「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(69ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for manufacturing the microlens array includes a process of forming a light-transmitting layer precursor 30, containing colloidal ceramics on the surface of the microlens array substrate 10 in the lens 12 side and a process of applying noncontact force by a spin coating method or the like on the light-transmitting layer precursor 30, to form a light-transmitting layer 32 having a flat surface.例文帳に追加

マイクロレンズアレイの製造方法は、マイクロレンズアレイ基板１０のレンズ１２側の面にコロイド状セラミックスを含む光透過性層前駆体３０を設け、光透過性層前駆体３０に、スピン塗布方式などによって非接触による力を加えて、平らな表面を有する光透過性層３２を形成することを含む。 - 特許庁

The manufacturing method has steps (S101, S102) of forming etching grooves XX on boundary lines between semiconductor chips CP from the main surface of a semiconductor wafer WF, for example in a former process, and a back-grinding step (S1042) as a subsequent process of grinding the whole rear surface of the semiconductor wafer WF to the etching grooves XX.例文帳に追加

例えば、前工程プロセスにおいて、半導体ウエハＷＦの主面から各半導体チップＣＰ間の境界ラインにエッチング溝ＸＸを形成し（Ｓ１０１，Ｓ１０２）、次いで後工程となるバックグラインド工程において、半導体ウエハＷＦの裏面全体をエッチング溝ＸＸに到達するまで研削する（Ｓ１０４２）。 - 特許庁

The production method is characterized in that it includes a process to form a first protection layer 104 on the surface of a fluorescent layer 103 having a surface formed of projections 105, a process to form a second protection layer 108 on the first protection layer after crushing the projections 105 from above the first protection layer 104 or removing them.例文帳に追加

凸部１０５が形成された面を有する蛍光体層１０３の面に第１の保護層１０４を形成する工程と、第１の保護層１０４の上から凸部１０５を押しつぶした後、または除去した後に、第１の保護層上に第２の保護層１０８を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A composite material having a hydrophilic surface is produced by a process for preparing a base material and a process for coating the surface of the base material with a photoreactive layer containing a photocatalystic semiconductor material and showing water wettability of about 10° or less in terms of a contact angle with water at a time of light excitation.例文帳に追加

親水性表面を備えた複合材の製造方法は：基材１０を準備する工程と；光触媒性半導体材料を含み光励起時に水との接触角に換算して約１０゜以下の水濡れ性を呈する光反応性の層で基材の表面を被覆する工程；からなる。 - 特許庁

Thereby, for example, a working error in a cutting work process (error of height dimension of the original optical surface of the base material 100) and a working error in a resist film forming process (error of film thickness of the resist applied on the original optical surface) are eliminated and, as a result, the diffraction structure capable of obtaining the prescribed optical performance can be plotted.例文帳に追加

これにより、例えば切削加工工程における加工誤差（基材１００の母光学面の高さ寸法の誤差）と、レジスト膜形成工程における加工誤差（母光学面上に塗布されたレジストの膜厚の誤差）を解消して、所定の光学的性能が得られる回折構造を描画することができる。 - 特許庁

The optical fiber coil is constituted by providing an adhesive layer partially or entirely on the surface of an optical fiber and winding the optical fiber and manufactured through a process of providing the adhesive layer partially or entirely on the surface of the optical fiber and a process of winding the optical fiber provided with the adhesive layer in a desired shape.例文帳に追加

光ファイバコイルは、光ファイバ素線の表面の一部または全面に接着剤層を設けて巻線してなり、光ファイバ素線の表面の一部または全面に接着剤層を設ける工程、および該接着剤層を設けた光ファイバ素線を所望の形状に巻線する工程によって作製される。 - 特許庁

Rust present on the outer periphery of a bearing B is descaled by implementing a process wherein a grinder 25 is rotated with the bearing B for rolling stock truck brought into contact with the upper surface of the grinder 25, and the bearing B is rotated together with the grinder 25 by its own weight; and a process wherein a substance adhered on the surface of the bearing B is removed.例文帳に追加

