「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索

A reverse surface skin piece 15 is formed from a skin material more soft and ductile than the skin material of an obverse surface skin piece 14, and a single-piece foaming process of urethane is applied to the sack-shaped skin 13 sewn up into a sack form having the bending part 16 from the obverse surface skin piece 14 and the reverse surface skin piece 15.例文帳に追加

裏面表皮片１５が表面表皮片１４の表皮材よりも柔軟で伸びのある表皮材を用い、そして、その表面表皮片１４および裏面表皮片１５が曲り部分１６を有する形状で袋状に縫い合わせられる袋状表皮１３にウレタンを一体発泡させて成形される。 - 特許庁

In grinding using a planetary gear mechanism, a part of a glass disc 7 held on a carrier 13 is relatively moved to a lower surface plate 3 and an upper surface plate 4, and in that process, at least a part of the surface is passed on the outer peripheral side from the outer edges of the respective surface plates 3, 4.例文帳に追加

遊星歯車機構を用いて研削処理を行うにあたり、キャリア１３に保持されたガラスディスク７の一部は、下側定盤３及び上側定盤４に対する相対移動の過程において、少なくとも表面の一部をこれら各定盤３，４の外縁部よりも外周側を通過させるようにした。 - 特許庁

The surface of the mold member surface layer part 12a having a Vickers hardness (HV) of 100 to 700 is machined to form a lens array corresponding structure 12b, and a surface of the structure 12b is subjected to blasting process using substantially spherical blast particles 12c having a Mohs hardness of 5.5 to 9, whereby the shape transfer surface is formed.例文帳に追加

ビッカース硬度（ＨＶ）１００以上７００以下の型素材表層部１２ａの表面を切削加工してレンズ列配列対応構造１２ｂを形成し、その表面にモース硬度５．５以上９以下の略球形状のブラスト粒子１２ｃを用いたブラスト処理を施すことで形状転写面を形成する。 - 特許庁

To provide a surface protective film for a transparent conductive film which facilitates a visual inspection without hurting the back of the surface protective film during a process and can improve work properties by omitting work for re-sticking the surface protective film and the transparent conductive film using the surface protective film.例文帳に追加

工程中において表面保護フィルムの背面に傷がつくことなく外観検査が容易になり、また表面保護フィルムを貼りかえる手間が省けて著しく作業性を向上させることができる透明導電性フィルム用表面保護フィルム、及びこれを用いた透明導電性フィルムを提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the building board by applying a coating to the substrate 2 having the rugged surface, in the process of conveying the substrate subjected to color under coating on the surface, the prescribed positions of the substrate are first subjected to edging printing by an ink jet printer 5, then the surface is coated with a coating material by spraying from above the printed surface.例文帳に追加

凹凸面を有する基板２に塗装を施して建築板を製造する方法において、表面に下地着色塗装を施した基板を搬送する過程で、まず、インクジェットプリンタ５で所定の位置に縁取り印刷をし、次いで上記印刷をした上からスプレーにて塗料を塗装する。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device includes a process where resin 30 is provided on one surface of a wiring board 20 where a thin-film pattern is formed on at least one surface of a base substrate 22, and the identification display is made depending upon whether the resin 30 is exposed from a surface opposite to the surface where the resin 30 is provided.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、ベース基板２２の少なくとも一方の面に薄膜パターンが形成された配線基板２０の一方の面に樹脂３０を設ける工程を含み、前記樹脂３０が設けられる面とは反対側の面からの、前記樹脂３０の露出の有無によって識別表示がされる。 - 特許庁

In the process of manufacturing the polarized light separation device, a plate glass having a polarized light separation film, formed of a multi- layered film made of an inorganic substance, on its surface and a plate glass having a reflective surface on its surface are pasted together alternately to form a glass block, which is cut along a cutting surface oblique to the pasted surfaces.例文帳に追加

