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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > surface processに関連した英語例文

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surface processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 9599件



例文

Consequently, an impurity-injection layer 26 is formed as the top surface of the semiconductor substrate 10 in the element formation region D1 (first impurity injecting process).例文帳に追加

これにより、素子形成領域D1における半導体基板10の表層に不純物注入層26を形成する(第1の不純物注入工程)。 - 特許庁

The method for producing the antistatic resin molded article includes a process for coating the surface of a resin molded article with the antistatic agent composition for the coating.例文帳に追加

帯電防止性樹脂成形品の製造方法は、上記塗布用帯電防止剤組成物を樹脂成形品の表面に塗布する工程を含む。 - 特許庁

This rivet comprises an outer circumferential surface 35 on which a resin film 40 including thermosetting resin that foams to harden as a heating process is added is formed.例文帳に追加

加熱処理を施すことで発泡して硬化する熱硬化型樹脂を含んでいる樹脂皮膜40が形成された外周表面35を有する。 - 特許庁

On a film sheet 11 on the top surface of the noncontact memory card 1, an IC chip 25 and a chip capacitor 26 which store and process information are mounted.例文帳に追加

非接触型メモリカード1の表面のフィルムシート11上には、情報の記憶および処理を行うICチップ25、チップコンデンサ26が実装されている。 - 特許庁

例文

Since the front surface of the core 11 is not coated with a clad layer, there is no need for using a film process in the formation of the clad 12 and, consequently, the production is made easy.例文帳に追加

またコア11の上面はクラッド層で覆われていないために、クラッド12の形成に膜プロセスを用いる必要がないため、製造が容易になる。 - 特許庁


例文

After the solidified layer breaking process, the resist pattern 42 and the protective resist film 45 are removed from the surface of the substrate W using a resist separation agent.例文帳に追加

この硬化層破壊工程の後に、レジストパターン42および保護レジスト膜45が、レジスト剥離液によって基板W表面から除去される。 - 特許庁

The first and second ridges 127 and 137 are formed by dry etching process and the side surface thereof is not covered with a current block layer.例文帳に追加

第一リッジ部127及び第二リッジ部137はドライエッチングにより形成されたものであり、その側面は電流ブロック層により覆われていない。 - 特許庁

To provide a tubular object of high durability and low production cost and its manufacturing process, by lowering a coefficient of dynamic friction especially on the exterior surface of the tubular object.例文帳に追加

管状物体のとくに外面の動摩擦係数を下げ、耐久性が高く、製造コストの安い管状物体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the process (a), a deposition layer 6 to become the dielectric layer is formed on the surface of the substrate 1 by using a powder spray coating method or a vapor deposition method.例文帳に追加

工程(a)では、粉末噴射コーティング法又は蒸着法を用いて、基材1の表面上に、誘電体層となる成膜層6を形成する。 - 特許庁

例文

To provide a manufacturing method for buffer layer of photoelectric conversion element, capable of effectively removing adhering colloid-like solid on a deposition film surface by chemical bath deposition process.例文帳に追加

光電変換素子のバッファ層の製造において、化学浴析出法による析出膜表面に付着コロイド状固形物を効果的に除去する。 - 特許庁

例文

To manufacture a thin-film semiconductor device, first a film formation process is made, and a non-single crystal semiconductor thin film 2 is formed on the surface of an insulating board 1.例文帳に追加

薄膜半導体装置を製造するため、まず成膜工程を行い絶縁基板0の表面に非単結晶の半導体薄膜4を形成する。 - 特許庁

Even when a stamping process which is another method of forming the optical element is used, the lens and diffuser can be formed on the surface of the element.例文帳に追加

光学エレメントを形成する別の方法であるスタンピング工程を用いても、半導体発光素子の面にフレネルレンズやホログラフィックディフューザを形成できる。 - 特許庁

To provide a light emitting diode array which can equalize an SOG application surface in an SOG application process in light emitting diode array manufacture, and its manufacturing method.例文帳に追加

