「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing an optical element having a surface which can be used as an optical reflecting surface by utilizing anisotropic etching of silicon with a single process of anisotropic etching with the efficiency and in large quantities.例文帳に追加

シリコンの異方性エッチングを利用して光学反射面に利用可能な面を持つ光学素子を、一度の異方性エッチングで効率よく大量に作製する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a surface-mounting type compound function component that can mount components up to a board end, has a suction surface that can be handled easily by an automatic machine, and can simplify a manufacturing process.例文帳に追加

部品を基板端まで搭載することができ、自動機による取り扱いが容易な吸着面を備え、しかも製造工程を簡略化できる、面実装型複合機能部品を提供する。 - 特許庁

In the fourth process, the other part of the cup 1 is fitted in the inside surface groove 6 by the resilient force of the cup 1 with the aid of a second arbor 16, and the whole cup 1 is fitted in the inside surface groove 6.例文帳に追加

第４工程において、第２アーバ１６によりカップ１の有する弾性力によりカップ１の他部を内径溝６に嵌入させるとともに、カップ１全体を内径溝６に嵌入させる。 - 特許庁

Accordingly, the piezoelectric substrate can be hermetically sealed easily by only bonding a cover onto the upper surface side of the piezoelectric substrate and bonding the base onto the lower surface side of the dielectric substrate and the complicated manufacture process is prevented.例文帳に追加

従って、圧電基板の上面側に蓋体を接合し、圧電基板の下面側にベース体を接合するだけで、圧電基板を容易に気密封止することができ、製造工程の複雑化が避けられる。 - 特許庁

To provide a surface-treated copper foil exhibiting black color which can be worked by the customary copper etching process, and a conductive mesh for PDP produced from such a surface-treated copper foil.例文帳に追加

良好な黒色を持ち、且つ、通常の銅エッチングプロセスで加工可能な表面処理銅箔、及び、そのような表面処理銅箔で製造されたＰＤＰ用導電性メッシュを提供する。 - 特許庁

The first cuter blade 2 is used for a face preparation process, where the surface layer part of a sample block 11 is cut to form a plane parallel to the cutting direction, on the surface of the sample block 11.例文帳に追加

第一のカッタブレード２は、面出し工程、即ち、試料ブロック１１の表層部を切断して試料ブロック１１の表面に切断方向に対して平行な平面を形成する際に使用される。 - 特許庁

The surface-treated copper foil provided with the blacking-treated surface obtained by the production process is free from the falling of powder, and has extremely satisfactory blackness.例文帳に追加

これらの製造方法で得られる黒色化処理面を備える表面処理銅箔は、当該黒色化処理面が、粉落ちすることもなく、非常に良好な黒色度を持つものとなるのである。 - 特許庁

The surface treatment device 1 is used in a manufacturing process of a flexible substrate, and performs the surface treatment of the flexible substrate with a treatment liquid B in treatment chambers 3, 3' while horizontally conveying a flexible substrate material A by a conveyor 2.例文帳に追加

この表面処理装置１は、軟性基板の製造工程で使用され、軟性基板材Ａをコンベヤ２にて水平搬送しつつ、処理室３，３'内で処理液Ｂにて表面処理する。 - 特許庁

Next, a surface roughening process is done on the part of the first conductive pattern 2 exposed inside the pore 3a of the second insulating layer 3 so that its average surface roughness Ra may become 20 nm or more and 200 nm or less.例文帳に追加

次に、第２の絶縁層３の孔部３ａ内で露出する第１の導体パターン２の部分の平均表面粗さＲａが２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下となるように、粗面化処理を行う。 - 特許庁

To provide a substrate for electronic element capable of obtaining a conductivity in the direction of thickness of the substrate through a simple process reduced in a thermal stress, and capable of securing a hermeticity between the front surface of the substrate and the rear surface of the same.例文帳に追加

簡単な工程で基板の厚み方向の導電性を得ることができ、熱歪みも少なく、基板表裏間の気密性も確保することができる電子素子用基板を提供する。 - 特許庁

To obtain a silicon cast block in which the surface defect such as longitudinal crack and lateral crack as to develop on the surface of the silicon cast block, is not developed, in a cutting-off process of the silicon cast block.例文帳に追加

シリコン鋳塊の切断工程においてシリコン鋳塊表面に発生する縦割れや横割れといった表面欠陥が発生しないシリコンの鋳塊を得ることを目的としている。 - 特許庁

In an immersion process, a lower end 53B of the terminal fitting 53 is brought close to the liquid surface of the molten solder 2 and immersed therein without being vibrated, while the lower end 53B of the terminal fitting 53 is kept arranged opposite to the liquid surface.例文帳に追加