偏光分離装置の製造工程では、まず、無機物質からなる多層膜で構成された偏光分離膜を表面に有する板ガラスと、反射面を表面に有する板ガラスを交互に貼り合わせたガラスブロックを形成し、その貼り合わせ面に対して斜めの切断面に沿ってガラスブロックを切断する。 - 特許庁

Just detected surface information of individual image fields (4) on the wafer surface is compared with previously detected surface information from many wafers surfaces having the same structure in the same manufacturing process, i.e., reference information prepared and electronically stored, based on the surface information of the individual image fields (4) in the same place.例文帳に追加

検出したばかりのウェーハー表面の個別イメージフィールド（４）の表面情報を、同じ製造工程の同じ構造の多数のウェーハー表面から前もって検出した表面情報であって、場所が同じ個別イメージフィールド（４）の前記表面情報をもとに作成され、電子的に記憶された参照情報と比較する。 - 特許庁

A surface shape processor 18 grows and changes a surface shape of a material one after another in the three-dimensional virtual space in accordance with production process conditions, computes a level value representing a distance from a surface of the material for each lattice point, stores the level value in the memory area of the corresponding lattice point, and expresses the surface shape.例文帳に追加

表面形状処理部１８は三次元仮想空間で素材の表面形状を製造プロセス条件に従って逐次的に成長変化させ、各格子点毎に素材の表面からの距離を表すレベル値を算出し、レベル値を対応する格子点の記憶領域に格納して表面形状を表現する。 - 特許庁

Before a layer structure having at least one layer of a signal recording layer is formed on the surface of the supporting substrate made of a thermoplastic resin, the method includes a surface treatment process to treat the surface of the supporting substrate by disposing the substrate in an active gas atmosphere such as ozone and then to stop the surface treatment by using an inert gas such as nitrogen.例文帳に追加

熱可塑性樹脂製の支持基板表面に、少なくとも１層の信号記録層を含む層構造を形成するに先立ち、該支持基板をオゾンなどの活性ガス雰囲気中に置くことにより表面処理し、ついで、窒素などの不活性ガスで表面処理を停止する表面処理工程を具える。 - 特許庁

This deposition method for forming a film on a substrate having a through hole includes a first applying process of applying a first liquid for deposition to a second surface on the opposite side to a first surface of the substrate with a heating member for heating the substrate in contact with the surface surface of the substrate.例文帳に追加

貫通孔を有する基板に膜を形成する成膜方法であって、基板の第１の面に、基板を加熱するための加熱部材を接触させた状態で、基板の第１の面とは反対側の第２の面に、成膜用の第１の液体を付与する第１の付与工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a ceramic substrate which employs a cofiring process using restraint sheets and in which firing strain can be minimized, while preventing transfer (stamp) of undesirable surface roughness onto surface conductors, adhesion of foreign matter to the surface conductors, and deterioration in plating properties and solder wettability of the surface conductors.例文帳に追加

拘束シートを用いた同時焼成工程によるセラミック基板の製造方法において、表面導体に不必要な凹凸をスタンプ（stamp）したり、異物付着を起こしたり、メッキ性や半田濡れ性の低下といった問題の発生を防ぎつつ、焼成ひずみをより小さくできる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing a film with a high surface hardness, wherein a finely divided filler having a modified surface can be prepared without producing hard agglomerated particles in modifying the surface of a filler for highly filling it in a resin so that the prepared filler can be uniformly dispersed in a resin, with the result of giving a transparent film having a high surface hardness.例文帳に追加

充填材を樹脂に高充填化するため表面改質をする際に固い凝集粒子を発生せず、微粒子化された表面改質充填材を作製し、樹脂中に均一に分散することができ、結果として高硬度で透明性を有する高表面硬度フイルムを得ること。 - 特許庁

While surface expansion ratios (elongation ratios) ρ of the half-processed work or the product at each process stage of the continuous cold forging are taken as evaluation indices, the surface expansion ratio (elongation ratio) ρ of every surface of the half-processed material or the processed product is kept not more than the surface expansion ratio (elongation ratio) limit ρ_A of the forging material.例文帳に追加

