「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(63ページ目) - Weblio英語例文検索

Here, a continuous printing property is reinforced by applying processes of heating and curing the surface of the silicone rubber layer and cooling the same after the transfer process.例文帳に追加

ここで、転写工程後、シリコーンゴム層の表面を加熱乾燥する工程と冷却する工程に付することにより、連続印刷性が増強される。 - 特許庁

To provide an optical element comprising a surface emission semiconductor laser and a photodetector element which can be machined with high precision, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

高い精度で加工することが可能な、面発光型半導体レーザと光検出素子とを含む光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To eliminate a process of inserting resin into a space between a wiring board and the surface of a semiconductor chip, etc.例文帳に追加

配線基板や他の半導体チップなどの表面との間への樹脂封入を省略できる半導体装置および半導体チップを提供すること。 - 特許庁

To cope with the digitization of a printing process and make the reuse of a material possible by a method wherein a coating layer including a titanium oxide photocatalyst is formed directly or through an intermediate layer on the surface of a base material.例文帳に追加

印刷工程のデジタル化に対応しつつ再利用が可能であるような印刷用版材及びその再生方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrical circuit substrate which comes to form a conducting area easily without changing the front surface of the electrical circuit substrate, and to provide its process for fabrication.例文帳に追加

電気回路基板の表面を変形させることなく、容易に導通領域を形成してなる電気回路基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

By heat fusing the surface of the electron emission metal 2 locally, a drill-shape protrusion 8 is formed in the process of re-solidification of the heat-fused metal.例文帳に追加

電子放出金属２の表面を局部的に熱溶融させ、熱溶融した金属の再固形化過程により錐状突起８を形成する。 - 特許庁

To provide a method for producing organically modified aerogel using a commonly usable surface modification process, without exchanging water for an organic solvent.例文帳に追加

共通に使用できる表面修飾方法を用いて、水と有機溶媒を交換することなく有機修飾されたゲルを製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a recessed/projected pattern detecting element for making a front surface flat without increasing a production process and without limiting the material of a protection film.例文帳に追加

製造工程の増加や保護膜の材料が限定されることを伴うことなく、表面を平坦化することができる凹凸パターン検出素子を提供する。 - 特許庁

In the working process, the surface 5 of the 1st substrate 1 supported by the laminated body 4 is worked and processed to form a semi-finish display panel.例文帳に追加

加工工程では、積層体４によって支持された第一基板１の表面５を加工及び処理して表示パネルの半完成品を形成する。 - 特許庁

To improve the problem of a defect such as scratch onto a surface layer and to enhance yields and mass-productivity, in a polishing process of manufacture of a recording medium.例文帳に追加

記録媒体製造の研磨加工において、表面層に対するスクラッチ等の欠陥発生の問題を改善し、歩留りの向上、量産化を阻害はかる。 - 特許庁

The second cutter blade 3 is used for a thinly slicing process, that is one where a lamina sample of a target thickness is cut off from the surface of the sample block 11.例文帳に追加

第二のカッタブレード３は、薄切り工程、即ち、試料ブロック１１の表面から所定の厚さの薄片試料を採取する際に使用される。 - 特許庁

In the first process, the gold-foil is made to be fine pieces and peeled by injecting water-soluble powdery materials and high pressure water on the gold-foil attached surface of the gold-foil attached article 5.例文帳に追加

第１工程では、金箔貼付品５の金箔貼付面に水溶性粉体と高圧水とを噴射して金箔を微細片にして剥離する。 - 特許庁

To provide a balcony unit and its installation method not required to apply an angle adjustment between a handrail section and a floor surface section and a waterproof process or the like at a construction site.例文帳に追加

手摺部と床面部との角度調整や防水処理等を建設現場で施す必要のないバルコニーユニットとその設置方法を提供する。 - 特許庁

In the method, the laminated body having a smooth surface which is not easily peeled with little deformation such as warp, deflection and distortion is obtained by the molding process.例文帳に追加

この方法では、成形工程までで、剥離しにくく、反りや撓み、歪みなどの変形が少なく、平滑な表面を備える積層体を得ることができる。 - 特許庁

The height position of the surface of the tablet is normalized to be flat (horizontal) so as to determine the abnormality/normality by a simple threshold process.例文帳に追加

平坦化処理部３２により錠剤の表面の高さ位置が平坦（水平）に正規化されるので、簡単な閾値処理で異常の有無を判定できる。 - 特許庁

To provide a technique capable of improving surface planarity of the material members buried in a plurality of trenches without bringing increase of manufacturing process time.例文帳に追加