鉄道車両台車用ベアリングＢをグラインダー２５上面に接触させた状態で、グラインダー２５を回転させ、ベアリングＢが自重によりグラインダー２５に連れ廻りさせる工程と、ベアリングＢの表面に付着する付着物を除去する工程とを有することにより、ベアリングＢの外周に存する錆を落とす。 - 特許庁

The blasting includes a process in which a first ejection material is ejected on a part of the outer surface of the master substrate 1 to form a first gradation region 3 and a process in which a second ejection material is ejected to the boundary between the first gradation region 3 and the mirror surface 4 to form a second gradation region 5.例文帳に追加

ブラスト加工が、鏡面を有するマスター基材１の外面の一部に、第１の噴射材を噴射して第１のぼかし領域３を形成する工程、および第１のぼかし領域３と鏡面４との境界部に第２の噴射材を噴射して第２のぼかし領域５を形成する工程、を包含する。 - 特許庁

The method comprises a process of forming the gate insulating film, and a process of smoothing the surface of the gate insulating film by irradiating the surface of the gate insulating film with a gas cluster ion beam.例文帳に追加

本発明は、ゲート絶縁膜上に半導体膜が形成された薄膜トランジスタの製造方法であって、ゲート絶縁膜を形成する工程と、ゲート絶縁膜の表面を、ガスクラスターイオンビームを照射することでゲート絶縁膜表面を平滑化する工程とを有することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法である。 - 特許庁

The manufacturing method of epoxy resin tablets for semiconductor sealing includes a process of obtaining a molding 2 by making a tablet of an epoxy resin composition for semiconductor sealing, and a process of forming a surface coating 3 of 5 to 50 μm in average thickness on a surface of the molding using polyethylene wax.例文帳に追加

半導体封止用エポキシ樹脂組成物をタブレット状に打錠成形して成形体２を得る工程と、前記成形体の表面にポリエチレンワックスを用いて平均厚さ５μｍ以上５０μｍ以下の表面コーティング３を行う工程とを有する半導体封止用エポキシ樹脂タブレットの製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate for the image display apparatus includes: a process for irradiating a surface of the layer containing the polymerized compound and/or the polymer compound obtained by the polymerization of the polymerized compound with a light having a wavelength of 250 nm or less; and a process for providing another layer so as to contact the surface.例文帳に追加

重合性化合物および／または該重合性化合物の重合により得られる高分子化合物を含む層の表面を２５０ｎｍ以下の波長の光で照射する工程；及び他の層を上記表面に接するように設ける工程をこの順に含む、画像表示装置用基板の製造方法。 - 特許庁

A process, in which the surface of the upper silicon region 42 of an SIMOX substrate is doped with nitrogen, and a process in which an electron beam, is applied to a region including at least a part of the region doped with nitrogen in an atmosphere containing oxigen to make an oxide film 46 containing nitrogen grow on the silicon surface are included.例文帳に追加

ＳＩＭＯＸ基板の上部シリコン領域４２の表面に窒素をドープする工程と、酸素を含む雰囲気中において窒素がドープされた領域の少なくとも一部を含む領域に電子ビームを照射し、それによってシリコン表面に窒素を含む酸化膜４６を成長させる工程とを包含する。 - 特許庁

This method of forming a carbon nanotube pattern contains patterning process in which a desired pattern is printed on the surface of the substrate with a carbon nanotube dispersion in which the carbon nanotube is dispersed in a dispersant and the dispersant is vaporized to form a pattern layer, and a pattern fixing process in which the pattern layer is fixed on the surface of the substrate.例文帳に追加

カーボンナノチューブが分散媒に分散したカーボンナノチューブ分散液にて基板表面に所望のパターンを印刷し、分散媒を蒸発させてパターン層を形成するパターニング工程と、パターン層を基板表面に固定するパターン固定工程とを含むことを特徴とするカーボンナノチューブパターンの形成方法。 - 特許庁

