「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

In the naturally drying process, the two double-end supported beam type patterns 3 pull, abut, and adhere with each other by surface tension of water.例文帳に追加

自然乾燥工程において、水の表面張力により２本の両持ち梁型パターン３が互いに引き合い、接触して固着する。 - 特許庁

To provide a surface protection sheet which does not cause a defective or the like of an electronic component, and is useful as a back grinding tape in a grinding process.例文帳に追加

研削工程において電子部品の欠損等を生じることがない、バックグラインドテープとして有用な表面保護シートを提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of drying efficiently the whole surface of two or more substrates, which were pulled up from process liquid, in a short time.例文帳に追加

処理液から引き上げられる複数の基板の全面を短時間で効率的に乾燥させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

By forming the recessed part on the surface of the lid, the joint depth can be smaller and the heat distortion accompanying the joining process can be reduced.例文帳に追加

蓋の表面に凹部を形成したことにより、接合深さを小さくすることができ、接合に伴う熱歪の発生を低減できる。 - 特許庁

To easily process a lens with corrective power to be framed into an eyeglass frame having a sharp curve provided with a protruding part on a lens rear surface side without requiring skill.例文帳に追加

レンズ後面側に突出部を持つ高カーブの眼鏡フレームに枠入される度付レンズの加工を、熟練を必要とせずに容易に行う。 - 特許庁

To provide a roll having excellent abrasion resistance and to be used for a manufacturing process of a cold-drawn steel plate required to have a surface of high quality.例文帳に追加

本発明は高い表面品質が要求される冷延鋼板の製造プロセスで使用される耐摩耗性に優れたロールを提供する。 - 特許庁

To provide a technique capable of preventing scratches on the surface of a material to be polished without lowering the throughput in a CMP process.例文帳に追加

ＣＭＰ工程においてスループットを低下させることなく、被研磨材の表面に生ずるスクラッチを防ぐことのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a surface coated cutting tool exhibiting excellent chipping resistance and wear resistance of a hard coating layer in a high speed intermittent cutting process.例文帳に追加

高速断続切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method for Cu film by which the surface properties can be improved when a Cu film is deposited by a CVD process.例文帳に追加

ＣＶＤによりＣｕ膜を成膜するにあたり、表面性状を良好にすることができるＣｕ膜の成膜方法を提供すること。 - 特許庁

A process A of forming an active material layer on the surface of a collector 12b is carried out by an active material coating device 56 and a drying device 60.例文帳に追加

活物質塗布装置５６と乾燥装置６０によって、集電体１２ｂの表面に活物質層を形成する工程Ａを実施する。 - 特許庁

To prevent drop of the thrust force after screw fastening by accurately sensing inclusion of foreign matter into a seat surface and screw part generated in the screw fastening process.例文帳に追加

ねじ締め付け工程内で発生する座面及びねじ部への異物の混入を精度良く検出し、締結後の軸力低下を防止する。 - 特許庁

To reduce the contact surface pressure in a contact part with a needle roller, simplify an assembling process, reduce the cost and reduce inducing force.例文帳に追加

ニードルローラとの接触部での接触面圧を低減させると共に、組立工程の簡略化および低コスト化、並びに誘起力の低減を図る。 - 特許庁

PROTECTIVE AGENT APPLICATION DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, IMAGE FORMING APPARATUS, METHOD FOR EVALUATING ABUNDANCE OF DEPOSIT ON SURFACE OF SOLID OBJECT AND METHOD FOR EVALUATING THE PROTECTIVE AGENT APPLICATION DEVICE例文帳に追加

保護剤塗布装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置、固体表面付着物の存在量評価方法、保護剤塗布装置の評価方法 - 特許庁

Thereafter, surface roughness is moderated in the tangsten film by CMP, and a bit line pattern 103 is formed of low-resistance tangsten by an etching process.例文帳に追加

この後、ＣＭＰによりタングステン膜の表面粗さを緩和し、エッチングにより低抵抗タングステンからなるビットラインパターン１０３を形成する。 - 特許庁

To prevent the corrosion of a magnetic metal on an ABS surface during lapping or washing in the manufacturing process of a thin-film magnetic head.例文帳に追加

薄膜磁気ヘッドの製造工程において、ラップ加工あるいは洗浄時に、ＡＢＳ面上の磁性金属が腐食することを防止する。 - 特許庁

To manufacture a master stamper of an optical disk which is small in surface roughness and is reduced in noise by omitting a process step of developing a photoresist after exposure.例文帳に追加