製造工程時間の増加を招くことなく、複数の凹部に埋め込まれた部材表面の平坦性を向上することのできる技術を提供する。 - 特許庁

Then, the piezoelectric layer 71 is formed by injecting the aerosol onto a surface of the vibration plate 70 to deposit a particle of a piezoelectric material (piezoelectric layer forming process).例文帳に追加

次に、振動板７０の表面に、エアロゾルを噴きつけて圧電材料の粒子を堆積させて圧電層７１を形成する（圧電層形成工程）。 - 特許庁

Different from the conventional oxidation process of an anode, a newly produced oxide is rapidly decomposed to expose the surface of the metal in an electrolytic solution once again.例文帳に追加

しかし、従来の陽極酸化処理とは異なり、新しく生成された酸化物は、急速に分解し、もう一度金属表面を電解液に露出する。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate manufacturing method which includes a dry etching process, through which a semiconductor wafer is etched at the same rate through its surface.例文帳に追加

半導体よりなるウェハの表面をドライエッチングする工程を備える半導体基板の製造方法において、ウェハ面内のエッチングレートを均一化する。 - 特許庁

An etching resistant mask TiN film 42a for upper electrode formation is formed on the upper surface of the Ir layer 40a and a first dry etching process is carried out.例文帳に追加

このＩｒ層４０ａの上面に上部電極形成のための耐エッチングマスクＴｉＮ膜４２ａを形成して、第１のドライエッチング工程を実施する。 - 特許庁

To appropriately control heat quantity applied to a recording material with a toner image transferred thereto in a fixing process by accurately measuring surface temperature of the recording material.例文帳に追加

トナー像が転写された記録材の表面温度を正確に計測し、定着過程でその記録材へ加えられる熱量を適切に制御する。 - 特許庁

First, a first trench 7a is formed at the upper surface side of a silicon substrate 1 with a first insulating film 3 as a mask member by using, for example, a Bosch process.例文帳に追加

まず、第１の絶縁膜３をマスク部材としてシリコン基板１の上面側に第１のトレンチ７ａを例えばボッシュプロセスを用いて形成する。 - 特許庁

To provide foam molding process and die capable of inhibiting generation of an underfill section in a functional surface and a foam molded article.例文帳に追加

欠肉部が機能面に発生するのを抑制可能な発泡成形方法、発泡成形金型、および発泡成形品を提供することを課題とする。 - 特許庁

To prevent a surface of a semiconductor wafer from occurrence of a water mark after the semiconductor wafer is cleaned and dried by using a single wafer process cleaning device.例文帳に追加

枚葉式の洗浄装置を用いて半導体ウェハを洗浄し、乾燥させた後において、半導体ウェハの表面におけるウォーターマークの発生を防ぐ。 - 特許庁

Isotropic etching (first process) is performed from the surface of a sample (silicon wafer) 20 provided with masks 21 and the rough shape of a tip part is prepared (b).例文帳に追加

マスク２１を設けた試料（シリコンウェハ）２０の表面から等方性エッチング（第１工程）を行って、先端部のある程度の形状を作成する（ｂ）。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for ion plating whereby the evaporation surface of a vapor deposition material is almost uniformly decreased in a film formation process.例文帳に追加

蒸着材料の蒸発面を成膜過程において略均一に減少させることができるイオンプレーティング方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

A method comprises a process of forming a hard mask layer on a planarized surface including an exposed top of local wiring prior to depositing an oxide dielectric layer.例文帳に追加

酸化物誘電体層を堆積する前に、ローカル配線の最上部が露出した平坦面に、ハードマスク層を形成する工程を含んでいる。 - 特許庁

Next, by electrophoresis using the cathode substrate 20 as an electrode, the YSZ particles 8 are deposited on the surface of the cathode substrate 20 (second lamination process).例文帳に追加

次いで、カソード基材２０を電極として使用する電気泳動によって、カソード基材２０の表面にＹＳＺ粒子８を堆積させる（第２の積層工程）。 - 特許庁

To prevent a failure in embedding due to an altered layer formed on the surface of a low dielectric constant film and a failure in resolution of lithography during a multilayer wiring process.例文帳に追加

多層配線工程において、低誘電率膜の表面に形成される変質層に起因した埋め込み不良や、リソグラフィの解像不良を抑制する。 - 特許庁

The first surface treatment is preferably a process to selectively remove at least either copper compounds or silicon compounds from the copper film.例文帳に追加

第１の表面処理は、銅化合物及びシリコン化合物の少なくとも一方を銅膜に対して選択的に除去する処理であることが好ましい。 - 特許庁

Since the insulating film 4 is selectively deposited only on the surface of the lower electrode 3, manufacturing process can be simplified and the accuracy of working can be improved.例文帳に追加

