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reflection methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2592件
A rear projection display device is constituted of a projection type screen consisting of a Fresnel lens for converging light by total reflection or a method mixing both of total reflection and refraction and translucent diffusion plate as the minimum number of constitutional elements and a projector.例文帳に追加
全反射あるいは全反射と屈折両方を混在させた方式で光線を集光するフレネルレンズと、透過型拡散板とを最低構成要素とする投写型スクリーンとプロジェクタからなる事を特徴とする背面投写型ディスプレイ装置である。 - 特許庁
In the film thickness measuring method, the film thickness of a resin film 12 formed on the surface of a metal band 10 is measured by receiving reflection light of infrared cast on the metal band 10 surface and operating the absorption amount of the reflection light by a resin film 12.例文帳に追加
金属帯10の表面に形成された樹脂皮膜12の膜厚を、金属帯10の表面に投光させた赤外線の反射光を受光し、樹脂皮膜12による反射光の吸収量を演算することで測定する膜厚測定方法である。 - 特許庁
To provide an optical device manufacturing method capable of maintaining the accuracy of registration adjustment even when the attaching/detaching work of a reflection type spatial light modulation element is performed and capable of firmly fixing the reflection type spatial light modulation element and ceramics base materials and to provide a projection display device.例文帳に追加
反射型空間光変調素子の脱着作業を行ってもレジストレーション調整の精度が維持でき、且つ頑強に反射型空間光変調素子とセラミックスベース材とを固定できる光学デバイスの製造方法及び投射表示装置を提供する。 - 特許庁
Banks 13 for partitioning pixels are formed on a substrate 11, the part where the aperture part 21a is to be formed is subjected to liquid repellent treatment and then a liquid material for forming the semitransmission reflection layer 21 is ejected into the pixel by an ink jet method to form the semitransmission reflection later 21.例文帳に追加
基板11上に、画素を仕切るバンク13を形成し、開口部21aが形成される部位に撥液処理を施した後、画素内に半透過反射層21を形成する液体材料をインクジェット法により吐出して半透過反射層21を形成する。 - 特許庁
In the recording method where a yellow inkdrop is recorded on a material to be recorded in response to a recording signal, when chroma of an image formed with the yellow ink is expressed by L^*a^*b^* color system, b^* between a reflection density 1.2 and a reflection density 1.8 is ≥85.例文帳に追加
イエローインク滴を記録信号に応じて被記録材に記録を行う記録方法において、前記イエローインクで画像を形成した場合の色度を、L^*a^*b^*表色系で表示した時、反射濃度1.2〜1.8間のb^*が85以上である記録方法。 - 特許庁
To provide a method for forming a metallic wiring of a semiconductor element using a titanium aluminum nitride anti-reflection film for preventing reflection effectively and forming a minute metallic wiring pattern more accurately in an exposing step with short-wavelength light like DUV.例文帳に追加
DUVのような短い波長の光で実施する露光工程で效果的に反射を防止して微細金属配線パターンをより正確に形成できる、チタニウムアルミニウムナイトライド反射防止膜を利用した半導体素子の金属配線の形成方法を提供。 - 特許庁
To provide a device and method capable of calculating a dielectric constant in an object from reflection characteristics of the object speedily as numeric values by transmitting electromagnetic waves toward the object of a dielectric for receiving reflection waves.例文帳に追加
誘電体の対象物に向けて電磁波を送信して反射波を受信することにより、対象物中の誘電率を算出するとき、対象物の反射特性から高速に行うことができ、かつ数値として得ることのできる装置及び方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for reproducing a substrate with a multilayer reflection film by which the reproducing cost of the substrate can be reduced because a large-scale apparatus is not required, the damage of the substrate due to the peeling and removal of the multilayer reflection film can be reduced and also the process load of re-polishing is low.例文帳に追加
大掛かりな装置を必要とせず、しかも多層反射膜の剥離除去による基板のダメージが少なく、再研磨の工程負荷も少ないことにより、基板の再生コストを低減できる多層反射膜付き基板の再生方法を提供する。 - 特許庁