To develop a method for increasing the speed of a conventional hydrophobicization process of a printing, antifogging or stainproofing procedure necessitating several weeks to a practically acceptable level and, in contrast to conventional process, quickly changing the whole or an arbitrary local area of a hydrophilic surface to hydrophobic surface.例文帳に追加

印刷技術や防曇、防汚技術において従来は数週間程度かかっていた疎水化プロセスを実用レベルまで高速化するとともに、従来は不可能であった、酸化物固体表面の全領域または任意の局所的領域を親水性表面から疎水性表面に高速に変化させる手段の開発。 - 特許庁

This screen process printing device comprises a squeegee which fills apertures formed in the thickness direction of a screen process printing mask with a cream solder by moving the squeegee along the surface of the mask, and a line sensor integrally formed with the squeegee for optically reading the surface of the mask.例文帳に追加

その厚み方向に開口が貫通するスクリーン印刷用マスク表面に沿って移動することにより前記開口にクリームはんだを充填するスキージと、前記スキージと一体的に設けられ前記スクリーン印刷用マスク表面を光学的に読み取るラインセンサと、を備えることを特徴とするスクリーン印刷装置。 - 特許庁

The surface coating thin film forming method includes a process for coating the surface of the substrate with a coating solution containing at least one kind of a silicon-containing compound selected from the group consisting of alkoxysilane, siloxane and organosiloxane and the additive containing PVP and a heating process for heating the coated substrate.例文帳に追加

アルコキシシラン、シロキサン及びオルガノシロキサンからなる群から選択される少なくとも１種の含ケイ素化合物と、ＰＶＰを含む添加剤とを有するコート液を基材表面に塗布する工程と、該基材を加熱する加熱工程と、を有することを特徴とする表面コート用薄膜の形成方法。 - 特許庁

To provide a piezoelectric vibration reed and a manufacturing method of the piezoelectric vibration reed, as well as a piezoelectric vibrator equipped with the piezoelectric vibration reed, an oscillator, an electronic apparatus and a radio wave clock, which can manufacture the piezoelectric vibration reed without a surface defect, suppressing the influence of the surface defect in a previous process to extend over a subsequent process.例文帳に追加

前工程における表面欠陥の影響が後工程に及ぶのを抑制し、表面欠陥のない圧電振動片を製造することができる圧電振動片の製造方法及び圧電振動片、並びに圧電振動片を備えた圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計を提供する。 - 特許庁

The sample preparing method includes a rotation process for changing the direction of the sample 20 which keeps the first surface 10a directed upward and has a contact so that the first surface 10a may be directed laterally or downward and an irradiation process for irradiating the sample 20 with a converged ion beam from the short direction of the contact.例文帳に追加

試料作製方法は、第１面１０ａが上方を向き、コンタクトを有する試料２０を、第１面１０ａが側方ないし下方を向くように試料２０の向きを変える回転工程と、試料２０に対して、コンタクトの短手方向から集束イオンビームを照射する照射工程とを含む。 - 特許庁

A texture winding process for winding a texture 25 on a molding surface S side of a mandrel 7 and a roving winding process for spirally winding a roving 35 on the molding surface S side of the mandrel 7 in the state of maintaining a tilt angle β of -10 to +10 degrees with respect to a peripheral direction of the mandrel 7 are alternately repeated for a plurality of times.例文帳に追加

織物２５をマンドレル７の成形面Ｓ側に巻付ける織物巻付工程と、ロービング３５をマンドレル７の周方向に対して−１０〜＋１０度の傾斜角βを保った状態でマンドレル７の成形面Ｓ側に螺旋状に巻付けるロービング巻付工程を交互に複数回繰り返すこと。 - 特許庁

