「second layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(335ページ目) - Weblio英語例文検索

The insulating spacer is extended along the first and second sidewalls, and formed such that it is extended along at least part of the bottoms between the conductive line and the insulating layer.例文帳に追加

前記絶縁スペーサーは前記第１及び第２側壁を沿って延長され、前記導電性ラインと絶縁層間のボトムの少なくとも一部分を沿って延長されるように形成される。 - 特許庁

As the card S is retracted, the transparent image-receiving layer 42 is separated from the film F while peeling the film F from a rear end side of the card S at the position of a second peeling unit 46.例文帳に追加

また、カードＳの後退につれて、第２の剥離部４６の位置で、カードＳの後端側からフィルムＦを剥離しながら、フィルムＦから透明受像層４２を分離させる。 - 特許庁

A first conductive type of second impurity diffusion region 5 is disposed in the first layer 12 at an interval in an in-plane direction from the first impurity diffusion region 13.例文帳に追加

第１の不純物拡散領域１３から、面内方向にある間隔を隔てて、第１の層１２内に第１導電型の第２の不純物拡散領域５が配置されている。 - 特許庁

A through-hole 12a is formed in each cross portion of the first electric conductive wire 14 and the second electric conductive wire 15 orthogonal each other via an insulating layer 12 to be opposed.例文帳に追加

絶縁層１２を介して互いに直交する第１の導電線１４と第２の導電線１５の各交差部分に貫通孔１２ａを形成して対向し合うようにした。 - 特許庁

The insulating film 16 has a structure, in which a first AlN insulating film 16a and a second SiO2 insulating film 16b are laminated sequentially from a side of the electron transit layer 15.例文帳に追加

絶縁膜１６はＡｌＮよりなる第１の絶縁膜１６ａとＳｉＯ_2 よりなる第２の絶縁膜１６ｂとが電子走行層１５の側から順に積層された構造を有している。 - 特許庁

In the image display apparatus, a first base 10 on which a fluorescent screen and a metal back layer 17 are formed is arranged opposite to a second base 12 on which a plurality of electron emission sources 19 are provided.例文帳に追加

蛍光面およびメタルバック層１７が形成された第１基板１０と、複数の電子放出源１８が設けられた第２基板１２とが対向して配置されている。 - 特許庁

Further, a transparent adhesive layer 50 is provided at the whole first region 43 and a region including at least a part of the second region 44 in the back of the cover member 40.例文帳に追加

さらに、透明接着層５０は、カバー部材４０の裏面において、第一の領域４３の全体と第二の領域４４の少なくとも一部とを含む領域に設けられている。 - 特許庁

The sheet body 11 of the sheet 1 comprises the first flexible nonwoven fabric 12 and the second flexible nonwoven fabric 13, and is produced by laminating both the nonwoven fabrics 12, 13 to each other through an adhesive layer 14.例文帳に追加

シート体１のシート本体１１を、柔軟性を有した第１不織布１２と第２不織布１３とで構成し、両不織布１２，１３を接着層１４で貼り合わせて接合する。 - 特許庁

The method for manufacturing the electro-optic device of the present invention is the method for manufacturing the electro-optic device including an electro-optic material layer 70 between a first electrode 50 and a second electrode 60.例文帳に追加

本発明の電気光学装置の製造方法は、第１電極５０と第２電極６０との間に電気光学物質層７０を有する電気光学装置の製造方法である。 - 特許庁

The electrophoretic display device 1 includes a liquid layer dispersion medium 5 containing first particles A and second particles to be negatively charged, and third particles C to be positively charged.例文帳に追加

電気泳動表示装置１は、負に帯電する第１粒子Ａおよび第２粒子Ｂと、正に帯電する第３粒子Ｃとが含有した液層分散媒５を有している。 - 特許庁

The core 2 is formed of a plurality of units 15, and the units 15 are stackedly formed between first fiber assembly layers 15a and 15b clamping a second fiber assembly layer 15c therebetween.例文帳に追加

コア２は複数のユニット１５から形成され、それらユニット１５は、第１繊維集合層１５ａ，１５ｂの間に第２繊維集合層１５ｃを挟むように積層して形成されている。 - 特許庁

