「second layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(333ページ目) - Weblio英語例文検索

In this light emitting device 11, an EL element body 13 equipped with a first electrode 15 and a second electrode 16 disposed laminated so as to sandwich an EL layer 14 is formed on a substrate 12.例文帳に追加

発光装置１１は基板１２上に、ＥＬ層１４を挟んで積層配置される第１電極１５及び第２電極１６を備えたＥＬ素子本体１３が形成されている。 - 特許庁

A second field-effect transistor 112 and capacitors 102 and 106 of a power system constituting a power supply circuit arranged in a wiring board 131 are grounded to a power system ground layer 104.例文帳に追加

配線基板１３１に配置された電源回路を構成するパワー系の第２の電界効果トランジスタ１１２やコンデンサ１０２、１０６はパワー系グランド層１０４に接地されている。 - 特許庁

The surface of the second refractive face 105 is covered with a dielectric multi-layer film 107, and functions as a reflective face only selectively for a plane wave in a desired frequency band.例文帳に追加

第２の屈折面１０５の表面は誘電体多層膜１０７に被覆されており、所望の周波数帯の平面波に対してのみ選択的に反射面として動作する。 - 特許庁

A diffusion preventing Cr layer 14 is formed tightly on the electrode pad 13 and first and second Cu layers 15 and 16 are formed tightly thereon.例文帳に追加

電極パッド１３上に拡散防止用としてＣｒ層１４が密着形成され、Ｃｒ層１４上に第１のＣｕ層１５、第２のＣｕ層１６が積層され密着形成されている。 - 特許庁

A reflective electrode 17 is formed on the second surface of the semiconductor layer 11 so as to fill portions between the ITO pillars 16 and to cover the ITO pillars 16.例文帳に追加

反射電極１７が、ＩＴＯピラー１６と隣接するＩＴＯピラー１６との間を埋め込み、ＩＴＯピラー１６を覆うように半導体層１１の第２の面に形成されている。 - 特許庁

The pressure-sensitive copying slip comprises: the first sheet; an intermediate layer comprising a micro-capsule encapsulating a color developing agent, a developer and a non-pressure-sensitive emulsion adhesive; and the second sheet in this order.例文帳に追加

第一のシート；発色剤を内包するマイクロカプセル、顕色剤および非感圧性エマルジョン粘着剤を含む中間層；および、第二のシートをこの順に有する感圧複写帳票。 - 特許庁

Then, after removing the photoresist layer 9, a silicon substrate 1 is thermally oxidized and an SiO_2 film 8b that is thinner than a first gate insulating film 8a is formed at the second region R2.例文帳に追加

次に、ホトレジスト層９を除去した後に、シリコン基板１を熱酸化して第２の領域Ｒ２に第１のゲート絶縁膜８ａよりも薄いＳｉＯ２膜８ｂを形成する。 - 特許庁

The buffer layer is formed so as to have a first thickness in a center region and have a second thickness less than the first thickness in a peripheral region surrounding the center region.例文帳に追加

バッファ層は、中心領域で第１の厚さを有する一方該中心領域を囲う周辺領域で第１の厚さより薄い第２の厚さを有するように形成されている。 - 特許庁

The region of an anode gas diffusion layer 25 opposed to the vicinity of a cathode gas introduction port (an opening 64) along the flow of a cathode gas is a first region 251 and the other region is a second region 252.例文帳に追加

カソードガスの流れに沿って、カソードガス導入口（開孔部64）付近に対向するアノードガス拡散層25の領域を第一領域251、これ以外の領域を第二領域252とする。 - 特許庁

Then the respective film thickness of the first and second layer films 4, 5 of the coating film 6 is determined so that the value of an amplitude reflectance of the coating film 6 is an imaginary number.例文帳に追加

そして、コーティング膜６の第１層膜４及び第２層膜５のそれぞれの膜厚は、当該コーティング膜６の振幅反射率の値が虚数となるように決定される。 - 特許庁

The recording layer 18 of a high-speed worm type optical recording medium 10 is formed by laminating first and second subrecording layers 18A, 18B of main components of different kinds of metals.例文帳に追加

高速追記型光記録対媒体１０の記録層１８はそれぞれ１種類の異なる金属を主成分とする第１及び第２副記録層１８Ａ、１８Ｂを積層してなる。 - 特許庁

The first and second MR elements 11A, 11B have a mutually rotative symmetrical relationship centering a center axis CL parallel to a direction of anisotropic magnetic fields Hk1, Hk2 of the free layer.例文帳に追加

