「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(65ページ目) - Weblio英語例文検索

By dry-etching the polished surface before the electrode forming process, a damaged layer having deteriorated crystallinity can be removed and good ohmic contact can be obtained.例文帳に追加

電極形成工程の前に被研磨面をドライエッチングすれば、結晶性が劣化したダメージ層が除去でき、良好なオーミック接触が得られる。 - 特許庁

Therefore, a manufacturing process of plating is used, first, the ceramic substrate 1 is washed, and a surface of the ceramic substrate 1 is subjected to roughening treatment by micro etching.例文帳に追加

従って、めっきの製造工程を利用し、先ず、セラミック基板１を洗浄し、マイクロエッチングにより、セラミック基板１の表面に粗面化処理を行う。 - 特許庁

To provide a surface mount coil component, and its manufacturing process, in which variations in the coil characteristics can be suppressed between products while reducing the size.例文帳に追加

小型化を達成すると共に製品毎のコイル特性のバラツキを抑制可能な面実装型コイル部品及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the heat-resistant coating film includes a process of irradiating a coating film made of the photosensitive resin composition with active rays all over the surface, and then heating the film at 80 to 350°C.例文帳に追加

前記の感光性樹脂組成物からなる塗膜に、活性光線を全面に照射し、８０℃〜３５０℃で加熱する耐熱性塗膜の製造方法。 - 特許庁

To provide a detecting method for a crystalline defect with high measurement sensitivity in which even a microdefect such as a small BMD formed nearby a wafer surface after a low-temperature process as an advanced device process can be measured.例文帳に追加

先端デバイスプロセスである低温プロセス後のウェーハ表面近傍に形成される小さなＢＭＤなど微小な欠陥であっても測定することができる測定感度の高い結晶欠陥の検出方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing an inkjet recording head in which the surface of a nozzle plate on the side being pasted to an ink channel member can be protected against scratch, smudge and runover of bonding agent during each process work.例文帳に追加

各工程作業時にノズルプレートのインク流路部材に貼り付ける側の面の表面の傷付き、汚れ、接着の際の接着剤のはみ出しを防止することのできるインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The mechanical strength of a metal-sheathed superconducting wire after a heat treatment process is enhanced, as compared with that before the heat treatment process by winding a heat resistant metal on the surface of the metal-sheathed superconducting wire covered with a metal.例文帳に追加

金属で被覆された金属シース超電導線材の表面に耐熱性金属を巻きつけた後、熱処理を施すことにより、熱処理工程前に比べて熱処理工程後のほうが該超電導線材の機械強度が高くなる。 - 特許庁

To provide a process cartridge which is constituted so that a distance between a sealing member sticking surface and a developing roller can be narrowed without making a process unit large in size and without reducing a toner capacity, and to provide an image forming device using the cartridge.例文帳に追加

プロセスユニットの大型化やトナー容量の低下を招かずにシール部材の貼り付け面と現像ローラとの間隔を狭くすることが可能なように構成されたプロセスカートリッジ及び該カートリッジを用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for arranging bonding pads that uses an automatic arithmetic process to achieve a process for combining bonding pads that can be combined on the base surface of a virtual plane into one bonding pad, and a computer program therefor.例文帳に追加

仮想平面上の基板面において合成可能なボンディングパッドを結合して１つのボンディングパッドを合成する処理を自動演算処理で実現するボンディングパッド配置方法およびこのためのコンピュータプログラムを実現する。 - 特許庁

The aluminum extrusion tube 1 has the tube inside roundness of 0.2 mm or less and the wall thickness of 0.65 mm or more and, after the extrusion, the outer peripheral surface is processed by a cutting process without any drawing process to be formed into the electrophotographic photoreceptor support.例文帳に追加

アルミニウム押出管１は、管の内側の真円度が０．２ｍｍ以下、肉厚が０．６５ｍｍ以上であり、押出後、抽伸加工を行うことなく外周面に切削加工を施して電子写真感光体支持体とする。 - 特許庁