発光ダイオードアレイ製造のSOG塗布工程においてSOG塗布面の均一化が図れる発光ダイオードアレイ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fibrous single crystal having smooth surface form, excellent uniformity and a diameter of <100 μm and provide its production process.例文帳に追加

平滑な表面形状を有し、均質性に優れた100μm未満の結晶径を有する繊維状単結晶体及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The carrier comprises core material particles having magnetism, and a covering layer on the surface of each core material particle, and the covering layer is formed by a vapor deposition process.例文帳に追加

磁性を有する芯材粒子と、該芯材粒子表面に被覆層とを有してなり、前記被覆層が蒸着法により形成されたキャリアである。 - 特許庁

To provide a wafer supporting device which can process or treat the entire surface of a wafer and also can stably rotatively support the wafer.例文帳に追加

ウェーハの全面を加工または処理可能とするとともに、ウェーハを安定して回転可能に支持することができるウェーハ支持装置を提供する。 - 特許庁

Thus, in the subsequent charging process, a uniform thin film of an ionic conductive medium can be formed on the surface of the charging member 11.例文帳に追加

これによって、その後の帯電処理においては、イオン性導電性媒体の均一な薄膜を帯電部材11の表面に形成させることが可能となる。 - 特許庁

At least one of the pair of rollers is provided with a plurality of convex parts for process which are arranged along the rotation axle direction of the roll on the outer peripheral surface.例文帳に追加

前記一対のロールのうちの少なくとも一方のロールは、該ロールの回転軸方向に並ぶ複数の加工用凸部を前記外周面に有する。 - 特許庁

To provide a green sand mold-coating agent composition capable of reducing baking, largely shortening shot blasting process time, and increasing surface stability of the mold.例文帳に追加

焼付を減少させ、ショットブラスト処理の時間を大幅に短縮させ、鋳型の表面安定性を高められる生型鋳型用塗布剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic process cartridge hardly causing plastic deformation on the surface of a developing roller, irrespective of a long-term neglect under a high temperature/humidity condition.例文帳に追加

高温高湿条件下に長期間放置した場合にも、現像ローラの表面に塑性変形が生じにくい電子写真用プロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁

After the retaining surface 17 is carburized, the bearing support body 12 is divided into two by a natural split process, thereby forming a bearing stand 14 and a journal cap 16.例文帳に追加

次に保持面17を浸炭処理した後、軸受支持体12を自然割り加工で2分割し、軸受台14とジャーナルキャップ16とを形成する。 - 特許庁

The protruding portion 71b is pulled out from the fitting concave portion 76 by action of taking out the process cartridge 6 to be in sliding contact with the slide contact surface portion 77.例文帳に追加

プロセスカートリッジ6の取り出し動作によって、突出部71bが嵌合用凹部76から抜け出して摺接面部77に摺接する状態となる。 - 特許庁

Firstly, the surface of a sintered compact body 37 is polished by a wrapping process until warpage or the like on the substrate is eliminated to secure the flatness of the substrate.例文帳に追加

まず、ラッピング加工によって、基板に反り等が無くなるまで焼結体本体37の表面を研磨して、基板の平坦性を確保した。 - 特許庁

To provide: a cleaning device for sufficiently removing discharge products adhering on the surface of an image carrier; a process cartridge; and an image forming apparatus.例文帳に追加

像担持体の表面に付着した放電生成物を充分に除去することができる、クリーニング装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To prevent a discarded tape from adhering to a slide surface of a chute in a process where the discarded tape discharged and cut from a tape feeder slides downward in the chute.例文帳に追加

テープフィーダから排出されて切断された廃棄テープがシュート部内を滑落する過程で、該廃棄テープがシュート部の滑落面に付着することを防止する。 - 特許庁

In the first side, second side swell removing process (ST15, ST17), swells occurring in the surface layer of the wafer cured by the UV-curing resin are removed.例文帳に追加