第１および第２のＭＲ素子１１Ａ，１１Ｂは、自由層の異方性磁界Ｈｋ１，Ｈｋ２の方向と平行な中心軸ＣＬを中心として互いに回転対称な関係にある。 - 特許庁

The inside face of the via hole 13 formed to the stage on the way is irradiated with a pulse layer beam under the condition where the energy density per pulse in the irradiation face reaches a second value higher than the first value.例文帳に追加

樹脂層１２に、照射面における１パルスあたりのエネルギ密度が第１の値になる条件でパルスレーザ光を照射して、ビアホールを途中段階まで形成する。 - 特許庁

A first film 24 to be etched is formed on an insulating layer 33 formed on a semiconductor substrate, and a first mask film 26 and a second film 28 to be etched are formed thereon.例文帳に追加

半導体基板上に形成された絶縁層３３上に、第１の被エッチング膜２４を形成し、その上に、第１のマスク膜２６と、第２の被エッチング膜２８を形成する。 - 特許庁

A cloth layer (40) having a thickness substantially equal to or slightly greater than the same distance is superimposed on the second surface (30) between the raised end edges (32, 132).例文帳に追加

前述の同一の距離とほぼ等しいか又はそれより僅かに大きい厚さを有する布層（４０）が、隆起端縁（３２、１３２）の間で第２の表面（３０）上に重ね合わされる。 - 特許庁

A liquid crystal layer 6 is provided in a housing space 13 interposed between a first substrate 3 and a second substrate 4 and externally surrounded by a plurality of partition parts of a partition 7 having water impermeability.例文帳に追加

液晶層６が、第１基板３と第２基板４とに挟まれた収容空間１３に設けられ、不透水性を有する隔壁７の複数の隔壁部分に外囲される。 - 特許庁

The multicore shield flat cable (10) further includes a solder layer (16), for example, as gap occurrence prevention means preventing the occurrence of the gap between the edges (24) of the first shell (20) and the second shell (20).例文帳に追加

多心シールドフラットケーブル(10)は、第１シェル(20)の縁部(24)と第２シェル(20)の縁部(24)の間における隙間の発生を防止する隙間発生防止手段として、例えば半田層(16)を更に備える。 - 特許庁

A pixel electrode 16 is formed on the upper layer side of the interlayer insulating film 19 and further is electrically connected to the second electrode 133 via a contact hole 191 of the interlayer insulating film 19.例文帳に追加

画素電極１６は、層間絶縁膜１９の上層側に形成され、かつ、層間絶縁膜１９のコンタクトホール１９１を介して第２電極１３３に電気的接続している。 - 特許庁

The coating has a second layer 28 contg. polydimethyl siloxane which is applied on the film 26 as a secondary stage and has the tacky adhesive power from about 50 centistrokes to 350 centistrokes.例文帳に追加

潤滑コーティングは第１層の上に２次的工程として塗布された、約５０センチストークから３５０センチストークの間の粘着力を有するポリジメチルシロキサンを含んだ第２層を有している。 - 特許庁

A direction of a magnetic field acting on the first and second GMR sensors 2, 3 changes according to a movement position of the flat magnet 1, and the movement position is detected from a direction of magnetization of a free layer.例文帳に追加

平板磁石１の移動位置に応じて、第１及び第２のＧＭＲセンサ２，３に作用する磁場の向きが変化し、自由層の磁化の向きから移動位置を検出する。 - 特許庁

With a second resist pattern 203 for covering the upper side of the sacrificial layer 9 as a mask, the conductive film 13 part on the structure film 11 is etched according to the shape of a wiring pattern 13a.例文帳に追加

犠牲層９の上方を覆う第２レジストパターン２０３をマスクに用いて構造体膜１１上の導電膜１３部分を配線パターン１３ａの形状にエッチングする。 - 特許庁

The aqueous dispersion preferably contains further a tackifier component, and it is preferable that the adhesive layer is heated to a temperature of 50°C or more by irradiating microwave in the second process.例文帳に追加

前記水性分散体は、さらに粘着付与成分を含有することが好ましく、また、第二工程で、マイクロ波を照射して接着剤層を５０℃以上に加熱することが好ましい。 - 特許庁

Next, it transfers and develops an exposure pattern 15 of linear shape in a photo resist 14 using a second reticle, then measures the amount of protrusion L of the photo resist 14 end from the SiO_2 layer 12.例文帳に追加