Finally, the molding operation is carried out under the molding conditions set in the first process using the molding tool whose surface shape is correctively worked and the molded object is obtained under the cooling conditions set in the second process after releasing the molded object.例文帳に追加

最後に、表面形状を修正加工した成型用金型を用いて、第１の工程で設定した成型条件で成型を行った後、離型後に第２の工程で設定した冷却条件で成型品を得る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing etching components which do not cause rust on the surface of a metallic material from a coating application process to a drying process even when a photoresist layer is formed by applying a photoresist using casein to a ferrous metallic material.例文帳に追加

鉄系の金属材料に、カゼインを用いたフォトレジストを塗布しフォトレジスト層を形成しても、塗布工程から乾燥工程の間で金属材料の表面に錆が発生しないエッチング部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the electronic component includes a process for forming the glass coating film 20 by coating glass slurry containing glass powder, binder and solvent on a surface of a component body 10, and a process for sintering the glass coating film 20.例文帳に追加

部品本体１０の表面に、ガラス粉末とバインダと溶剤とを含むガラススラリーを塗布してガラス塗膜２０を形成する工程と、ガラス塗膜２０を焼成する工程とを有する電子部品の製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing the ultrafine particles includes a process for applying a target substance on the surface of a flowing liquid by vapor deposition to obtain a liquid containing particles, and a process for substituting the liquid with a solvent to obtain the particles.例文帳に追加

流動する液面上へターゲット物質を蒸着させて粒子を含有する液体を得る工程、および、該液体を溶媒に置換して粒子を得る工程を含むことを特徴とする超微粒子の作製方法。 - 特許庁

The electrode substrate manufacturing method comprises a fist process in which the recess 41 is press formed by pressing a die onto a glass substrate 4a, and a second process in which an electrode 42 is provided on the bottom surface of the recess 41.例文帳に追加

本発明の電極基板の製造方法は、ガラス基板４ａに押し型を押し当ててプレス成形することにより、凹部４１を形成する第１の工程と、凹部４１の底面に電極４２を設ける第２の工程とを有する。 - 特許庁

Prior to the plating process, the method includes a plating resist film forming process of forming a plating resist film 10 at a part (electrode non-scheduled part 4) excluding an electrode scheduled part 3 where it is scheduled to form the electrode 21 in the inner surface 1n of the base body 1.例文帳に追加

メッキ工程に先立って、基体１の内表面１ｎのうち電極２１を形成する予定の電極予定部３を除いた部位（非電極予定部４）にメッキレジスト膜１０を形成するメッキレジスト膜形成工程を備える。 - 特許庁

A method for producing the embossed decorative sheet includes a process for embossing a sheet and a process for forming a transparent protective layer on the embossed surface of the embossed sheet.例文帳に追加

エンボス加工された化粧シートを製造する方法であって、シートをエンボス加工処理する工程及びエンボス加工処理により得られるエンボスシートのエンボス面上に透明性保護層を形成する工程を有する化粧シートの製造方法に係る。 - 特許庁

In a development process, the developer 18 inside the nozzle 16 is pressured to be supplied so that a developer film 25 formed on a surface of the fabric film 19 comes into contact with a photoresist film 12 on a wafer 11, thereby carrying out a development process.例文帳に追加

現像処理は、ノズル１６の内部の現像液１８を加圧して、布膜１９の表面に形成された現像液膜２５とウエハ１１上のフォトレジスト膜１２と接触させるように供給し、現像処理を行う。 - 特許庁

The manufacturing method of the core for forming is constituted of a main body forming process for forming the core body and a fused salt filtrating process for filtrating the fused state of the salt on the surface layer portion of the core body under reduced pressure condition.例文帳に追加

成形用中子の製造方法を、中子本体を成形する本体成形工程と、減圧条件下で中子本体の表層部分に溶融状態の塩を浸透させる溶融塩浸透工程と、から構成する。 - 特許庁

An enclosure wall 6 is provided at position which encloses a work 4 on a process stage 3, where the work 4 is placed so that an ozone gas which tends to flow down from the process stage 3, is kept inside the enclosure wall 6 for damming, for improved ozone concentration on the processing surface of work 4.例文帳に追加