一の面、二の面うねり除去工程(ST15、ST17)においては、紫外線硬化樹脂で硬化させたウェーハの表層に生じたうねりを除去する。 - 特許庁

To provide a technology capable of more stably smoothing a diamond film synthesized on the surface of a substrate by a CVD process by using laser beams than heretofore.例文帳に追加

CVD法で基板表面に合成したダイヤモンド膜に対して、レーザの使用により従来に比較して安定に平滑化加工する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a shot blasting device providing improved work efficiency by shortening a time for measuring a process state of a steel friction joint surface.例文帳に追加

鋼材の摩擦接合面の処理状態を測定する時間を短縮して、作業性を向上させることができるショットブラスト処理装置を提供する。 - 特許庁

In the subsequent quality changing/flattening process, the chemical characteristics of the plurality of pillar like parts 1c are changed and the part 1a of the surface is flattened.例文帳に追加

続く変質平坦化工程において、複数の柱状部分1cの化学的特性が変質し、かつ、前記表面の一部1aが平坦化される。 - 特許庁

In one embodiment of the present invention, the coating 26 is made of a metal powder material 28 applied onto an outer surface of the clad tube 22 by executing thermal spray process.例文帳に追加

一実施形態では、コーティング(26)は、熱溶射処理を施してクラッド管(22)の外側表面に当てがわれる金属パウダー材料(28)で作られる。 - 特許庁

To make the surface of a magnetostrictive material formed of an alloy essentially consisting of a rare earth element(s) and iron and obtained by a powder metallurgy process hard to be oxidized over a long period.例文帳に追加

希土類元素および鉄を主成分とする合金からなり、粉末冶金法で得られた磁歪材の表面を、長期に渡って酸化され難くする。 - 特許庁

When an image forming process is not carried out, the surface of a charging member 11 is discharged and exposed, and physically or chemically modified to improve wettability.例文帳に追加

画像形成処理を行っていないときに、帯電部材11の表面を放電曝露させ、物理的乃至化学的に改質してぬれ性を促進する。 - 特許庁

To provide a device and method of manufacturing a fiber reinforced plastics (FRP) tank for restraining generation of bubble on an FRP tank surface in a thermosetting process.例文帳に追加

熱硬化工程においてFRPタンク表面に気泡が発生することを抑制するFRPタンクの製造装置及び製造方法を提供する - 特許庁

To enable obtaining uniform surface pressure, keeping desired power generation performance and also miniaturizing and lightening, in a simple structure and process.例文帳に追加

簡単な構成および工程で、均一な面圧を得ることができ、所望の発電性能を維持するとともに、小型化および軽量化を図ることを可能にする。 - 特許庁

To provide a surface treatment method for preventing polarization and electrification on a pyroelectric material, which occur in a plasma treatment process, and for making the material antistatic.例文帳に追加

プラズマ処理工程における焦電性材料への分極帯電を防ぎ、分極帯電量が低く、帯電しにくい表面処理方法を提供すること。 - 特許庁

In addition, as the step for attaching the surface sheet and the step for applying the adhesive can be omitted, the production process can be simplified and the production cost can be lowered.例文帳に追加

また、表面シートを取り付ける工程、および接着剤を塗布する工程が不要であるので、製造工程を簡略化でき、低コストで製造できる。 - 特許庁

To provide an end joint veneer wherein a bonded surface of a scarfed slope is not peeled off in hot pressing again with a hot press in a post process while its manufacturing method is provided.例文帳に追加

後工程でのホットプレスによる再度の熱圧時にスカーフ斜面の接合面が剥離しない縦はぎベニヤ単板およびその製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a connection device and manufacturing method of connection structure capable of removing an organic film and moving to a mounting process of an electronic component right after exposing a clean electrode surface with a simple configuration.例文帳に追加