浸漬工程では、端子金具５３の下端部５３Ｂを液面に対向配置させたまま端子金具５３の下端部５３Ｂを振動させずに溶融はんだ２の液面に接近させ浸漬させる。 - 特許庁

The processing of a groove 1D is applied to a multilayered film sample 1 along the contour of the predetermined place of the multilayered film sample 1 and the film surface of the predetermined place is peeled by a predetermined place peeling process to expose the peeling surface.例文帳に追加

多層膜試料１の所定箇所の輪郭に沿って溝１Ｄ加工を行ない、所定箇所を剥離する工程により所定箇所の膜面を剥離して、剥離面を露出させる。 - 特許庁

The surface finish treatment method comprises the step of subjecting a surface of the aluminum member 1, a coating object, to a thick film anodic oxide coating treatment as a pretreatment process, and thereafter, of coating with a high-weatherproof polyester powdered paint by an electrostatic coating method.例文帳に追加

被塗物であるアルミニウム部材１の表面を前処理工程として厚膜陽極酸化皮膜処理した後、高耐候性ポリエステル粉体塗料を静電塗装法により塗装する。 - 特許庁

Thus, the surface to be plated in each process is limited to an area on which the plating liquid flow and the current density are more uniform, by plating the surface of the substrate part by part.例文帳に追加

被処理基板面を一部ずつメッキすることにより、各工程でメッキを施す面はメッキ液の流れおよび電流密度がより均一になる範囲に限定されたものとすることができる。 - 特許庁

In a process of performing bending, the first guide surface 21 constrains one side of a bending part of the square wire conductor 8, and the second guide surface 51 constrains the other side of the bending part of the square wiring conductor 8.例文帳に追加

折曲を行う過程においては、第１ガイド面２１が角線導体８の折曲部分の一側面を拘束し、第２ガイド面５１が角線導体８の折曲部分の他側面を拘束する。 - 特許庁

To provide a silicon-based substrate surface-roughening process method as well as its device, capable of forming a texture across a wide area of a silicon-based substrate surface for a solar battery, using hydrogen which poses no environmental load.例文帳に追加

環境負荷のない水素を用いて、太陽電池用のシリコン系基板表面にテクスチャーを広い面積に形成できるシリコン系基板表面粗面化処理方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

After the principal surface is subjected to precision processing and to defect inspection, to specify a defect on the principal surface, the polishing process is carried out on the specified defect.例文帳に追加

上記主表面の研磨加工は、当該主表面を精密加工した後欠陥検査を行って当該主表面上の欠陥を特定し、この特定された欠陥に対して実施するものである。 - 特許庁

In this process, since the YSZ particle 8 are deposited uniformly on the surface of the cathode substrate 20, the entire surface of the cathode substrate 20 can be covered with the YSZ particles 8 even if a deposition layer is not made thick.例文帳に追加

このとき、ＹＳＺ粒子８はカソード基材２０の面上に均一に堆積していくから、堆積層に厚みを持たせなくてもカソード基材２０の表面全体を均一に覆うことができる。 - 特許庁

The swelling surface 36b is thus given an optimum shape by a pre-embossing process, which allows the swelling surface 36b to swell into a shape having the section close to a trapezoid and the contact face almost flat.例文帳に追加

最適形状となるように予め型押しなどを行うものであり、これを行うことによって、全くの台形状や、その接触面が平坦面とはならないまでも、それに近い形で膨らむ。 - 特許庁

Next, the image formation surface of the paper sheet 5 is pressed by a pressure roller 13 on the circumferential surface of a region 121 along a paper sheet transporting route 30 included in an endless fixing belt 12 (pressure process).例文帳に追加

次に、無端状の定着ベルト１２に含まれる、用紙搬送経路３０に沿った沿路部位１２１の外周面に、加圧ローラ１３によって用紙５の像形成面を押圧する（ 押圧工程）。 - 特許庁

A process for depositing the thin film is characterized in that the thin film is deposited at least one surface of the outer surface side of the base body having a space filled with the gas or the liquid therein by an atmospheric plasma treatment.例文帳に追加

内部に気体または液体が内包された空間を有する基体の外面側の少なくとも１面に大気圧プラズマ処理により、薄膜を形成することを特徴とする薄膜形成方法。 - 特許庁

To provide a steel sheet for a can which exhibits excellent surface properties after drawing and ironing, wherein the roughening of the surface after working is slight and the peeling or the like of a film is not caused, and to provide a process for the production thereof.例文帳に追加