A barium titanate powder is obtained through a process for mixing and pulverizing the starting raw materials containing at least a barium compound being converted into barium oxide by heating and titanium oxide having a specific surface area of ≤4.8 m^2/g to obtain a pulverized powder having a specific surface area of ≥5 m^2/g and a process for heat treating the obtained pulverized powder.例文帳に追加

加熱により酸化バリウムとなるバリウム化合物と比表面積が４．８ｍ^2／ｇ以下である酸化チタンを少なくとも含む出発原料を混合、粉砕により比表面積を５ｍ^2／ｇ以上にする工程、および得られた粉砕粉を熱処理する工程により得たチタン酸バリウム粉末とする。 - 特許庁

In a grinding process, the inner surface of the high-purity gas-filled vessel is ground after the pressure test process, thereby, the total length of a minute crack per square centimeter within a range of depth of 1-30 μm from the inner surface of the high-purity gas filled-vessel does not exceed 30 cm.例文帳に追加

研削工程では、耐圧試験工程の後、高純度ガス充填容器の内表面部を研削することによって、高純度ガス充填容器の内表面から深さ１μｍ以上３０μｍ以下の範囲における１平方センチメートル当たりの微小クラックの延べ長さを３０ｃｍ以下とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the spacer comprises a process of forming a spacer base body made of glass material of which at least a part of the surface area contains PbO by 40 wt.% or more, and a process of lowering the resistance of at least a part of the surface area by deoxidizing the spacer base body.例文帳に追加

表層部分の少なくとも一部がＰｂＯを４０重量％以上含有するガラス材料からなるスペーサー基体を形成する工程と、前記スペーサー基体を還元処理することにより表層部分の少なくとも一部を低抵抗化する工程と、を含むことを特徴とするスペーサーの製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing semiconductor devices has a process step of selectively removing the build-up segments (projecting parts) of the projecting shape produced on the surface of the metallic film (copper plating film 15) by electrolytic etching and a process step for chemicomechanically polishing the surface of the metallic film 15.例文帳に追加

電解エッチングによって金属膜（銅メッキ膜１５）の表面に生じている該金属膜の凸状の盛り上がり部（凸状部）を選択的に除去する工程と、前記金属膜１５の表面を化学的機械研磨する工程とを備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

The solder joint method includes a solder ball deforming process of deforming a solder ball mechanically to break an oxide film on the surface of the solder ball to expose non-oxidized surface, and a solder melting process of exposing the deformed solder ball mounted on solder joints of a work carried in to energy emission heating to melt the solder ball.例文帳に追加

ボールを機械的に変形させることにより表面の酸化膜を破って非酸化面を露出させるはんだボール変形工程と、変形されたはんだボールを搬入されたワークの接合部に搭載した状態でエネルギーの照射により加熱して溶融させるはんだ溶融工程とを備える。 - 特許庁

The method of manufacturing the die 1 for forming the optical device is provided with a process (S01) for forming the prototype 6 of the forming surface 3 on a die base material 2 by sintering sintering powder containing chromium oxide using a discharge plasma sintering method and a process (S02) for forming the forming surface 3 by precisely machining the formed prototype 6.例文帳に追加

光学素子成形用型１の製造方法は、型母材２に放電プラズマ焼結法を用いて酸化クロムを含む焼結用粉末を焼結して、成形面３の原型６を作製する工程（Ｓ０１）と、作製した原型６を精密加工して成形面３とする工程（Ｓ０２）とを備えている。 - 特許庁

When forming, for example, the surface of a lower electrode for a capacitor on the surface of a semiconductor wafer W which is an object to be processed, a process of depositing a HSG polysilicon film (rugged polysilicon film) 16 non-selectively and a process of doping an impurity such as phosphorus into the polysilicon film are conducted continuously in one and the same processing container 28.例文帳に追加

被処理体である半導体ウエハＷの表面に例えばキャパシタ用の下部電極の表面を形成する場合、非選択でＨＳＧポリシリコン膜（ラグドポリシリコン膜）１６を堆積させる工程と、このポリシリコン膜中に不純物、例えばリンをドープさせる工程とを、同一の処理容器２８内で連続的に行なう。 - 特許庁