To provide a display device and a manufacturing method of the same electrically connecting an auxiliary wiring layer to a second electrode even if pixels are formed without using a mask for discriminatively painting pixels.例文帳に追加

画素塗り分け用マスクを用いずに画素を形成しても、補助配線層と第２電極との電気的接続を行うことができる表示装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A second magnetization fixed layer is deposited further thereon and then heat treatment is performed thus producing a double tunnel magnetoresistance effect film having a crystal lattice connected continuously to all.例文帳に追加

さらにその上に第２磁化固定層を成膜し、その後に加熱処理を行うことで全てに連続して繋がった結晶格子を有する二重トンネル磁気抵抗効果膜が製造される。 - 特許庁

n-Hexane is supplied to the upper layer 14 cooled to an ambient temperature, and the n-haxane dissolves the PCBs captured by the first column 10 to flow into the second column 20.例文帳に追加

常温へ冷却した上層１４へｎ−ヘキサンを供給すると、このｎ−ヘキサンは、第一カラム１０において捕捉されているＰＣＢ類を溶解して第二カラム２０へ流れる。 - 特許庁

The alloy film 18 is formed so that the Mn concentration of a portion in contact with the inner surface of the second groove 11 is relatively high and the Mn concentration of a surface layer portion is relatively low.例文帳に追加

この合金膜１８は、第２溝１１の内面に接する部分のＭｎ濃度が相対的に高く、その表層部分のＭｎ濃度が相対的に低くなるように形成される。 - 特許庁

The charge storage layer is formed at the first side part of the gate of the first conductivity type substrate and between the second conductivity type drain region and the gate.例文帳に追加

１つの電荷蓄積層は、第１の１つの導電型基板の１つのゲートの第１の１つの側部に且つ第２の１つの導電型ドレイン領域と１つのゲートとの間に形成される。 - 特許庁

The distance from the top face of the second semiconductor layer 14 to a pn junction face 21 is shortest nearly in the middle between the first trenches 20.例文帳に追加

前記第２の半導体層１４の上面から前記ＰＮ接合面２１までの距離が、前記第１のトレンチ間２０のほぼ中央部で最も近接となることを特徴とする。 - 特許庁

First metal foil, a resin layer and second metal foil are laminated in this order in the reinforcing member for the flexible wiring board.例文帳に追加

本発明のフレキシブル配線板用の補強部材は、フレキシブル配線板用の補強部材であって、第１金属箔と、樹脂層と、第２金属箔とをこの順に積層してなることを特徴とする。 - 特許庁

Further, an air layer 5 is provided between the first glass prism 2 and a second glass prism 3, and the angle is decided so as to totally reflect only the light diffracted by the diffraction grating 4.例文帳に追加

また第１のガラスプリズム２と第２のガラスプリズム３との間には、空気層５が設けられ、回折格子４にて回折した光のみを全反射するように角度が決められている。 - 特許庁

In the first paste electrode layer 21, a first part 21d covering the center part 13a of the long side face 13 is thicker than a second part 21b covering the ridge part 17.例文帳に追加

第１のペースト電極層２１は、長側面１３の中央部１３ａを覆う第１の部分２１ｄの厚みが、稜部１７を覆う第２の部分２１ｂの厚みより厚い。 - 特許庁

The resin layer 30 is formed to overlap the second region 16 while avoiding the region from the circumferential edge of the semiconductor substrate 10 to the first end 15 of the electrode 14.例文帳に追加

樹脂層３０は、半導体基板１０の周縁から電極１４の第１の端部１５までの領域を避けて、第２の領域１６とオーバーラップするように形成されてなる。 - 特許庁

The opening sections 24 of the insulating layer 23 are provided at intersections between the first electrodes 22 and the second electrodes 26, and the inner wall faces of the opening sections 24 are formed into a tapered shape.例文帳に追加

絶縁層２３の開口部２４は、第１の電極２２と第２の電極２６との交差部に設けられているとともに、開口部２４の内壁面がテーパ状に形成されている。 - 特許庁

By the other reaction of oxidation and reduction caused by voltage applied to the sensing material layer, a second change reversed to the first change is generated in the absorption characteristics.例文帳に追加