フォトレジストを露光後に現像する工程を省略して表面粗さが少なく、ノイズが軽減された光ディスクのマスタスタンパを製造する。 - 特許庁

When the connector 4 is put under a reflow-soldering process, flux contained in cream solder coated on an electric circuit on the surface of a circuit board is evaporated.例文帳に追加

コネクタ４のリフロー半田付けを行う際、回路基板の表面の電気回路に塗布されたクリーム半田に含まれるフラックスが蒸発する。 - 特許庁

Successively, a surface of the conductive plating film in the wiring region is covered with one layer of a resist thin film by carrying out a lithography process on the substrate.例文帳に追加

続いて該基板に対してリソグラフィー工程を実行して配線領域の導電性めっき膜表面を一層のレジスト薄膜で覆う。 - 特許庁

To provide a heat sensitive recording material excellent in the printing workability in a flexographic printing process, in which a water-based ink is especially employed on the rear surface of the material.例文帳に追加

特に裏面への水性インクを用いたフレキソ印刷プロセスに於ける印刷加工適性に優れた感熱記録材料を提供すること。 - 特許庁

To prevent occurrence of a knife edgeturning at the end surface of a semiconductor wafer and restrict occurrence of chippings and cracks, in BG process in the manufacturing of semiconductor chips.例文帳に追加

半導体チップの製造方法のＢＧ工程において、半導体ウエハ端面のナイフエッジ化を防止し、チッピング及びクラックの発生を抑える。 - 特許庁

To provide a polyester composite false twisted yarn having both large fullness and a soft and pliant surface touch and excellent process passableness after weaving.例文帳に追加

大きなふくらみとソフトでしなやかな表面タッチを併せ持ち、かつ製織時の工程通過性に優れた複合仮撚糸を提供する。 - 特許庁

To planarize the upper surface without polishing in some process when a semiconductor device, referred to BGA, is produced.例文帳に追加

例えばＢＧＡと呼ばれる半導体装置の製造に際し、ある製造工程において、研磨を行なうことなく、その上面を平坦面とする。 - 特許庁

Thus, in a process for roughening a resin surface 104 of the substrate by chrome acid, a copper plated film which is difficult to corrode can be formed.例文帳に追加

これにより、基板の樹脂表面１０４をクロム酸で粗化する工程において、腐食されにくい銅めっき膜を形成することができる。 - 特許庁

A heat radiating fin 26 is mounted via thermal grease 24 to the rear surface side (in the side of process hardening layer 16) of the power module using a screw 22.例文帳に追加

このパワーモジュールの裏面側（加工硬化層１６側）に、ねじ２２などによりサーマルグリース２４を介して放熱フィン２６が取り付けられる。 - 特許庁

This process obviates such problems or defects posed by forcible guided bending operations in conventional processes as cracks and surface sinks.例文帳に追加

これにより、従来例で提示した無理な型曲げ処理において問題となっていたひび割れやひけなどの欠陥が発生せずに済むようになる。 - 特許庁

To provide a whisker-formed magnetic material having a high strength and a large surface area which can be manufactured by a simple process, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

簡易な工程で製造でき、高強度で表面積の大きいウィスカー形成磁性体及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To prevent electrical characteristics of a wiring film from being damaged, while maintaining the evenness of the surface of the wiring film is in a process wherein the wiring film is embedded.例文帳に追加

配線膜を埋め込む工程において配線膜表面の平坦性を維持し、配線膜の電気的特性を損なわないようにする。 - 特許庁

In a refilling process, drilled soil is returned into the pit and the drilled soil and the solidifying material are mixed in the pit and rolled to prevent the settlement of a road surface.例文帳に追加

埋め戻し工程おいては、掘削土を穴内に戻し、掘削土と固結材を穴内で混合して転圧し、路面沈下を防止する。 - 特許庁

When the stage transfer is completed, the beam is further guided to the surface of the first exposure object W1 to further perform the first exposure process.例文帳に追加

ステージ移送が終了されると、光は更に第１露光対象物Ｗ１の表面に誘導され、第１露光工程が更に行われる。 - 特許庁

To provide a cellulose ester film excellent in surface properties and free from contamination in the production step, with excellent productivity, and to provide an optical film, and a process for production thereof.例文帳に追加

表面性に優れ、工程汚染がなく、生産性に優れたセルロースエステルフィルム、光学フィルム及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method or the like of manufacturing a mold for molding an optical device which has a rugged structure formed on the molding surface by a simple process.例文帳に追加

簡易な手法により成形面に凹凸構造が形成された光学素子成形用の金型を製造する方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a rotor magnet in which a predetermined magnetized region can be formed suitably on the outer circumferential surface of a rotor magnet, and to provide a motor.例文帳に追加