ワークを載置する処理ステージ上の前記ワークを囲む位置に囲壁を設けることにより、処理ステージから流下傾向にあるオゾンガスをせき止め囲壁内に滞留させて、ワーク処理面におけるオゾン濃度を向上させる。 - 特許庁

Since the conductive film is formed on the whole surface of the substrate, the damage given to the element by the plasma process can be reduced, because the density of electric charges accumulated in a gate electrode during the course of the plasma process of anisotropic etching etc., can be reduced.例文帳に追加

導電性膜が全面に形成されていることにより、異方性エッチング等のプラズマによる処理（プラズマプロセス）においてゲート電極に蓄積される電荷密度を低減でき、プラズマプロセスによる損傷を低減できる。 - 特許庁

To provide an optical disk drive which records a part of a disk, when a disk closing process or a finalize process has been completed and permits to decide whether the disk is processed, by only viewing the recording surface and to provide a disk display method.例文帳に追加

ディスククローズまたはファイナライズ処理された時点でディスクの一部を記録し、記録面を見ただけでディスククローズまたはファイナライズ処理されたディスクか否か判断できる光ディスク装置及びディスク表示方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating method, which is a close-up coating process using an atomization coater and capable of securing the finish property of a coated surface by increasing the viscosity of a coating material to be applied while keeping high coating efficiency which is an advantage of the close-up coating process.例文帳に追加

霧化型塗装機を使用した至近距離塗装であって、該至近距離塗装の利点である高塗着効率を維持したまま、塗着塗料粘度を上昇させて塗面の仕上り性を確保できる塗装方法を提供する。 - 特許庁

The method further includes a process for specifying an active region on the surface surrounding the user-written data, and a process for recognizing a prescribed user action executed by the writing instrument of indicating completion of the user-written data.例文帳に追加

方法は更に、ユーザ記述データを取り囲む、表面上のアクティブな領域を規定する工程と、ユーザ記述データの完了を示す旨の、筆記器具による所定の動作をユーザが行うことを認識する工程とを含む。 - 特許庁

By this, basically, only the process for forming the perforation 20 suffices for the electrode connection between the top and rear surface sides, and the substantial enlargement of a manufacturing process can be avoided compared with the case of installing an embedded electrode.例文帳に追加

これにより、この表裏面間の電極接続のためには基本的に貫通孔２０を形成する工程だけを実施すればよく、埋め込み電極を設ける場合のように製造工程の大幅な増大を回避することができる。 - 特許庁

The device includes a process of forming plasma in a vacuum chamber by applying electric power to an electrode 12a in the chamber 10, and a process of bringing one or more ions, atoms, or free radicals of the plasma in contact with the surface 24 of the substrate 22.例文帳に追加

チャンバー１０内の電極１２ａに電力を加えて、プラズマを真空チャンバー内に生成する工程、および基体２２の表面２４にプラズマのイオン、原子またはフリーラジカルの１以上と接触させる工程を含む。 - 特許庁

To provide a method capable of manufacturing an epitaxial wafer that can reduce the generation of defects (pits) on the surface of an epitaxial layer while suppressing the manufacturing cost by omitting an oxide film forming process, an oxide film removing process, or the like.例文帳に追加

酸化膜形成工程、酸化膜除去工程などを省略して製造コストを抑制しつつ、エピタキシャル層表面への欠陥（ピット）発生を低減したエピタキシャルウェーハを製造することができる方法を提供する。 - 特許庁

A game apparatus determines color of each point on the surface of the each polygon by interpolating process (and tone shading process) after determining color or brightness of each tip on the basis of the direction of a light 73 and the directional data of each tip.例文帳に追加

ゲーム装置は、ライト７３の向きと各頂点の方向データとに基づき、各頂点の色または明るさを決定した後、補間処理（およびトゥーンシェーディング処理）により、各ポリゴンの表面上にある各点の色を決定する。 - 特許庁