前記センシング材料層に印加される電圧による酸化及び還元の他方の反応により、前記吸収特性において前記第１変化とは逆の第２変化が生じる。 - 特許庁

Then, at the time of performing recording and reproducing to the second signal recording layer 5, only the part turned to the crystal state out of the land part and the groove part is irradiated with the laser beam 20.例文帳に追加

そして、この第２の信号記録層５に対して記録再生を行う際には、ランド部又はグルーブ部のうち結晶状態とされた方だけに対してレーザ光２０を照射する。 - 特許庁

The adhesive is interposed between a first substrate and a second substrate and the water-borne adhesive is heated to thereby form the adhesive layer comprising the compound oxide.例文帳に追加

この接着剤を、第一の基材１と第二の基材２との間に介在させ、水系接着剤を加熱することによって、複合酸化物からなる接着層を生成させる。 - 特許庁

The base portion comprises a first material, and the contact layer comprises a second material having satisfactory electrical connection properties with the organic semiconductor compared with that of the first material.例文帳に追加

ベース部分は第一材料を含んで構成され、コンタクト層は有機半導体との電気接触性が第一材料に比べて良好な第二材料を含んで構成される。 - 特許庁

A recessed portion 15 is formed on the electron supply layer 5 and the gate electrode 8 is disposed on an underside 16 of the recessed portion 15 via the second insulating film 10 made of silicon nitride.例文帳に追加

電子供給層５に凹部１５が形成され、この凹部１５の底面１６の上にシリコン窒化物から成る第２の絶縁膜１０を介してゲート電極８が配置されている。 - 特許庁

The second resin layer 6 containing 0.5 to 2.8 pts., by mass, of a silicon series anti-foaming agent based on 100 pts., by mass, of UV curing resin is formed by a screen printing method.例文帳に追加

第二の樹脂層６は、１００質量部の紫外線硬化性樹脂に対し、０．５ないし２．８質量部のシリコン系消泡剤を含み、スクリーン印刷法によって形成されている。 - 特許庁

The first and second decorative films include a soft material and are bonded to two opposed surfaces of the intermediate layer by primary injection molding so as to cover the opposed surfaces.例文帳に追加

前記第一装飾膜及び前記第二装飾膜は、軟質材料からなり且つ第一次射出成形により前記中間層の対向する２つの表面を被覆して接合される。 - 特許庁

A short-circuit defect is prevented by forming a second interlayer insulation layer 15 under an upper electrode power-feeding wire to be a power supply line to an upper electrode 13 of a thin-film electron source array.例文帳に追加

薄膜型電子源アレイの上部電極１３への給電線となる上部電極給電配線の下に、第二層間絶縁層１５を形成して短絡不良を防止する。 - 特許庁

Therefore, troubles such as the disconnection of a second wiring layer 3 caused by the fissures occurring in the protective film 4 can be prevented, and the semiconductor integrated circuit device of high reliability can be obtained.例文帳に追加

したがって、上記の保護膜４の亀裂等に起因した第２配線層３の断線等の不具合を防止することができ、信頼性の高い半導体集積回路装置となる。 - 特許庁

(d) Then, a combined substrate 30 is formed by superposing the first substrate obtained in (c) on a second substrate 20, and (e) thereafter the combined substrate 30 is divided at a portion of the ion implanted layer 13.例文帳に追加

次いで、（ｃ）に示す第１基板を第２基板２０に重ね合わせて結合基板３０を形成し（ｄ）、その後、結合基板３０をイオン注入層１３の部分で分割する（ｅ）。 - 特許庁

The first fuse wiring 109, the second fuse wiring 110, and the first impurity diffusion layer of the plurality of fuse elements are arranged at predetermined intervals almost in parallel, respectively.例文帳に追加

複数のヒューズ素子部の第１のヒューズ配線１０９、第２のヒューズ配線１１０および第１の不純物拡散層１０４は、それぞれ、所定のピッチ間隔で、略平行に並置される。 - 特許庁

The exposing step is a step of exposing the transparent resin layer by using a grating mask having a first transmission region and a second transmission region with transmittance higher than that of the first transmission region.例文帳に追加