連続冷間鍛造の各工程における半加工品または成形品の表面拡大率（伸び率）ρを表面割れの評価指標とし、半加工品または成形品の表面のすべての個所の表面拡大率（伸び率）ρをその鍛造素材の限界表面拡大率（伸び率）ρ_Ａ以下とする。 - 特許庁

The soundness of the pretreated surface is inspected by reading off the hue of the surface of the material after pretreatment by means of a photoelectric sensor 16, and only a cylinder 18 having normal pretreated surface capable of providing proper adhesion is transferred to a composite plating treatment process.例文帳に追加

前処理後の素材表面の色相を光電センサー１６で読み取ることにより前処理表面の健全性を検査し、適正な密着力が得られる正常な前処理表面を有するシリンダー１８のみを複合メッキ処理工程に進める。 - 特許庁

To provide a surface-sizing agent for paper production, which has an excellent sizing effect, little foams in a surface-sizing process, and can suitably prevent the sticky phenomenon of paper surface due to dampening water, when the obtained coated paper is offset-printed (especially offset printing for newspaper).例文帳に追加

サイズ効果に優れ、表面サイジング工程における発泡が少なく、しかも得られる塗工紙をオフセット印刷（特に新聞用オフセット印刷）した際の、湿し水による紙表面のネッパリ現象発生を、好適に抑制できる、製紙用表面サイズ剤の提供。 - 特許庁

The pad 10 is packed in the gap within an opening at the part where a flammable long body penetrates the opening of a fireproof partition body, so that the surface of the pad is tightly contacted to the surface of flammable long body and the inner peripheral surface of the opening, for fire prevention process structure.例文帳に追加

このパッド１０を、防火区画体の開口を可燃性長尺体が貫通する部分の前記開口内の空隙に詰め込みんで、パッドの表面を可燃性長尺体表面及び開口内周面に密接させ、防火処理構造とする。 - 特許庁

A method for producing the polymer film has at least a process for conducting roughening treatment of the surface of the polymer film by a sandblasting procedure, wherein the roughening treatment is conducted in such a state that a reverse surface to a roughened surface of the polymer film is adhered to a support.例文帳に追加

前記高分子フィルムは、少なくともサンドブラスト法により前記高分子フィルムの表面を粗化処理する工程を有し、前記粗化処理は、前記高分子フィルムの粗化される面の裏面を支持体に密着させた状態で行うことにより製造する。 - 特許庁

The surface electrode of a wire bond terminal component which is soldered to a printed circuit board attached to the bottom of a case in the same process as other electronic components and having the surface and rear surface connected electrically, and the electrode pin of a connector attached to the sidewall of the case are connected by wire bonding.例文帳に追加

ケースの底部に取り付けられたプリント基板に他の電子部品と同一工程ではんだ付けされ、表裏面が電気的に接続されたワイヤボンド端子部品の表面電極と、ケースの側壁に取り付けられたコネクタの電極ピンとを、ワイヤボンド接続する。 - 特許庁

A chemical and mechanical polishing method is constituted of a process to travel a tape T having voids on its surface by pushhing it on a surface of a glass substrate D while supplying a coolant L to which a solution having a hydroxyl group is added to the surface of the glass substrate D.例文帳に追加

水酸基を有する溶液を添加したクーラントＬをガラス基板Ｄの表面に供給しつつ、表面に空隙を有するテープＴをガラス基板Ｄの表面に押し付けて走行させる工程、から構成される化学的機械的研磨加工方法。 - 特許庁

To provide a composition for metal surface treatment capable of depositing a surface-treated coating film having storage property, excellent corrosion resistance, and excellent deposition property on a coating film to be formed by the subsequent coating process, and a base metal having the surface-treated coating film.例文帳に追加