簡易な構成で有機膜の除去を行い、清浄な電極表面を露出させた後、直ちに電子部品の実装工程に移る。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a fluorescent lamp, by which even curved surface and uniform thickness distribution can be achieved at the seated ends to improve strength.例文帳に追加

閉塞端面の肉厚において、一層均一な曲面と均一な肉厚分布を得て、強度を向上することのできる蛍光ランプの製造方法を得る。 - 特許庁

In a radiation exposure process, the radiation is applied to a side surface of the common lip part 41 to form a cross-link hardened layer 44 through the cross-linking reaction.例文帳に追加

放射線照射工程において、共通リップ部41側面に放射線42を照射し、架橋反応させ架橋硬化層44を形成する。 - 特許庁

To efficiently manufacture a projected part having a desired multistage shape with a high precision, on the surface of a glass base material or of a thin film by a simple process.例文帳に追加

簡便な方法で効率良くガラス基材表面や薄膜表面に、所望する多段形状からなる凸部を高精度に作製すること。 - 特許庁

To provide a degreasing agent for inhibiting static electricity, which occurs while cleaning the surface of an automobile in a repairing process of the automobile.例文帳に追加

自動車の補修工程において、自動車表面を清浄した場合に発生する静電気を抑えることができる自動車補修用脱脂剤を提供する。 - 特許庁

To provide a novel reflection film having excellent light reflection properties, wherein resin waste deposition in a manufacturing process and production of spitting on the surface of the film will not occur.例文帳に追加

優れた光反射性を有し、製造過程でメヤニが発生したり、フィルム表面にブツが生じることのない、新たな反射フィルムを提供する。 - 特許庁

In figure, a mixing tool taking on the impaction process is shown, and then the increase of the adhesion of the surface additive and the optimization of the cohesion between the particles are realized.例文帳に追加

図は、衝撃工程を担う混合ツールであり、表面添加剤の付着性の増加を可能にし、粒子間の結合性の最適化を実現する。 - 特許庁

To provide a process for polishing a glass substrate, capable of polishing a glass substrate having a large waviness formed by mechanical polishing, to have a surface excellent in flatness.例文帳に追加

機械研磨で生じた大きなうねりが存在するガラス基板を平坦度に優れた表面に研磨するガラス基板の研磨方法の提供。 - 特許庁

A resistor excellent in solderability when mounting it can be provided by the cleansing of the electrode cap surface and an oxidation preventing film forming process.例文帳に追加

この電極キャップ表面の清浄化と酸化防止膜の形成処理により、実装時のはんだ付き性に優れる抵抗器を提供することができる。 - 特許庁

The bias whose polarity is the same as that of toner which remains after a transfer process and which is carried on the surface of the drum 1 and passes by the magnet blade 7 is applied to the magnet blade 7.例文帳に追加

マグネットブレード7には、感光ドラム1表面に担持されたマグネットブレード7近傍を通過する転写残トナーと同じ極性のバイアスを印加する。 - 特許庁

An optical waveguide 60 where a part or all of a clad 55 are conductors 54 is formed on the rear end surface of a slider by a thin-film manufacturing process.例文帳に追加

スライダの後端面に薄膜製造プロセスにより、クラッド55の一部あるいは全てを導電体54とした光導波路60を形成する。 - 特許庁

The method further includes a step of exposing the activated oxidized surface layer to a second process gas containing non-plasma-excited hydrogen gas.例文帳に追加

当該方法は、非プラズマ励起された水素気体を含む第2処理気体へ前記の活性化した酸化表面層を曝露する工程をさらに有する。 - 特許庁

例文

To provide a modular jack capable of assembling and manufacturing without including a process to slide the adhesion surface relatively and allowing easy assembly automatically by machines.例文帳に追加

接着面を相対的にスライドさせる工程を含まずに組立製造が可能であって、機械による自動組立が容易なモジュラジャックを提供する。 - 特許庁




  
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