To provide a phase modulation element which controls the position of a reflection face of light with a position accuracy sufficiently shorter than light wavelength by driving a structure in which a micromirror is integrated in a micron size structure, in a method of modulating the optical phase by the position of reflection face of light.例文帳に追加
光の反射面位置により光位相を変調する方式において、ミクロンサイズの構造にマイクロミラーを一体化した構造体の駆動において光波長より十分短い位置精度で光の反射面位置を制御する位相変調素子を提供する。 - 特許庁
To provide a vacuum film deposition apparatus which can deposit a reflection film capable of attaining an initial reflectance of a level nearly equal to that of a reflection film formed of pure silver and formed of a material obtained by adding bismuth to silver and excellent in the environmental resistance on a substrate, and to provide a vacuum film deposition method.例文帳に追加
純Agからなる反射膜と略同等レベルの初期反射率に到達でき、かつ銀にビスマスを添加した材料からなる耐環境性に優れた反射膜を基板に堆積可能な、真空成膜装置および真空成膜方法を提供する。 - 特許庁
To provide an observation method for identifying a fine particle set to which a heterogeneous element has been added using: a method of determining observation conditions of SEM reflection electron measurement capable of giving a maximum luminance contrast and performing measurement with high reproducibility with respect to the kind and thickness of a film-like element; and a method of predicting a combination of element kinds that can be identified by SEM reflection electron measurement.例文帳に追加
薄膜状元素の種類と厚さに対して、輝度コントラストが最大となり且つ再現性よく計測することができるSEM反射電子計測の観測条件を決定する方法および、SEM反射電子計測により識別することが可能な元素種類組み合わせを予測する方法を用いて異種元素が付加された微粒子セットを識別する観察方法を提供すること。 - 特許庁
In this reflection damping amount measuring method for receiving reflection light generated when light coming out of a light source enters an object to be measured by a light detector to measure a reflection damping amount of the object to be measured, the light source consists of an ASE light source, and a light receiver consists of a measuring device for measuring optical power per wavelength.例文帳に追加
光源から出射した光が被測定物に入射する際に生じる反射光を、光検出器で受光して被測定物の反射減衰量を測定する反射減衰量測定方法において、前記光源はASE光源からなり、かつ前記受光器は波長毎の光パワーを測定する測定器からなる反射減衰量測定方法および装置を用いる。 - 特許庁
To provide: a reflection type mask such that the reflection type mask having been used and contaminated has its EUV light reflectivity restored to original reflectivity when the EUV light reflectivity decreases as a result of cleaning with respect to a reflection type mask for EUV exposure used to transfer a mask pattern onto a wafer using EUV light; and a method of repairing the same.例文帳に追加
本発明は、EUV光を用いてマスクパターンをウェハ上に転写するためのEUV露光用の反射型マスクに関し、使用により汚染した反射型マスクを、洗浄することにより生じるEUV光反射率の低下に対し、EUV光反射率を元の反射率に復元することが可能な反射型マスクおよびその修復方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
The method for manufacturing the solar battery element having a diffusion layer 2 and an anti-reflection layer 3 on the surface of a semiconductor substrate 1 removes a damage layer 11 by performing chemical treatment after forming on the semiconductor layer 1 the damage layer 11 penetrating the anti-reflection layer 3 by performing physical processing above the anti-reflection film 3.例文帳に追加
半導体基板1の表面に、拡散層2と反射防止膜3を有する太陽電池素子の製造方法において、前記反射防止膜3上から物理的処理を施すことによって、前記半導体基板1に前記反射防止膜3を貫通したダメージ層11を形成した後に、化学的処理を施すことによって前記ダメージ層11を除去することを特徴とする。 - 特許庁
The manufacturing method for the color filter substrate is characterized in that a color filter layer comprises both a color filter 5 on an opening part which is made thick by sufficient exposure from a side on the substrate 2 where a reflection layer 3 is not formed and a color filter 6 on the reflection layer which is formed selectively by exposure from the side where the reflection layer 3 is formed.例文帳に追加
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、カラーフィルタ層は、基板2上の反射層3が形成されていない側から充分に露光されて厚く形成された開口部上のカラーフィルタ5と、反射層3が形成された側から露光されて、選択的に形成された反射層上のカラーフィルタ6と、の両方により構成されることを特徴とする。 - 特許庁