貯蔵性に優れ、そして耐食性に優れ且つ後の塗装工程によって形成される塗膜との付着性にも優れた表面処理皮膜を形成できる金属表面処理用組成物、並びに表面処理皮膜を有する金属基材を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an epitaxial silicon wafer, in which the polishing process is simplified, thereby the productivity is enhanced and the cost is reduced, the density of LPD (light point defects) generated on the surface of a mirror-polished wafer caused by processing is reduced, and the surface roughness of the surface of the wafer is improved.例文帳に追加

研磨工程の簡略化で生産性が高まり、コストダウンが可能で、鏡面研磨されたウェーハ表面に生じる加工起因のＬＰＤの密度を低減し、ウェーハ表面の表面粗さを改善可能なエピタキシャルシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

The semiconductor device according to the present invention includes a surface having an external connection electrode formed thereon and a rear surface 10 (#a) subjected to mirror finishing, where a part of the rear surface 10 (#a) is provided with roughened regions 14 subjected to the roughening by means of a laser masking process.例文帳に追加

本発明によれば、外部接続電極が形成された表面と、表面に対向し、鏡面状態である裏面１０（＃ａ）を有する半導体装置であって、裏面１０（＃ａ）の一部に、レーザマーキング法によって粗面化処理された粗面化領域１４を設ける。 - 特許庁

To improve the moving speed precision of a surface plate by removing nearly all of sucking functions for holding a printing plate on the surface plate, and to performs an in-focus exposing process by performing exposure while bringing the printing plate into contact with the surface plate with the blowing force of air.例文帳に追加

印刷版を定盤へ保持するための吸引機能のほとんどを取り払うことで、定盤の移動速度精度を向上し、かつエアーの吹き付け押圧力で印刷版を定盤へ密着させると同時に露光することで、ピントの合った露光処理を行う。 - 特許庁

To provide a rubber roll for fixing preventing an end surface part of the rubber layer which is formed stuck to the periphery surface of a rigid core roll and the rubber layer in the vicinity from being peeled off from the periphery surface of the rigid core roll and eliminating factors for instability by a simple process.例文帳に追加

剛体芯ロールの周面に固着形成したゴム層の端面部およびその近傍のゴム層が剛体芯ロールの周面から剥離するのを防止するとともに、単純な工程にして、また、製法不安定要因を排除して安価に製造する。 - 特許庁

A method comprises a process of giving plasma processing onto the polyimide surface of the polyimide film so that the surface free energy of polyimide after treatment falls within the range of 60-80dyne/cm, and that the surface roughness as measured by Ra after treatment falls within the range of 0.6-2.3nm, and is then subjected to adhering and stacking.例文帳に追加

ポリイミドフィルムのポリイミド表面に対してプラズマ処理を施し、処理後のポリイミドの表面自由エネルギーが６０〜８０ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲であり、且つ、処理後の表面粗さＲａが０．６〜２．３ｎｍの範囲とした後、接着積層する。 - 特許庁

Before a metallic film is deposited on the surface of silicon used for forming the silicide film in a supersonic semiconductor device using cobalt silicide or nickel silicide, a chemical oxide film is formed on the surface of the silicon after a natural oxide film is removed from the surface of the silicon by performing a wet etching process.例文帳に追加

コバルトシリサイドあるいはニッケルシリサイドを使う超高速半導体装置において、シリサイド膜形成のためシリコン表面に金属膜を堆積する前に、シリコン表面から自然酸化膜をウェットエッチングプロセスで除去した後、化学酸化膜を形成する。 - 特許庁

The plastic container B is manufactured by forming a level surface 2 containing irregularities on the entire inner surface of a plastic molded container body 1, using a plasma process, and then forming a gas barrier thin film 3, which is composed mainly of an inorganic oxide, on the whole of the level surface 2.例文帳に追加

プラスチック成形容器本体の内面の全面に、プラズマ処理による凹凸平滑面を設け、更に、該凹凸平滑面を含む全面に、無機酸化物を主体とするガスバリア性薄膜を積層させることを特徴とするプラスチック製容器に関するものである。 - 特許庁