ロータマグネットの外周面に所定の着磁領域を好適に形成可能なロータマグネットの製造方法、およびモータを提供すること。 - 特許庁

By this constitution, a preform equipped with a closed end having a smooth outer surface free from the gate mark or traces of an injection molding process is formed.例文帳に追加

それによって射出成形工程のゲートマーク又は痕跡のない平滑な外表面を有する閉鎖端を備えたプレフォームを形成する。 - 特許庁

A surface cleaning process is executed for 10 minutes without any change to increase the temperature of the single crystal substrate up to 1,100°C for 3 minutes and a lattice relaxing layer is formed.例文帳に追加

そのまま10分間表面クリーニング工程を行ない、単結晶基板を1100℃まで3分間かけて昇温し格子緩和層を形成する。 - 特許庁

Metal grains are projected at least on a part of the face of the surface of a resin-containing molding by a cold spray process so as to form a metallic film.例文帳に追加

樹脂を含む成形体の表面の少なくとも一部の面に、コールドスプレー法により金属粒子を投射し、金属皮膜を形成する。 - 特許庁

To provide a small motor in which no metal holder frame is used in a surface mounting process by reflow soldering to a printed wiring board.例文帳に追加

印刷配線板へのリフローソルダリングによる表面実装工程において金属製ホルダー枠を用いずに済む構造の小型モータの提供。 - 特許庁

To efficiently utilize a laminate process in terms of a fixing device for applying a laminate to the surface of printed matter after printing.例文帳に追加

印字終了後に印字物の表面にラミネートを行う定着装置について、ラミネート工程を効率良く利用することを目的とする。 - 特許庁

The sealing process is performed by applying the thermosetting resin 3 on the surface of the ceramic insulating layer 1 after heating the ceramic insulating layer.例文帳に追加

この封孔処理方法は、セラミックス絶縁層１を加熱した後、このセラミックス絶縁層１の表面に熱硬化性樹脂３を塗布する。 - 特許庁

The insoluble sulfur composition is obtained by compounding silica which has a center particle diameter of ≤1.0 μm and is subjected to hydrophobic surface treatment and a process oil with the insoluble sulfur.例文帳に追加

不溶性硫黄に対して、１．０μｍ以下の中心粒子径を有し、且つ表面が疎水化処理されたシリカと、プロセスオイルを配合する。 - 特許庁

A back surface exposure process is executed and a photoresist layer 212 is patterned on this passivation layer with the use of the gate and the source/drain terminal as a mask.例文帳に追加

裏面露光プロセスを実行して、このパシベーション層上に、前記ゲート、ソース／ドレイン端子をマスクとして用いて、フォトレジスト層２１２をパターン化する。 - 特許庁

To make a production process simple, obtain a finished surface whose edge is sharply formed as a concave portion for forming a cavity, and allow miniaturization.例文帳に追加

製作工程の簡素化が図れ、かつ、キャビティ形成用の凹部としてエッジが立った鋭い加工面が得られ、小型化を図る上で有効となる。 - 特許庁

In the above sticking process, a silicon oxide film is previously formed on the sticking surface of the large-diameter silicon wafer and/or small-diameter silicon wafer.例文帳に追加

前記貼り付け工程では、予め大口径シリコンウェハ及び／又は小口径半導体ウェハの貼り付け面に酸化シリコン膜を形成する。 - 特許庁

In this process, growth of the silicon dioxide film 15 occurs at the interface between the silicon substrate 1 and the silicon dioxide film 15 (that is, the surface of the silicon substrate 1).例文帳に追加

これにより、二酸化シリコン膜１５の成長は、シリコン基板１と二酸化シリコン膜１５との界面（シリコン基板１の表面）で起こる。 - 特許庁

SURFACE TREATMENT CALCIUM CARBONATE FILLER FOR HARDENABLE RESIN COMPOSITIONS, PROCESS FOR ITS PRODUCTION, AND HARDENABLE RESIN COMPOSITION CONTAINING THE FILLER例文帳に追加

硬化型樹脂組成物用表面処理炭酸カルシウム填料、及びその製造方法、並びに該填料を含有してなる硬化型樹脂組成物 - 特許庁

The environmental preservation material for water areas is characterized that it contains the slag from a steel making process where a film consisting of a carbonate is not formed on its surface.例文帳に追加

表面に炭酸塩からなる膜が形成されていない鉄鋼スラグを含むことを特徴とする、水域環境保全材料である。 - 特許庁