The method includes a first process of disposing a thin film element 14a on an inclined face of a first support 10a disposed on a first supporting substrate and a second process of disposing the thin film element oblique to the surface of an actual substrate 28.例文帳に追加

第１の支持基板に配置された第１の支持体１０ａの斜めの面に、薄膜素子１４ａを配置する第１の工程と、薄膜素子を実基板２８の面に対して斜めに配置する第２の工程とを有している。 - 特許庁

After a compression layer and non-compression layer are formed on a glass substrate in a polishing process step 4, the glass substrate undergoes etching treatment in an acidic solution where a hydrofluoric acid and fluoride salt are made to coexist in a texturing treatment process step 5 (first surface treatment 5a).例文帳に追加

研磨工程４でガラス基板上に圧縮層と非圧縮層を形成した後、テクスチャ処理工程５でフッ酸とフッ化物塩を共存させた酸性溶液でエッチング処理を行う（第１の表面処理５ａ）。 - 特許庁

This manufacturing method of the manhole cover using a neat construction method has a process of blowing and executing rein on a surface of the manhole cover and a process of spraying a nonslipping material before hardening the blown and executed resin.例文帳に追加

ニート工法を利用したマンホール用蓋の製造方法であって、マンホール用蓋の表面に、樹脂を吹き付け施工する工程と、吹き付け施工された樹脂が硬化する前に、滑り止め材を散布する工程とを備える。 - 特許庁

The formation method of an insulating film has: a process for forming a fluorocarbon film on a substrate; and a process for bringing the surface into contact with processed gas including oxidizing gas, such as oxygen, ozone, carbon monoxide, carbon dioxide, and nitrous oxide.例文帳に追加

基板上にフルオロカーボン膜を形成する工程、および、その表面と、酸素、オゾン、一酸化炭素、二酸化炭素および亜酸化窒素などの酸化性ガスを含む処理ガス、とを接触させる工程を有する絶縁膜の形成方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the electric wave absorber includes a process of forming the ceramic-carbon composite using a carbonization decomposition reaction of an organic substance and a process of laminating the ceramic-carbon composite on the surface of the electric wave reflecting layer.例文帳に追加

また、有機物の炭化分解反応を利用して、セラミックス基カーボン複合体を形成する工程と、このセラミックス基カーボン複合体を電波反射層の表面に積層する工程と、を含む電波吸収体の製造方法。 - 特許庁

In manufacturing an SIMOX wafer having an oxygen implantation process and a high-temperature annealing process, prior to implantation of oxygen ions; an oxide film is formed on the surface of the wafer, and oxygen ion implantation is executed through the oxide film.例文帳に追加

酸素イオン注入工程および高温アニール工程を有するSIMOXウェーハの製造方法において、 該酸素イオン注入に先立ち、ウェーハの表面に酸化膜を形成し、該酸化膜を通して酸素イオンの注入を行う。 - 特許庁

Therefore, as at maximum, the grinding at the cam slide surface 25a is carried out by one process and the grinding at the right/left slide surfaces for swing 25b divided by an enlarged part 25c are carried out by each one process, the grinding is finished by three processes in total.例文帳に追加

このため、最大でもカム摺動面２５ａでの研削が１工程、および拡大部２５ｃで分かれた左右の揺動用摺動面２５ｂでの研削が各１工程なされるので、合計で３工程で研削が完了する。 - 特許庁

A manufacturing method of each of first pins 3, 3' for chains 1, 1' includes the process of forming each of elements 321, 321' by drawing and the process of forming protruding curved parts 20, 20' on the end surface of each of the elements 321, 321'.例文帳に追加

チェーン１，１’用の各第１のピン３，３’の製造方法において、引き抜き加工により各素材３２１，３２１’を形成する工程と、各素材３２１，素材３２１’の端面に凸湾曲部２０，２０’を形成する工程とを備える。 - 特許庁

To provide a model preparation process which does not let a dishing-up agent to fall off its core material even on a vertical surface in the processes in which a 2-liquid curing urethane dishing-up agent is mixed and dished up and an aimed shape is obtained by a cutting process after it is hardened.例文帳に追加