次に、第２のレチクルを用いて、フォトレジスト１４に直線状の露光パターン１５を転写、現像した後、ＳｉＯ_2層１２からのフォトレジスト１４端部のはみ出し量Ｌを測定する。 - 特許庁

The marker 8 is obtained by winding a second linear body 81 the diameter of which is smaller than the gap 62 spirally, and has a part adhered to the inner layer 5a in the gap 62.例文帳に追加

マーカ８は、線径が間隙６２より小さい第２の線状体８１を螺旋状に巻回してなるものであり、間隙６２内において内層５ａに密着した部分を有している。 - 特許庁

First ions are implanted into a P-type semiconductor substrate 111 penetrating through first polysilicon layers 115a and 115b and a first and a second oxide films 113 and 114 using a photoresist layer 116 as a mask.例文帳に追加

ホトレジスト層１１６をマスクとして、第１のポリシリコン層１１５ａ，１１５ｂ、第１の酸化膜１１３と第２の酸化膜１１４を貫通して、第１のイオン注入を行う。 - 特許庁

With the optical recording medium, a recording layer does not exist between first recording tracks 20a and second recording tracks 20b and therefore, the prevention of the occurrence of the cross erasure is made possible.例文帳に追加

本発明に係る光記録媒体は、第１記録トラック２０ａと第２記録トラック２０ｂとの間に記録層が存在しないため、クロスイレースの発生を防止することが可能となる。 - 特許庁

A light emitting layer 16 to which a light emitting material emitting light through an electrochemical oxidation reaction or reduction reaction is provided between the first substrate 11 and the second substrate 12.例文帳に追加

第１基板１１及び第２基板１２の間には、電気化学的な酸化反応、或いは、還元反応を経て発光する発光材料を注入する発光層１６が設けられている。 - 特許庁

Since the connection layer 16 has the photoelectric conversion function, the efficiency of hole and electron transport to the first light-emitting unit 14A and the second light-emitting unit 14B is improved.例文帳に追加

接続層１６が光電変換機能を有することにより、第１発光ユニット１４Ａおよび第２発光ユニット１４Ｂへの正孔および電子の輸送効率が向上する。 - 特許庁

The second thin-film resistance heater element is located on a layer lower than the first thin film resistance heater element and exists near the floating surface and magnetoresistance effect element than the position of the first heater element.例文帳に追加

第２薄膜抵抗ヒータ素子は、前記第１薄膜抵抗ヒータ素子よりも下層にあり、前記第１ヒータ素子よりも前記浮上面及び前記磁気抵抗効果素子に近くにある。 - 特許庁

To improve the durability and manufacturing yield of a semiconductor light-emitting element by improving adhesion of an exposed surface of a second junction layer to an insulating protective film.例文帳に追加

第２接合層の露出面における絶縁性保護膜との密着性を向上させることにより、半導体発光素子の耐久性および製造歩留まりを向上させる。 - 特許庁

A nose wire 20 with flexibility and shape retention is filled in a part to cover the nose between the second and third layer filter sheets of the covering part 8.例文帳に追加

覆い面部８の第２層濾紙シートと第３層濾紙シートとの間で鼻を覆う箇所に相当する箇所に可撓性および保形性を有するノーズワイヤ２０が埋め込まれる。 - 特許庁

Since the rough surface R is formed on the surface of the second p-clad layer 6, the degree of progress in etching can be kept generally the same, and mask pattern-based etching is possible.例文帳に追加

粗面Ｒが第２ｐクラッド層６の表面に形成されているので、エッチングの際の進行度合いをほぼ同じとすることができ、マスクパターンに忠実なエッチングが可能となる。 - 特許庁

The negative electrode is formed by installing, on a negative electrode current collector 101, a negative electrode active material layer 102 having a first layered region 102A and a second layered region 102B in this order.例文帳に追加

負極は、負極集電体１０１の上に、層状の第１の領域１０２Ａと第２の領域１０２Ｂとを順に有する負極活物質層１０２が設けられたものである。 - 特許庁

The optical anisotropic layer 105 includes regions having two types of optical anisotropy formed in a dot pattern, and first and second images are formed by being drawn with the dot pattern.例文帳に追加