The belt-like conductive member comprises: a base material 100 containing rubber material; and a surface layer 110 formed on the base material, wherein the glossiness G_s(75°) of 75° mirror surface of the surface falls into the range of 75 to 90 in both of process direction and thrust direction.例文帳に追加

ゴム材料を含有する基材１００と、該基材上に形成される表面層１１０とを有し、表面の７５度鏡面光沢度Ｇｓ（７５°）が、プロセス方向及びスラスト方向ともに７５〜９０の範囲であるベルト状導電性部材である。 - 特許庁

In another surface flaw inspection method of the metal rod material, the longitudinal direction position and a peripheral direction position of the surface flaws 14 detected by the leakage flux flaw detection test are displayed by the lamp, in the process for inspecting the surface flaws 14.例文帳に追加

本発明にかかる金属製棒材の他の表面疵検査方法では、表面疵１４の検査をする工程において、漏洩磁束探傷試験によって検知された表面疵１４の長手方向位置及び周方向位置がランプで表示される。 - 特許庁

To eliminate a conventional washing process or post-coating by simply forming a surface sheet as a completed product having an adhesive sheet melted by heating bonded and laminated to the rear surface thereof and having a coating layer to which paint is strongly bonded to the surface thereof.例文帳に追加

裏面に加熱により溶融する接着シートを接着積層し、表面に塗料が強固に付着した塗装層を形成した完成品としての表面シートを簡単に形成することで、従来のように洗浄工程や後塗装を必要としない。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate comprises subjecting the surface of the liquid crystal polyester film to surface roughening with an etchant composed of an alkali, an aliphatic amino alcohol derivative having a hydroxyl group in the molecule and water, then forming the conductive metallic film by a plating process on the roughened surface then heat treating the same.例文帳に追加

液晶ポリエステルフィルムの表面を、アルカリと分子中に水酸基を有する脂肪族アミノアルコール誘導体と水とで成るエッチング液で粗面化し、次いで、前記粗面上にメッキ法によって導電性金属膜を形成した後、それを加熱処理する。 - 特許庁

The quartz tube 10 inner surface treatment method comprises an inner surface treatment process S10 of treating the inner surface 10a of the quartz tube 10 with chlorine, specifically, of heating the quartz tube 10 to ≥1,800°C while supplying a chlorine-containing gas into the quartz tube 10.例文帳に追加

石英管１０の内面処理方法は、塩素を含むガスを石英管１０内に供給しながら石英管１０を１８００℃以上に加熱して、塩素によって石英管１０の内面１０ａを処理する内面処理工程Ｓ１０を備える。 - 特許庁

In the molding process, the mold 41, which has the uneven surface 45 complementary to the uneven shape sterically modelled after the wood surface, is used, and the film 13a is inserted into the mold 41 so that the wood grain pattern may correspond to the uneven surface 45.例文帳に追加

成形工程では、木材の表面を立体的に象った凹凸形状と相補的な凹凸面４５を有する金型４１が用いられ、かつ前記木目柄を凹凸面４５に対応させるようにして、フィルム１３ａを金型４１内にインサートする。 - 特許庁

Thus, the jetting direction of the SCCO2 can be freely adjusted corresponding to the process condition of the surface treatment of the substrate W, the SCCO 2 is prevented from staying on the surface of the substrate W, and the uniformity of the surface treatment is improved.例文帳に追加

このため、基板Ｗの表面処理のプロセス条件に応じてＳＣＣＯ2の噴出方向を自在に調整することができ、基板Ｗの表面上におけるＳＣＣＯ2の滞留を防止して表面処理の均一性を向上させることができる。 - 特許庁

In the flat surface optical circuit having a plurality of optical path changing mirrors within a substrate, a mirror surface direction (β) is so set that the prescribed mirror angle (δ) can be obtained based on the positional relations (D and θ) on the vapor deposition source and the substrate surface in a diagonal vapor deposition process.例文帳に追加