露光する工程は、第１の透過領域、およびこの領域よりも高い透過率の第２の透過領域を有するグレーティングマスクを用いて透明樹脂層を露光する工程である。 - 特許庁

Then, the second program can perform authentication to a next layer program by constructing an authentication token including information within the authentication token received from the first program.例文帳に追加

次いで、第２のプログラムは、第１のプログラムから受信した認証トークン内の情報を含む認証トークンを構築することによって、次層プログラムに対して認証を行うことができる。 - 特許庁

An organic thin film solar cell 10 has a structure where a first electrode 14, an electron blocking layer 16, an organic thin film 18, and a second electrode 20 are laminated on a substrate 12 in order.例文帳に追加

有機薄膜太陽電池１０は、基板１２の上に第１電極１４、電子ブロック層１６、有機薄膜１８、第２電極２０が順番に積層された構造である。 - 特許庁

The intensity distribution of light in the photonic crystal layer has a periodicity in a region where the light intensity is high and a region where it is low due to the second periodic structure.例文帳に追加

このフォトニック結晶層内の前記光の強度分布は、前記第２の周期構造によって、光強度が高い領域と低い領域とに周期性をもって分布している。 - 特許庁

Light entering in the normal direction of the light diffusion sheet 16 from the rear surface 172 of the first refraction layer 17 is refracted on the front surface 171 as a boundary surface between the first and second refraction layers.例文帳に追加

第１屈折層１７の裏面１７２から光拡散シート１６の法線方向に入射した光は、第１及び第２屈折層の境界面である表面１７１で屈折する。 - 特許庁

When the AC voltage signal is applied between the second and third electrodes, an induced fluid flow is caused to form a reverse effect for peeling the boundary layer from the surface.例文帳に追加

第２および第３の電極にわたってＡＣ電圧信号が与えられると、表面から境界層流を剥離させる逆効果を形成する誘導流体流を引起す。 - 特許庁

The first and second transfer electrodes 12 and 14 are buried between the n-type region 28 and the buffer layer 18 and an insulating film 30 is interposed between the electrodes 12, 14 and the n-type region 28.例文帳に追加

第１および第２の転送電極１２、１４は、ｎ型領域２８とバッファー層１８との間に埋め込まれ、ｎ型領域２８との間には絶縁膜３０が介在している。 - 特許庁

The first wiring 10 and the second wiring 20a are formed in a layer while sandwiching an insulation film 12, and the resistor 14 is formed in a via hole 13 formed in the insulation film 12.例文帳に追加

第１の配線１０と第２の配線２０ａが絶縁膜１２を挟んで層状に形成され、絶縁膜１２に形成されたバイアホール１３内に抵抗１４が形成されている。 - 特許庁

Also, the communication controller 103 receives a response to the connection request, including second identifying information identifying the radio communication terminal on the other side at the data link layer protocol level.例文帳に追加

また、通信制御部１０３は、データリンク層プロトコル・レベルにおいて、相手側無線通信端末を識別する第２識別情報を含む、接続要求に対する応答を受信する。 - 特許庁

The main section of a region conducting a photoelectric conversion is configured of the semiconductor layer containing the first crystal region and the second crystal region existing in an amorphous structure.例文帳に追加

非晶質構造の中に存在している第１の結晶領域と第２の結晶領域とを含む半導体層で、光電変換を行う領域の主要部を構成する。 - 特許庁

A silicon nitride film 105 is formed on a lower-layer wiring, and a first interlayer dielectric film 106 and a second interlayer dielectric film 108 are deposited on the silicon nitride film 105.例文帳に追加

下層配線の上にシリコン窒化膜１０５が形成され、該シリコン窒化膜１０５の上に第１の層間絶縁膜１０６及び第２の層間絶縁膜１０８が堆積されている。 - 特許庁

A recess 7 is formed on the second electron supply layer 33, and a laminate including the insulation film 11, p-type metal oxide semiconductor film 12, and gate electrode 10 is disposed at the recess 7.例文帳に追加

第２の電子供給層３３に凹部７が形成され、この凹部７に絶縁膜１１とｐ型金属酸化物半導体膜１２とゲート電極１０との積層体が配置されている。 - 特許庁