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surface processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9599件
To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method which can uniformly process both of a surface and a rear face of a substrate.例文帳に追加
基板の表裏両面を均一に処理することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
In a trench formation process by a manufacturing method of a semiconductor device, a trench 102 is formed on a front surface of a p-type semiconductor substrate 101.例文帳に追加
半導体装置の製造方法のトレンチ形成工程は、p型半導体基板101の表面部分にトレンチ102を形成する。 - 特許庁
To provide a printing plate material having a hydrophilic layer suitable for a process-less plate, in particular excellent in plate wearability and surface uniformity.例文帳に追加
プロセスレスプレートに好適な親水性層を有する印刷版材料、特に、耐刷性、表面均一性に優れた印刷版材料を提供する。 - 特許庁
The basic shape layer (7) is formed of a radiation- or heat-sensitive resin having unevenness on its surface through a pressure-reduced drying process.例文帳に追加
基礎形状層(7)は、減圧乾燥処理によりその表面に凹凸が施された放射線又は熱感応性樹脂により形成される。 - 特許庁
To provide a method of forming an insulating film with a planarized surface on a metal layer, without having to apply a chemical-mechanical planarization process.例文帳に追加
金属層上への表面の平坦かされた絶縁膜を化学的機械平坦化プロセスを適用しないでも済む形成方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method contains a surface treatment process using an aqueous solution saturated with carbon dioxide prepared by dissolving carbon dioxide in warm water.例文帳に追加
温水中に二酸化炭素を溶解した二酸化炭素飽和水溶液を用いることを特徴とする表面改質工程が提供される。 - 特許庁
A dull-finished metal sheet is dull finished on the surface and has a mark indicating a threading treatment direction in the manufacturing process at the back.例文帳に追加
ダル仕上げ金属板が、表面側がダル仕上げされてなり、その裏面側に製造工程での通板処理方向を示すマークを有する。 - 特許庁
To suppress occurrence of resin waste of an adhesive to adhere to a cord surface in a drying process after the adhesive treatment of an organic fiber cord.例文帳に追加
有機繊維コードの接着剤処理後の乾燥工程において、コード表面に付着する接着剤の樹脂カスの発生を抑制する。 - 特許庁
To improve throughput by giving multi-function characteristic to a slurry used on a polishing table in the chemical-mechanical polishing process for polishing the wafer surface.例文帳に追加
ウェハの表面を研磨する化学機械研磨において、研磨テーブル上で使用するスラリーに多機能性を持たせ、スループットを向上させる。 - 特許庁
When the component is to be provided on the circuit board, the component can be mounted with other surface mounting components, thus reducing a manufacturing process.例文帳に追加
部品を回路基板に設ける場合は、部品をその他の表面実装部品と共に実装することができ、製造工程を低減できる。 - 特許庁
Later the noble metal particle undergoes the reduction process and at the same time, is redispersed to the surface of a carrier, thus turning into fine noble metal particles.例文帳に追加
その後に還元工程を行うことで、貴金属粒子は還元されると同時に担体上で再分散され、微細な貴金属粒子となる。 - 特許庁
In the photographing process, the infrared camera 20 is arranged above the laminated plate to photograph the upper surface of the laminated plate.例文帳に追加
撮影工程では、赤外線カメラ20を積層板の上方に配置し、この赤外線カメラによって積層板の上面を撮影することができる。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display device reducing the irregularity of a substrate surface while simplifying the manufacturing process.例文帳に追加
製造工程の簡略化を達成しつつ、基板表面の凹凸を低減させることが可能な液晶表示装置を提供することである。 - 特許庁
Alternatively, bark, to which printing has been applied, is adhered to the surface of the wooden clogs in the process before the clog thongs are attached and thereafter the clog thongs are attached.例文帳に追加
または、鼻緒をつける前の工程で、すでに印刷された木皮を下駄表面に貼り付け、その後鼻緒をつける事で解決した。 - 特許庁
In a surface treatment process, wet abrasive machining is performed to the side faces 106 of the capacitor body 104 in which the recesses 107 are formed.例文帳に追加
表面処理工程において、凹部107が形成されたコンデンサ本体104の側面106に対して湿式砥粒加工を行う。 - 特許庁
To provide a process unit configured so as to ensure smooth conveyance by preventing the belt from being caught by a wall surface of a conveyance path, and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加
搬送経路壁面へのひっかかりを防止して、安定した搬送が可能な、プロセスユニット、および画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide polishing device and method allowing realizing of a polishing process capable of forming a smooth polished surface at a low cost.例文帳に追加