The method for manufacturing a semiconductor thin film comprises steps of forming at least a semiconductor thin film on a substrate, forming an anti-reflection film pattern and a reflection film pattern on the semiconductor thin film to be adjacent to each other, and forming direction-aligned semiconductor grains in the lower part of the anti-reflection film pattern by applying a first laser beam from the above side of the substrate.例文帳に追加
この発明による半導体薄膜の製造方法は、基板上に少なくとも半導体薄膜を形成し、半導体薄膜上に反射防止膜パターン及び反射膜パターンを互いに隣接するように形成し、基板上方から第1レーザを照射して反射防止膜パターンの下部に方向性の揃った半導体粒を形成する工程を備える。 - 特許庁
To provide a resists pattern forming method capable of obtaining the resist patterns of high accuracy while preventing the degradation in resist resolution even near level differences or on high-reflection surfaces, a frame plating method using the resist patterns formed by this method and a method for manufacturing thin-film magnetic heads.例文帳に追加
段差近傍においても、また高反射面上であってもレジスト解像度の低下を防止でき、高精度のレジストパターンを得ることができるレジストパターン形成方法、この方法によって形成したレジストパターンを用いたフレームめっき方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a strength reinforcing treatment method for a fiber reinforced cement board capable of improving mechanical strength of the fiber reinforced cement board such as a slate board and provide a coating method and a reflection thermal insulation treatment method capable of prolonging its service life further.例文帳に追加
スレート板板などの繊維強化セメント板の機械的強度を向上させることができる繊維強化セメント板の強度強化処理方法、また、寿命をさらに延ばすことができる塗装方法及び反射断熱処理方法を提供する。 - 特許庁
The invention is related to a manufacturing method of a reflection screen 1 with which a reflecting surface 4 can be formed on a base film 9 formed by a droplet discharge method, without using the mask, the printing plate, etc., to simplify the manufacturing method.例文帳に追加
マスクまたは印刷版などを用いずに、液滴吐出法により形成した下地膜9上に反射面4を形成するので、製造方法を簡略化することが可能な反射スクリーン1の製造方法を提供することができる。 - 特許庁
To provide an optical recording method and optical recording device for images indicating selective reflection colors which are easy in condition control of recording light and are capable of recording the full-color images of high fineness.例文帳に追加
記録光の条件制御が容易で、高精細なフルカラー画像の記録ができ、選択反射色を示す画像の光記録方法及び光記録装置。 - 特許庁
To improve the display quality in a reflection region by an easy method without spoiling the display quality in a transmission region of a translucent type liquid crystal display device.例文帳に追加
半透過型液晶表示装置において、簡単な方法で、透過領域における表示品位を損なうことなく反射領域における表示品位を向上させる。 - 特許庁
To provide a reflector having good reflection characteristic of a wide incident angle, realizing the restraint of the time change of the shape of a projection part and whose productivity is high, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加
広入射角の反射特性に優れ、突起部形状の経時変化が抑制され、生産性も高い反射体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a production method of an end face reflection type surface wave device, in which productivity is improved and first and second end faces facing each other is easily formed with high accuracy.例文帳に追加
生産性を高めることができ、かつ対向し合う第1,第2の端面を容易にかつ高精度に形成し得る、端面反射型表面波装置の製造方法を得る。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a timepiece cover glass of high hardness having a reflection preventing function, excellent in abrasion resistance and hardly flawed even when carried for a long period.例文帳に追加
硬度が高く、耐摩耗性に優れ、長期間携帯しても傷の入りにくい反射防止機能を有した時計用カバーガラスの製造方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a polarized sheet having good transmission efficiency of specific polarized light and excellent reflection efficiency of another polarized light, and to provide a display device with the polarized sheet.例文帳に追加