２液硬化型ウレタン系盛り付け剤を混合し盛り付け、硬化後に切削加工して目的の形状を得る模型の製造において、垂直面でも盛り付け剤がコア材から脱落しない製造方法を提供する。 - 特許庁

Peeling off of a plating layer during working is prevented, a short circuit caused by entering of plating fine pieces into the battery, or corrosion on the outside is prevented by nickel plating only the outer surface of the battery after a groove forming process and a sealing process.例文帳に追加

溝加工と密閉の両工程後に、電池の外部表面にのみニッケルめっきを施すことによって、加工時にめっき層が剥離することなく、内部へのめっきの微小片混入による短絡や、外部の腐食を防止する。 - 特許庁

Further, by forming the contact layer all over the window layer, the etching process can be omitted for the contact layer, and precise alignment of the surface electrode becomes unnecessary so that the manufacturing process of the solar cell can be simplified.例文帳に追加

また、さらに、コンタクト層を窓層上全面に形成することにより、コンタクト層のエッチング工程を省略できるとともに、表面電極の精密な位置あわせが不要となり、太陽電池の製造工程を簡略化することができる。 - 特許庁

Rough washing is made in the first washing process to remove the residual plating liquid, and the lower surface of the cathode ring 9 and the entire portion of the substrate W are washed in the second washing process, thus preventing the substrate from being contaminated by the residual plating liquid.例文帳に追加

第１の洗浄工程で大まかに洗浄して残留メッキ液を除去し、第２の洗浄工程でカソードリング９の下面および基板Ｗの全体を洗浄するので、残留メッキ液による基板の汚染が防止できる。 - 特許庁

To provide a production method for surface acoustic wave(SAW) device by which an electrode or resist is hardly damaged by heating in an electrode forming process and a piezoelectric substrate is hardly cracked in flip chip bonding, etc., without increasing a production process.例文帳に追加

製造工程を増加させることなく、電極形成工程時の加熱による電極やレジストの破損が生じ難く、かつフリップチップボンディング等における圧電基板のクラックが生じ難い、弾性表面波装置の製造方法を得る。 - 特許庁

Then, the resin package 40 and a pattern 52 on the surface of the print board are cut by a first dicing blade 61 (a first process), and then a main body 51 of the print board 50 is cut by a second dicing blade 62 (a second process).例文帳に追加

次いで、前記樹脂パッケージおよび前記プリント基板表面のパターン（５２）を第１のダイシングブレード（６１）で切断し（第１の工程）、その後前記プリント基板の本体（５１）を第２のダイシングブレード（６２）で切断する（第２の工程）。 - 特許庁

To provide the structure of a piezoelectric oscillator in which processing is carried out consistently under the state of glass or silicon wafer from manufacturing process, surface mounting is possible, and a signal of desired oscillation frequency can be outputted even if the oscillator is miniaturized, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

ガラスあるいはシリコンウエハ状態で製造工程から一貫して処理する表面実装可能な圧電発振器を小型化しても所望の発振周波数信号を安定して出力できる構造と製造方法の実現。 - 特許庁

To provide a support for photographic printing paper maintaining sufficient rigidity and excellent surface quality while having high infiltration resistance to a development processing liquid, and also free from the generation of the problem on the stain of rolls in a paper making process and a resin coating process.例文帳に追加

現像処理液に対する高い耐浸透性をもちながら、十分な剛度と優れた面質を維持し、且つ、抄紙工程及び樹脂被覆工程のロール汚れの問題を発生することなく写真印画紙用支持体を提供する。 - 特許庁

This method for manufacturing a wiring board 1 is provided with a process for perforating a through-hole 9 in a base layer 6 and a process for forming a conductive layer 37 on a base layer surface 35 by carrying out plating, and for forming a through-hole conductor 11 in the through-hole 9.例文帳に追加

配線基板１の製造方法は、基層６にスルーホール９を穿孔する工程、メッキを施し、基層表面３５に導体層３７を形成すると共に、スルーホール９にスルーホール導体１１を形成する工程を備える。 - 特許庁