容量絶縁膜４は下部電極３表面にのみ選択的に堆積されるので、工程の簡略化、加工精度の向上等が図れる。 - 特許庁

A glass master disk having information recording grooves and treated with a conductive film is subjected to an electroforming process (primary plating 11) to specified thickness on all over the surface (Figure 5 (A)).例文帳に追加

情報記録溝を有する導電皮膜処理済みガラス原盤１７に、全面にわたり所定の厚さだけ電鋳処理（１次メッキ１１）を施す（図５（Ａ））。 - 特許庁

To enough remove a natural oxidation film or organic matters, even in a process of treating the surface of a silicon wafer and hydrogen-baking a semiconductor wafer at a lowered temperature.例文帳に追加

シリコンウェーハの表面処理方法及び半導体ウェーハにおいて、水素ベークの低温化を行っても十分に自然酸化膜や有機物を除去すること。 - 特許庁

The metal member can be obtained through an oxygen introduction process that introduces oxygen active species into the surface of the metallic material not coated by the stable oxide.例文帳に追加

この金属系部材は、安定酸化物で被覆されていない金属材の表面へ酸素活性種を導入する酸素導入工程を経て得られる。 - 特許庁

The ultraviolet curing adhesive layer 16 of the surface protective sheet 12 is then exposed to UV rays to cure (curing process).例文帳に追加

そして、表面保護シート１２の紫外線硬化性粘着剤層１６に紫外線を照射し、紫外線硬化型粘着剤層１６を硬化させる（硬化工程）。 - 特許庁

In a hardening process, the degree of hardening of only an extreme surface of the first layer is made to be dropped by performing irradiation with ultraviolet rays in an atmosphere in which oxygen exists.例文帳に追加

硬化工程においては、酸素が存在する雰囲気中で紫外線を照射して、１層目の極めて表面のみの硬化度を落とすようにした。 - 特許庁

INK COMPOSITION, PROCESS FOR ITS PRODUCTION AND METHOD FOR ADJUSTING CONTENT OF NONIONIC ACTIVE GROUP ON SURFACE OF SELF-DISPERSIVE TYPE PIGMENT IN INK COMPOSITION例文帳に追加

インク組成物とその製造方法，およびインク組成物内の自己分散型着色剤の表面で非イオン性作用基の含量を調節する方法 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a piezoelectric element capable of highly precisely forming a piezoelectric element having a flat surface and recessed back face in a simple process.例文帳に追加

平坦な表面と凸状の裏面とを有する圧電素子を簡単なプロセスで高精度に形成することが可能な圧電素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a DRAM cell capacitor and a manufacturing method thereof, wherein a storage electrode forming process is simplified, and a storage electrode is enlarged in surface area.例文帳に追加

本発明は、ストレージ電極形成工程を単純化させ、ストレージ電極の表面積を増加させるＤＲＡＭセルキャパシタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Before forming a conductive film after forming element electrodes 2, 3, a surface renewal process for renewing the activation promoting layer 4 is applied.例文帳に追加

素子電極２，３の形成後導電性薄膜４形成前に、上記活性化促進層４の表面を更新する表面更新処理を施す。 - 特許庁

A manufacturing method of jointing material includes a process of applying a high molecular solution containing silicon to the surface of solder powder containing tin and zinc.例文帳に追加

錫及び亜鉛を含むはんだ粉末の表面に、ケイ素含有高分子溶液を塗布する工程を有することを特徴とする接合材の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for processing a group III nitride semiconductor that can process a group III nitride semiconductor with high precision and at high speed without damaging its surface.例文帳に追加

表面にダメージを与えることなく、III族窒化物半導体を高精度にかつ高速に加工できるIII族窒化物半導体の加工方法を提供する。 - 特許庁

A drug time-releasable hydrogel material whose drug releasing speed can be controlled is manufactured by a process to modify the surface of the hydrogel material.例文帳に追加

ヒドロゲル材料に表面改質を施す工程により薬物放出速度を制御し得る薬物徐放可能なヒドロゲル材料を製造する。 - 特許庁

To significantly reduce or prevent surface distortion in an ophthalmic lens resulting from the extraction process of silicone hydrogel ophthalmic lens products.例文帳に追加

シリコンハイドロゲル眼科用レンズ製品の抽出工程の結果起こる眼科用レンズの表面の歪みを有意に減少させる又は防ぐことを目的とする。 - 特許庁

On the other hand, either a catalyst CVD method or a hydrogen plasma processing method is preferably employed in the process for irradiating hydrogen against the surface of the silicon substrate.例文帳に追加

一方、シリコン基板の表面に水素を照射する工程においては、触媒ＣＶＤ法または水素プラズマ処理法を用いることが好ましい。 - 特許庁