滑らかな被研磨面を形成することができる研磨プロセスを低コストで実現することができる研磨装置および研磨方法を提供する。 - 特許庁
In a base electrode forming process, an electrode film is formed and is then annealed, and then minute roughness is formed on the surface of electrode film.例文帳に追加
下地電極形成工程において、電極膜形成した後これをアニールし、引き続いて電極膜表面に微細な荒れを形成する。 - 特許庁
To provide a semiconductor wafer capable of highly maintaining flatness of a main surface by a simple process, and to provide a manufacturing method of the semiconductor wafer.例文帳に追加
簡易な工程により主面の平坦度を高く維持することが可能な半導体ウェーハ及びその製造方法を提供すること - 特許庁
The coating method enables the dilution of the coating liquid to the specified coating density level before applying it to the surface of the object, in this application process.例文帳に追加
被塗布物上に塗布液を塗布するに際し、塗布液を、被塗布物上への塗布直前に塗布濃度まで希釈する塗布方法である。 - 特許庁
To provide a resist processing apparatus for exfoliating, with low damage and high efficiency, a mask resist film where a surface layer is deteriorated in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加
半導体製造工程において表層が変質したマスク用レジスト膜を低ダメージ・高効率で剥離するレジスト処理装置を提供する。 - 特許庁
During the cleansing process whether the sensor surface is recovered to the initial condition or not is discriminated by monitoring the measuring signal.例文帳に追加
この洗浄処理中に、測定信号をモニタして、その測定信号に基づいてセンサ面が初期状態に復帰しているか否かを判定する。 - 特許庁
To provide a seamless belt with excellent surface characteristics and a method for manufacturing it by preventing foreign substances from being mixed on a manufacturing process for a polyimide belt.例文帳に追加
ポリイミドベルトの製造過程における異物の混入を防ぎ、表面特性に優れたシームレスベルトおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
When the sample S is put under etching process, an ion beam is irradiated, in a state of the shielding material M being intercalated near the processing surface SA.例文帳に追加
試料Sのエッチング加工時には、遮蔽材Mが加工面SAの近傍に介在された状態でイオンビームが照射されて行われる。 - 特許庁
Then, it is possible to prevent flicker from occurring by dispensing ON/OFF patterns on a random basis in the same frame surface and between frames by this shifting process in this display device.例文帳に追加
このシフト処理により同一フレーム面内および、フレーム間でオンオフパターンをランダムに分散させ、フリッカの発生を防止することができる。 - 特許庁
To planarize the upper surface without polishing in some production process when a semiconductor device referred to BGA is produced, for example.例文帳に追加
例えばBGAと呼ばれる半導体装置の製造に際し、ある製造工程において、研磨を行なうことなく、その上面を平坦面とする。 - 特許庁
During execution of a purging process, the wiper 23 is stored in the purge cap 17 in a deflected state in contact with an ink ejection surface 4a.例文帳に追加
パージ処理実行中は、このワイパ23は、撓んだ状態でインク吐出面4aに当接して、パージキャップ17内に収納されている。 - 特許庁
This process contains (if necessary) a step to liquefy a sample and a step to distribute the liquefied sample on the surface of an analyzing apparatus.例文帳に追加
該方法は、(もし必要であれば)サンプルを液化する工程と、液化したサンプルを分析装置の表面上に配分する工程とを含む。 - 特許庁
The gap between the first and second areas and the connection tabs protruding outward at the outer surface of the component, is filled by additional molding process.例文帳に追加
さらなるモールド工程が第1および第2の部分と部品の外面の外側に突出する接続タブとの間の間隙を充填する。 - 特許庁
To seal a brazed surface layer between strands without crushing a hollow wire even if a friction stirring process is applied to a stator coil.例文帳に追加
固定子コイルに摩擦攪拌プロセスを適用しても中空線がつぶれることなく素線間のろう付け表層を封止処理することにある。 - 特許庁
For removing material 34 from an inner surface of a cavity 18 in a nozzle stationary blade 16 of a turbine, a process of electric discharge machining(EDM) is used after casting.例文帳に追加
タービンのノズル静翼の空洞の内面から素材(34)を取り除くために鋳造後に放電加工(EDM)工程が用いられる。 - 特許庁
To provide a surface mounter in which productivity can be prevented from lowering by performing operation control depending on the actual condition of a mounting process.例文帳に追加
実装プロセスの実態に応じた動作制御を行うことにより、生産率の低下を防ぐことができる表面実装機を提供する。 - 特許庁
Next, this surface from which the oxide film is removed is covered with a coating film that functions as an oxidation preventing film (coating process S2).例文帳に追加