加工後の鋼板表面の肌荒れが軽微でフィルムの剥離などが発生しない絞りおよびしごき加工後の表面性状に優れた缶用鋼板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

An upper surface bevel part of a substrate W is supplied with a first process liquid, in such condition that a shielding members 5 are arranged, facing each other, close to a surface Wf of the substrate W for executing bevel cleaning.例文帳に追加

遮断部材５が基板Ｗの表面Ｗｆに近接して対向配置された状態で基板Ｗの上面ベベル部に第１処理液が供給されてベベル洗浄が実行される。 - 特許庁

In manufacturing the ion generating element 21, a coating layer 6 for covering the surface of a discharge electrode 1, except for a surface that is in contact with a dielectric 4, is formed by performing a coating process more than one time.例文帳に追加

イオン発生素子２１を製造する際、放電電極１の誘電体４と接する表面以外の表面を被覆するコート層６を、複数回のコーティング処理によって形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor for stably obtaining an optimal surface shape for an electrophotographic process while reducing variation in the surface shape of a roughened electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

粗面化した電子写真感光体の表面形状のばらつきを低減し、電子写真プロセスに最適な表面形状を安定して得ることができる電子写真感光体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide surface-treated copper foil having a satisfactory brown color, and also workable by an ordinary copper etching process, and to provide an electrically conductive mesh for PDP produced with the surface-treated copper foil.例文帳に追加

良好な茶褐色を持ち、且つ、通常の銅エッチングプロセスで加工可能な表面処理銅箔、及び、そのような表面処理銅箔で製造されたＰＤＰ用導電性メッシュを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor junction state in which even if excess flattening and surface treatment are not performed, processing and bonding process on the front surface of bonding are easy and which obtains good bonding strength and bonding strength distribution.例文帳に追加

過度の平坦化や表面処理をしなくても、接合表面の処理や接合工程が容易で、良好な接合強度及び接合強度分布が得られる半導体接合形態を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for selectively and completely eliminating the remaining surface flaws formed on metallic surface layers in the process of manufacturing a metallic product by electric discharge and the metallic product obtained by the same.例文帳に追加

金属製品の製造過程において金属表層に形成され残存する表面疵を、放電により選択的に完全に消去する方法および装置と、得られる金属製品を提供する。 - 特許庁

This method for producing a surface-modified rubber comprises a coating process of incorporating 100 pts.wt. of a discarded cured rubber with 0.05-5 pt(s).wt. of sulfur to make the sulfur adhere to the surface of the discarded cured rubber.例文帳に追加

廃棄加硫ゴム１００重量部に対し、硫黄０．０５〜５重量部を添加して、該廃棄加硫ゴム表面に該硫黄を付着させるコーティング処理工程を含む表面改質ゴムの製造方法である。 - 特許庁

Then, in the heat hardening process, nitrogen gas is introduced from below the carrier tape 3 being an opposite side surface to a resin coated surface of the carrier tape 3, and an inside of the oven 2 is kept in a non-oxidizing atmosphere state.例文帳に追加

そして、加熱硬化工程では、窒素ガスを、搬送テープ３の樹脂塗布面とは反対側の面であって、搬送テープ３の下方から導入し、炉２内を無酸化雰囲気状態に保持している。 - 特許庁

A control part 41 turns on the pre-charge neutralizer 30 irrelevantly to which of one-surface printing and both-side printing is carried out once resolution of 1200 dpi with a slow process speed is selected to make the electric charges on the surface of the photoreceptor 7 uniform.例文帳に追加

制御部４１は、プロセス速度の遅い解像度１２００ｄｐｉが選択されると、プレ除電器３０を片面印字，両面印字に係わらずＯＮし、感光体７表面の電荷を揃える。 - 特許庁

To provide a surface treatment process of a silicon substrate in which a low reflection surface suitable for solar cell can be achieved while preventing a porous layer from occurring due to etching in a silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板内部のエッチングにより生じる多孔質層の発生を防ぎつつ、太陽電池セルに適した低反射の表面を実現できるシリコン基板の表面処理方法を提供する。 - 特許庁

During the process, the workpiece is rotated and laterally moved while an electrodeposition solution is delivered onto the wafer surface at a predetermined flow rate, and a potential difference is applied between the workpiece surface and the electrode.例文帳に追加