基板内に複数の光路変換ミラーを有する平面光回路において、斜め蒸着工程における蒸着源と基板面上との位置関係（Ｄ，θ）をもとに、所定のミラー角度（δ）を得られるようにミラー面方向（β）を設定する。 - 特許庁

To prevent peeling of a rubber layer stuck to the periphery surface of a rigid core roll in an end surface part and the rubber layer in the vicinity from the periphery surface of the rigid core roll, to make the process simple and to manufacture at low cost by eliminating any factor to be a cause of instability in the manufacturing.例文帳に追加

剛体芯ロールの周面に固着形成したゴム層の端面部およびその近傍のゴム層が剛体芯ロールの周面から剥離するのを防止するとともに、単純な工程にして、また、製法不安定要因を排除して安価に製造する。 - 特許庁

To provide a surface treated metallic sheet such as a galvanized steel sheet which has excellent press formability and corrosion resistance and dispenses with special waste water treatment in a coating process of a surface treatment agent and in use of the obtained surface treated metallic sheet particularly the galvanized steel sheet.例文帳に追加

表面処理剤の被覆工程および得られた表面処理金属板、特に亜鉛系めっき鋼板の使用の際に特別な排水処理が不要で、プレス成形性と耐食性に優れた亜鉛系めっき鋼板をはじめとする各種の金属板の提供。 - 特許庁

To provide a rubber roll for fixing preventing the peeling of the end surface part of the rubber layer which is formed sticking to the periphery surface of a rigid core roll and the rubber layer in the vicinity from the periphery surface of the rigid core roll and also eliminating factors for instability in manufacture by making the process simple.例文帳に追加

剛体芯ロールの周面に固着形成したゴム層の端面部およびその近傍のゴム層が剛体芯ロールの周面から剥離するのを防止するとともに、単純な工程にして、また、製法不安定要因を排除して安価に製造する。 - 特許庁

To provide technique capable of suppressing, in the process of grinding the reverse surface of a semiconductor wafer, intermingling of grinding dusts occurring while grinding the reverse surface into the principal surface of the semiconductor wafer by improving adhesion with a protective tape in an outer peripheral part of the semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェハの裏面研削工程において、半導体ウェハの外周部での保護テープとの密着性を向上して、裏面研削時に発生する研削くずが半導体ウェハの主面に混入することを抑制できる技術を提供する。 - 特許庁

To suppress exposure of a top to process gas, before being excited by plasma by making uniform the blow-off of the gas to a substrate surface and suppressing the load being applied to the top.例文帳に追加

基板面へのガスの吹き出しを均一化し、天板にかかる負荷を抑制し、プラズマに励起される前のプロセスガスに天板が曝されるのを抑制する。 - 特許庁

A wafer WF rotates by supporting stage 11, and pure water DIW is supplied to the surface of the wafer WF from a nozzle or the like not shown in the figure ((a) washing process).例文帳に追加

支持台１１によりウェハＷＦが回転し、図示しないノズル等から純水ＤＩＷがウェハＷＦ表面に供給される（（ａ）水洗工程）。 - 特許庁

In process cartridges P and E, projections 13a and 13b to open and close laser shutters have their positions are varied in the longitudinal direction crossing to be orthogonal with the paper surface, as shown in the diagram.例文帳に追加

プロセスカートリッジＰ，Ｅのレーザーシャッターを開閉するための突起１３ａ，１３ｂの図の紙面に直交する長手方向の位置を変える。 - 特許庁

To provide a production process of resin foam, which allows easy production of a resin foam with an excellent surface appearance and a high foaming rate.例文帳に追加

表面外観に優れ、且つ高発泡倍率を有する樹脂発泡体を容易に製造することができる樹脂発泡体の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a re-taping process, an adhesive sheet S is adhered to the backside of a wafer W in which a background sheet B is adhered to the surface, and the background sheet is peeled.例文帳に追加

表面にバックグラインドシートＢが貼着されたウェーハＷの裏面に粘着シートＳを貼着させ、バックグラインドシートを剥離するテープの貼り替え方法である。 - 特許庁