次いで、酸化物膜が除去されたアルミニウム系ワークの表面を、酸化防止膜として機能するコーティング膜で被覆する(被覆工程S2)。 - 特許庁
Then, this surface from which the oxide film is removed is covered with a coating film that functions as an oxidation preventing film (coating process S2).例文帳に追加
次いで、酸化物膜が除去された非鉄金属製ワークの表面を、酸化防止膜として機能するコーティング膜で被覆する(被覆工程S2)。 - 特許庁
In a manufacturing process of an Si microphone 1, a lower sacrifice layer 30 formed of Al-Si is formed on the upper surface 29 of the Si substrate 2.例文帳に追加
Siマイク1の製造工程において、Si基板2の上面29には、Al−Siからなる下部犠牲層30が形成される。 - 特許庁
To provide cast coated paper which is excellent in solvent resistance, has a high surface strength, and is useful as the base paper of process paper for producing synthetic leathers.例文帳に追加
、耐溶剤性に優れ、高い表面強度を有し、合成皮革製造用の工程紙の原紙として有用なキャスト塗工紙を提供する。 - 特許庁
To provide an electrostatic chuck that makes a chucked-wafer releasing process easier and, in addition, minimizes the occurrence of particles on the rear surface of a wafer.例文帳に追加
ウェハーのチャック解除のプロセスを容易にしかつウェハーの裏面におけるパーティクルの発生を最小化できる静電チャック装置を提供する。 - 特許庁
The paper board composite material is formed by a process of bonding a thin bleached (white) paper on an upper surface of a thick unbleached paper board.例文帳に追加
この板紙複合材料は、薄い漂白(白色)紙が厚い未漂白板紙の上面に接着されるというプロセスによって形成される。 - 特許庁
The grafted deodorizer/harmful substance removing agent can be applied to the surface of the plywood by a sprayer or the like and the coated plywood is subsequently passed through a drying process.例文帳に追加
グラフト脱臭剤兼有害物質除去剤は、噴霧機などにより合板の表面に塗布することができ、その後乾燥工程を経る。 - 特許庁
To provide a negative ion generator which generates negative ions from a surface prepared using aluminum or its alloy as a parent material, and its manufacturing process.例文帳に追加
アルミニウム又はその合金を母材とする表面からマイナスイオンを発生させるマイナスイオン発生体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
The antibody selectively reacts to the surface antigen expressed by undifferentiated neural stem cells and disappearing during a differentiation process.例文帳に追加
この抗体は、未分化の神経幹細胞が発現し、その後の分化の過程で消失していく表面抗原に対して選択的に反応する。 - 特許庁
MANUFACTURING PROCESS FOR METAL OXIDE WHOSE SURFACE IS MODIFIED WITH ORGANIC FUNCTIONALITY, SUCH THE METAL OXIDE AND PRODUCT COMPRISING THE METAL OXIDE例文帳に追加
有機官能性で表面変性された金属酸化物の製造法、そのような金属酸化物及び該金属酸化物を含有している製品 - 特許庁
To provide a thermal barrier coating improved in durability by improving a fine structure of a bond coat surface and a process for applying the same.例文帳に追加
ボンドコート表面の微細構造を改良することにより耐久性を向上させたサーマルバリアコーティングおよびその適用方法を提供する。 - 特許庁
To provide an etching method by which recessed and projecting sections can be formed highly efficiently with a short unit process time on the surface of a substrate, particularly, the substrate used for solar cells.例文帳に追加
基板、特に太陽電池に用いられる基板表面の凹凸形成を効率よく、高タクトで行うエッチング方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for diagnosing growth of crops, hardly receiving an influence from the weather and free from the need of a measurement and a detection process for the earth surface.例文帳に追加
天候の影響を受けにくくかつ地表面の計測・検出処理を要することの無い、作物の生育診断方法を提供する。 - 特許庁
To reduce greatly sludge volume by hyperfinely pulverizing sludge to enlarge a unit surface area so as to carry out an effective biodegradable process in an aeration tank.例文帳に追加
汚泥を超微細化して単位表面積を拡大して曝気槽で効率的に生物分解処理して大幅に汚泥を減容化する。 - 特許庁
To shorten a period of time needed for a process of winding coils when three coils constituting the surface-mounted balun transformer are all different in number of turns.例文帳に追加
表面実装型バルントランスを構成する3つのコイルの巻数がすべて異なる場合に、コイルの巻回工程に要する時間を短縮する。 - 特許庁
To make treatment easy by widening a process window in surface treatment of a hardly adhesive resin film such as a TAC film and to stabilize productivity.例文帳に追加
TACフィルム等の難接着性樹脂フィルムの表面処理におけるプロセスウィンドーを広くして処理を容易化し、生産性を安定させる。 - 特許庁
The surface roughness of the base material 2 is ≤0.1 μm by Ry (maximum height), and the hard carbon film 3 is deposited by a sputtering process.例文帳に追加
基材2の表面粗さはRy(最大高さ)で0.1μm以下であり、硬質炭素被膜3はスパッタリング法により成膜されている。 - 特許庁
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