特定の偏光の透過効率がよく、他の偏光の反射効率に優れた偏光シートの製造方法及びその偏光シートを備えたディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁
To provide a document reader and a document reading method capable of appropriately reading a special document having a high reflection factor of light with a simple and inexpensive configuration.例文帳に追加
光の反射率が高い特殊原稿を簡便かつ安価な構成で適切に読み取ることが可能な原稿読み取り装置、及び原稿読み取り方法を提供する。 - 特許庁
To provide an observation method and an observation device where chromatic aberration does not matter between observation light and AF light and which does not cause trouble concerning the selection of a reflection preventing film.例文帳に追加
観察光とAF光とで色収差が問題とならない、また反射防止膜の選定に関する問題も生じない観察方法及び観察装置を提供する。 - 特許庁
This polyester film for the mold-releasing film of the polarized plate is characterized by having an L-value of 65 to 77 measured by a reflection method of the film and an image clarity value of ≥90%.例文帳に追加
フィルムの反射法で測定したL値が65〜77であり、写像性値が90%以上であることを特徴とする偏光板離型フィルム用ポリエステルフィルム。 - 特許庁
To provide a material for forming a lower layer film of a photoresist with which a lower layer film with high etching resistance, a high reflection preventing effect, and a high poisoning resistant effect is formed as a lower layer film for a two layered or three layered resist process, and also to provide a pattern forming method.例文帳に追加
2層あるいは3層レジストプロセス用下層膜として、エッチング耐性、反射防止効果、耐ポイゾニング効果の高い下層膜を形成する。 - 特許庁
To provide a recording method onto a new and useful thermally reversible recording medium using a cholesteric liquid crystal compound and a recording device by which a recording can be performed with a desired reflection color.例文帳に追加
所望の反射色で記録の行える新規かつ有用な、コレステリック液晶性化合物を用いた熱可逆性記録媒体への記録方法及び記録装置を得る。 - 特許庁
To provide a jig for ultrasonic wave and an ultrasonic wave detecting method using it which can easily and definitely specifies a reflection wave from an object to be detected.例文帳に追加
探知対象物からの反射波を容易かつ明確に特定することができる超音波探触子用治具及びそれを使用した超音波探知方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a liquid crystal display device that can improve the yield and reflection efficiency of embossing patterns more and make manufacturing steps simpler.例文帳に追加
エンボシングパターンの収率と反射効率との更なる向上、及び製造工程の更なる簡単化を実現可能な液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To form a fine multiplex reflection preventing structure on the surface of a light emitting element with sufficient reproducibility, and to improve light emitting efficiency in the light emitting element and a manufacturing method of the element.例文帳に追加
発光素子とその製造方法において、発光素子の表面に微細な多重反射防止構造を再現性良く形成して発光効率の向上を図る。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor light emitting device in which occurrence of a material loss is avoided as far as possible and a light reflection film is formed with an inexpensive technique.例文帳に追加
材料ロスが生じることを出来るだけ避けることができ、安価な工法で光反射膜を形成し得る半導体発光装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an apparatus and a method for measuring internal quantum efficiency, with which the reflection factor and external quantum efficiency can be exactly provided in the case of irradiating with the same light.例文帳に追加
同一の光が照射された場合の反射率と外部量子効率とを正確に得ることができる内部量子効率測定装置および方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming the metallic wiring of a semiconductor memory device capable of effectively preventing irregular reflection caused by a metal contact at the time of an exposure process for a trench mask formation.例文帳に追加
トレンチマスク形成のための露光工程時に金属コンタクトによる乱反射を有効に防止できる半導体メモリ素子の金属配線形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an optical film which can be manufactured at low cost by conveniently and precisely performing alignment of a lens and a light reflection part, and to provide a method of manufacturing the optical film.例文帳に追加