電着溶液が予め定められた流動レートでウェハ表面上に与えられながら、ワークピースが回転され、横に移動され、ワークピースの表面と電極との間の電位差が与えられる。 - 特許庁

To provide a lid structure of a storage part for an automobile whereby an obverse surface panel and a reverse surface panel can be welded together easily and securely through a vibratory welding process.例文帳に追加

本発明の目的は、表面パネルと裏面パネルとを振動溶着により容易にかつ確実に溶着できることを可能にした自動車用収納部の蓋体構造を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing moldings of a polycarbonate resin with a cured surface by manufacturing the moldings of a polycarbonate resin through a simple manufacturing process and in a complicated shape with high surface hardness.例文帳に追加

ポリカーボネート樹脂成形品を簡単な製造工程で製造でき、表面硬度が高く、しかも複雑な形状に成形可能な表面硬化ポリカーボネート樹脂成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁

The via hole 3 penetrating through the predetermined region of a semiconductor substrate 1 is formed by etching from one surface to another surface of the semiconductor substrate 1 in applying the Bosch process with the use of a mask layer 2 as a mask.例文帳に追加

マスク層２をマスクとし、ボッシュプロセスを利用して半導体基板１の一方の面から他方の面方向へエッチングし、当該半導体基板１の所定領域を貫通するビアホール３を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a microneedle patch having sharp tips and good surface smoothness with a relatively simple process, and to provide a microneedle having low surface roughness obtained by the method.例文帳に追加

比較的簡易な工程でありながらも、先端が鋭く表面平滑性の良好なマイクロニードルのパッチを製造する方法と、それによって得られる表面粗度の低いマイクロニードルを提供する。 - 特許庁

To enable formation of a fluorescent surface with superior productivity by a transfer printing method, and in particular, to realize a common part with the conventional forming process of the fluorescent surface, that has only one fluorescent substance part.例文帳に追加

転写法により、生産性に優れた蛍光面の形成を可能にし、特に、単一の蛍光体部しか有しない従来の蛍光面の形成工程と、一部共通化を図ることができるようにする。 - 特許庁

During deairing in a safety glass forming process, the first air removal surface 12 is partially transferred to the second air removal surface 18 and superposed to provide deair paths of reduced obstruction.例文帳に追加

安全ガラス形成工程の空気除去中に、第一の空気除去表面１２が第二の空気除去表面１８に部分的に転写されて重畳し、妨害の少ない空気除去通路を提供する。 - 特許庁

An element structure and a surface electrode are formed on the front surface side of an n^+ type substrate 1, and thereafter a polishing process is executed to the back face 1b of the n^+ type substrate 1 to form minute irregularity on the back face 1b.例文帳に追加

ｎ^+型基板１の表面側に素子構造や表面電極を形成した後、ｎ^+型基板１の裏面１ｂに研磨処理を行って裏面１ｂに微細な凹凸を形成する。 - 特許庁

Then a resin film 30a is to be provided at a processing cross-sectional area, by forming a surface processing units Sa, Sb after subjecting it to milling process on an edge surface of the sheet body which includes the punching and processing cross-sectional area.例文帳に追加

その後、打ち抜き加工断面領域を含むシート体の端面にフライス加工等を施して表面処理部Ｓａ，Ｓｂを形成し、当該加工断面領域に樹脂膜３０ａを設ける。 - 特許庁

To provide a surface roughening device for substrate insulated layers by which insulated layers formed on both the surfaces of a substrate are simultaneously subjected to roughening treatment uniformly and inexpensively by a dipping type surface roughening process.例文帳に追加

ディップ式による絶縁層の表面粗化にて、基板の両面に形成された絶縁層を、同時に均一に低コストで粗化処理を行う、基板絶縁層の表面粗化装置を提供する。 - 特許庁

At a second process, melted metal drops 19 are sprayed or dropped against a difference in level 22 formed between the surface of the conduction part 13 of the FPC 11 and the surface of the conduction part 17 of the FPC 15.例文帳に追加

第二工程では、ＦＰＣ１１の導体部１３の表面とＦＰＣ１５の導体部１７の表面との間に生じる段差２２に、溶融金属粒１９が噴出又は滴下される。 - 特許庁

(3) A process to stick, after removal of the processed and molded product, a water sticker composed of a thin film printed with the hue, pattern, gloss, and the like imitating the surface of a real product on the surface of the processed and molded product.例文帳に追加

３．上記加工成型物の脱型後、該加工成型物の表面に本物品の表面に似せた色相、模様及び光沢等を印刷した薄い皮膜よりなる水貼りシールを貼着する。 - 特許庁