trench mask formation.例文帳に追加

トレンチマスク形成のための露光工程時に金属コンタクトによる乱反射を有効に防止できる半導体メモリ素子の金属配線形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical film which can be manufactured at low cost by conveniently and precisely performing alignment of a lens and a light reflection part, and to provide a method of manufacturing the optical film.例文帳に追加

レンズと光反射部のアライメントを簡便に高精度で実施し、かつ低コストにて製造することが可能な光学シートおよびその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide an antireflection laminate, having improved scratch resistance in addition to sufficient anti-reflection performance and anti-staining properties and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

十分な反射防止性能と防汚性とを有しながら耐傷性が向上した反射防止積層体及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for evaluating the productivity of a software development work, having the reflection of quality of the development work even when quantitative information related to the software development work is used.例文帳に追加

ソフトウェア開発作業に係る量的な情報を用いつつも、開発作業の質を反映させたソフトウェア開発作業の生産性評価方法を提供する。 - 特許庁

Disclosed is a method of manufacturing an optical element having an anti-reflection film 60 formed on a resin molding part 50 made of a resin having an alicyclic structure.例文帳に追加

脂環式構造を有する樹脂から構成した樹脂成形部５０に対し反射防止膜６０を形成した光学素子の製造方法が開示されている。 - 特許庁

To provide an efficient method for extracting light from a semiconductor device by changing reflection and transmission characteristics of a semiconductor interface in a semiconductor light-emitting device.例文帳に追加

半導体発光素子において、半導体界面の反射及び透過特性を有利に変更して、半導体から光を抽出する効率のよい方法を提供する。 - 特許庁

To provide a hologram forming method for forming a reflection hologram on the information recording layer of an optical recording medium in order to obtain an optical recording medium having even reflectance.例文帳に追加

均一な反射率を有する光記録媒体を実現するために、光記録媒体の情報記録層に反射型ホログラムを形成するホログラム形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a drawing method capable of forming an image having a desired color density by reducing irregularities such as a reflection streak on a medium having non-absorbability with respect to ink.例文帳に追加

インクに対して非吸収性を有する媒体上に反射スジなどのむらを低減して所望の色濃度の画像を形成できる描画方法を提供すること。 - 特許庁

The method includes a step of arranging an intermediate layer in a rear surface contact part having a thickness which does not negatively affect reflection or transmission of light passing through the solar cell.例文帳に追加

前記方法には、ソーラーセルを通る光の反射又は透過に負に影響しない厚さの裏面接触部内に中間層を配置するステップが含まれる。 - 特許庁

To provide an image processing method of removing a specular reflection component appearing on an image by image processing when photographing a subject illuminated with natural light or the like.例文帳に追加

自然光等で照らされた被写体を撮影する場合に、その画像に表れた鏡面反射成分を画像処理により除去できる画像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an electromagnetic wave reflection member, by which reduction in the reflectance caused in the production process can be recovered.例文帳に追加

本発明は、製造工程中に生じる反射率の低下を回復することができる電磁波反射部材の製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide an optical switch which can fixedly hold a mirror at a light reflection position with a simple structure and do not need energy for fixedly holding the mirror and a method for manufacturing it.例文帳に追加

簡単な構造によりミラーを光反射位置に固定保持可能で且つこの固定保持のためのエネルギーが不要な光スイッチ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a position adjusting device and a position adjusting method by which the relative alignment of a lamp (light source part) to a reflection mirror (light condensing mirror) is accurately performed.例文帳に追加

ランプ（光源部）と反射ミラー（集光ミラー）との相対的な位置合わせを高精度に行うことができる位置調整装置及び位置調整方法を得ること。 - 特許庁

To emit a high intensity back scatter component by using a fluorescent material, reduce a loss of photons received by a photodetector and obtain a high contrast image in a reflection (back scatter) method.例文帳に追加

反射（後方散乱）法において、高輝度の後方散乱成分を蛍光体で発光させ、光検出器が受ける光子のロスを少なくして高コントラストの撮像を得る。 - 特許庁

To provide an efficient method for extracting light from a semiconductor light emitting element by changing reflection and transmission properties of the semiconductor interface favorably.例文帳に追加

半導体発光素子において、半導体界面の反射及び透過特性を有利に変更して、半導体から光を抽出する効率のよい方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fiber reinforced plastic molded product not imparting dazzlement by reflection even with respect to the incidence of solar rays or the like, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

太陽光線等の入射に対しても、反射により眩惑を与えることがない繊維強化プラスチック成形品、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

By this fluctuating method of the laser beam, the laser beam is fluctuated by driving the reflection mirror 2 of the laser beam or transmitting optical parts 1 in such a pseudo procession moving state not accompanied with rotation.例文帳に追加

レーザビームの反射鏡２又は透過光学部品１を、自転の伴わない疑似歳差運動様に駆動して、レーザビームを揺動させるレーザビームの揺動方法。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition method by which a lead-free solder alloy film having a proper reflection characteristics can be deposited on a substrate made of a resin, and to provide a vacuum film deposition apparatus.例文帳に追加

適正な反射特性を有する鉛フリー半田合金膜を樹脂製の基板に形成可能な真空成膜方法および真空成膜装置を提供する。 - 特許庁

To achieve a reflection type object detecting device capable of reducing a risk of an erroneous operation, along with a method of manufacturing the same and an electronic device.例文帳に追加

反射型の物体検出装置において、誤動作の虞を低減することを可能とする物体検出装置及びその製造方法、並びに電子機器を実現する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave absorbing method utilizing a solar battery, which is capable of eliminating the reflection of an electromagnetic wave due to a solar battery without inhibiting photovoltaic power generation.例文帳に追加

太陽光発電を阻害することなく、太陽電池による電磁波の反射をなくすことができる太陽電池を用いた電磁波吸収方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical interference type display panel in which an optical interference type reflection structure is protected from an external environment not to be damaged and to provide a method of manufacturing the optical interference type display panel.例文帳に追加

光学干渉型反射構造体が、外部環境により損傷されないように保護する、光学干渉型ディスプレイパネルおよび製造方法を提供する。 - 特許庁