レンズと光反射部のアライメントを簡便に高精度で実施し、かつ低コストにて製造することが可能な光学シートおよびその製造方法の提供。 - 特許庁
To provide an antireflection laminate, having improved scratch resistance in addition to sufficient anti-reflection performance and anti-staining properties and a method of manufacturing the same.例文帳に追加
十分な反射防止性能と防汚性とを有しながら耐傷性が向上した反射防止積層体及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a microbiological testing chip, testing instrument and testing method to prevent the generation of stray light caused by the reflection of excitation light, thereby preventing the decrease in the received light quantity of fluorescent light.例文帳に追加
励起光の反射による迷光の発生を回避し、蛍光量の受光量の減少を回避する微生物検査チップ、検査装置、および検査方法。 - 特許庁
The light diffusive and reflective sheet obtained by the method and a reflection type liquid crystal display installed with the light dispersing and light reflective sheet are provided.例文帳に追加
上記方法によって製造された光拡散性反射板および該光拡散性反射板が部材として装着されている反射型液晶表示装置。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a projector unit capable of surely positionally adjusting illuminating light relative to the effective screen area of a reflection type liquid crystal panel.例文帳に追加
反射型液晶パネルの有効画面領域に対する照明光の位置調整を確実に行うことができるプロジェクタユニットの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a reflector and a method for manufacturing the reflector which minimizes damages in the reflected form, realizes a desired range of the reflection angle and has high use efficiency of light.例文帳に追加
反射形状が損なわれるのを最小限にし、所望の反射角の範囲を実現し、光の利用効率の高い反射体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a temperature regulator which can suppress deformation of a tube wherein a reflection-type optical element is stored, and also to provide an optical system, a lithographic exposure apparatus, and a method of manufacturing device.例文帳に追加
反射型の光学素子が収容される鏡筒の変形を抑制できる温度調整装置、光学系、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a personal identification method and a personal identification apparatus for generating iris information for personal identification even with an iris image including reflection of light.例文帳に追加
光の映り込みを含む虹彩画像であっても本人認証可能な虹彩情報を生成し得る個人認証方法及び個人認証装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a highly coloring synthetic fiber yarn capable of suppressing fiber surface reflection, having a depth in color and improved in dye exhaustion ratio without whitishness.例文帳に追加
繊維表面反射を抑え、白っぽさがなく、色に深みのある、染料吸尽率を向上させた高発色性合成繊維の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a method for evaluating the productivity of a software development work, having the reflection of quality of the development work even when quantitative information related to the software development work is used.例文帳に追加
ソフトウェア開発作業に係る量的な情報を用いつつも、開発作業の質を反映させたソフトウェア開発作業の生産性評価方法を提供する。 - 特許庁
To provide a drawing method capable of forming an image having a desired color density by reducing irregularities such as a reflection streak on a medium having non-absorbability with respect to ink.例文帳に追加
インクに対して非吸収性を有する媒体上に反射スジなどのむらを低減して所望の色濃度の画像を形成できる描画方法を提供すること。 - 特許庁
Disclosed is a method of manufacturing an optical element having an anti-reflection film 60 formed on a resin molding part 50 made of a resin having an alicyclic structure.例文帳に追加
脂環式構造を有する樹脂から構成した樹脂成形部50に対し反射防止膜60を形成した光学素子の製造方法が開示されている。 - 特許庁
To provide an efficient method for extracting light from a semiconductor device by changing reflection and transmission characteristics of a semiconductor interface in a semiconductor light-emitting device.例文帳に追加
半導体発光素子において、半導体界面の反射及び透過特性を有利に変更して、半導体から光を抽出する効率のよい方法を提供する。 - 特許庁
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