光学異方性層１０５は、２つの光学異方性を有する領域がドット模様に形成されており、このドット模様による描画により第１の像と第２の像が構成される。 - 特許庁

Further, the second conductive metal oxides 4, 4' are metal oxides obtained by calcining a metal compound in the layer of particles 20 of the first conductive metal oxide.例文帳に追加

また、第２の導電性金属酸化物４、４’は、第１の導電性金属酸化物の粒子の層２０中において金属化合物を焼成して得られた金属酸化物である。 - 特許庁

The first wavelength conversion layer absorbs a first light emitted from the semiconductor light emitting element and radiates second light having a wavelength which is longer than that of the first light.例文帳に追加

前記第１波長変換層は、前記半導体発光素子から放出される第１光を吸収して前記第１光の波長よりも長い波長を有する第２光を放出する。 - 特許庁

The multilayer laminate 1604 includes a first layer 1606 containing the first component and a second component including at least one of the platinum group metal, Fe, Mn, Ir and Co.例文帳に追加

多層積層体１６０４は、第１の成分と、Ｐｔ族金属、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｉｒ、およびＣｏの少なくとも１つを含む第２の成分とを含む第１の層１６０６を含む。 - 特許庁

The tile includes a second layer having a secondary backing and loops provided substantially across the underside of the secondary backing for attachment to hooks of a hook and loop attachment system.例文帳に追加

上記タイルは、二次支持体および該二次支持体の裏面の実質的に端から端までフックとループの取りつけシステムのフックに取り付けるために設けられたループを有した第２の層を含む。 - 特許庁

The ohmic contact layer-forming film 25 and the semiconductor film-forming film 21 are subjected to plasma etching for patterning, using resist patterns 26 and 26 and the second channel protective film 6 as masks.例文帳に追加

そして、レジストパターン２６、２６および第２のチャネル保護膜６をマスクとしたプラズマエッチングで、オーミックコンタクト層形成用膜２５および半導体膜形成用膜２１をパターニングする。 - 特許庁

As a result, the second insulating film 162 is left in regions planarly overlapping boundary regions 9s between adjacent pixel electrodes 9a, of the upper layer of the first insulating film 161.例文帳に追加

その結果、第１絶縁膜１６１の上層のうち、隣り合う画素電極９ａの間の境界領域９ｓと平面的に重なる領域に第２絶縁膜１６２が残される。 - 特許庁

In the remote management system, the remote manager is operable to form an instruction to be sent to the first host bus adaptor by a second host bus adaptor through a common transport layer of a fiber channel.例文帳に追加

遠隔管理者は、第２のホスト・バス・アダプタによって第１のホスト・バス・アダプタへ、ファイバ・チャネルの共通トランスポート層を介して送られるべき命令を形成するように、動作可能である。 - 特許庁

Since etching speed in the first region 66R becomes smaller than etching speed in the second region 66L, a recessed part 62 of left-right asymmetry is formed in a copper plated layer 64.例文帳に追加

第１領域６６Ｒにおけるエッチング速度が、第２領域６６Ｌにおけるエッチング速度よりも小さくなるため、左右非対称の凹部６２が、銅めっき層６４に形成される。 - 特許庁

In a method of manufacturing the SOI substrate, a first semiconductor substrate 11 that becomes the SOI layer is overlapped to a second one 12 via an oxide film 11a to form a laminate 13.例文帳に追加

ＳＯＩ基板の製造方法は、ＳＯＩ層となる第１半導体基板１１を酸化膜１１ａを介して第２半導体基板１２に重ね合せて積層体１３を形成する。 - 特許庁

The wiring line 12 is composed of a first wiring line 12a and a second wiring line 12b which are formed mutually facing via the resin layer 13, and it can be composed of Cu and the like, for example.例文帳に追加

配線１２は、樹脂層１３を介して互いに対向して形成される第１配線１２ａと第２配線１２ｂとからなり、例えば、Ｃｕなどから構成されていればよい。 - 特許庁

In addition, the transparent image receiving layer 42 is separated from the film F as the card S goes backward, the film F is released from the back end side of the card S at a position of a second releasing part 46.例文帳に追加

また、カードＳの後退につれて、第２の剥離部４６の位置で、カードＳの後端側からフィルムＦを剥離しながら、フィルムＦから透明受像層４２を分離させる。 - 特許庁