This method for detecting copper deposition on the processed surface of the substrate comprises a data measurement process (steps S2 to S4) for measuring the spectral reflectance data on the processed surface of the substrate and a discrimination process (step S5) for discriminating, based on the specificity of the spectral reflectance data, if copper is deposited or not.例文帳に追加

銅が処理面に被着されている基板を検出する方法において、基板の処理面について分光反射率データを測定するデータ測定過程（ステップＳ２ないしＳ４）と、前記分光反射率データの特異性に基づき銅が被着しているか否かを判別する判別過程（ステップＳ５）とを備える。 - 特許庁

This method for processing the iron-based alloy comprises a plasticizing process including strong processing for imparting strain (=ε) corresponding to ≥4 to at least a part of a member formed from the iron-based alloy and a surface treating process for making an element to diffuse and intrude into the obtained strongly processed member from the surface.例文帳に追加

本発明の鉄系合金の加工方法は、鉄系合金で構成された部材の少なくとも一部に相当歪み（＝ε）が４以上となる強加工を含む塑性加工工程と、得られた強加工材に表面から元素を拡散侵入させる表面処理工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

This method is composed of the brazing process for brazing one pair of base materials 10, 12 and an ultrasonic inspecting process for measuring reflected echo from the brazed surface and/or penetrated echo penetrating the brazed surface by using an ultrasonic probe 16 and irradiating the base materials with the ultrasonic wave when the brazing is performed.例文帳に追加

一対の母材１０，１２をロウ付けするロウ付け工程と、ロウ付けが行われている際に、超音波探触子１６を用いて母材に超音波を入射させ、ロウ付け面からの反射エコー及び／又は前記ロウ付け面を透過する透過エコーを測定する超音波検査工程とを備えている。 - 特許庁

During pavement removal work, the upper cap 102 is detached from the block bases 103 (lid removal process), a lower cap 106 is pressurized and detached in the state of lifting the block bases 103 to remove the weight increase material 201 from a lower surface opening LH (bottom removal process), and the block bases 103 are taken away from a paved surface.例文帳に追加

舗装撤去作業時には、ブロック基体１０３から上キャップ１０２を外し（抜蓋工程）、ブロック基体１０３を持ち上げた状態で下キャップ１０６を加圧して外して下面開口ＬＨから増重量材２０１を抜き取り（抜底工程）、ブロック基体１０３を被舗装面から持ち去るようにした。 - 特許庁

The method comprises a process for forming a relatively narrow and shallow pre-groove 4 of a width W0 on the surface of a semiconductor layer formation side of a semiconductor wafer 1 by dicing, and a process for forming a relatively wide and deep groove 5 of a width W1 on the surface by dicing by hollowing out the pre-groove 4.例文帳に追加

半導体ウエハー１の半導体層形成側の表面に相対的に幅Ｗ０の狭い且つ深さの浅いプレ溝４をダイシングにより形成する工程と、該表面に相対的に幅Ｗ１の広い且つ深さの深い幅広溝５を前記プレ溝４をえぐり取るようにしてダイシングにより形成する工程とを含む。 - 特許庁

The termination method of the diamond electrode includes a rare gas terminating process for sputtering the surface of the diamond electrode 42, which is terminated by hydrogen, by a rare gas to terminate the diamond electrode 42 by the rare gas and a target substance terminating process for replacing the rare gas on the surface of the diamond electrode 42 with a target substance to terminate the diamond electrode 42.例文帳に追加

水素終端化されているダイヤモンド電極４２の表面を、希ガスをスパッタリングすることにより、当該希ガスで終端化する希ガス終端化工程と、そのダイヤモンド電極４２の表面の希ガスを、目的物質で置き換えて終端化する目的物質終端化工程とを備えるようにした。 - 特許庁

To provide a plastic substrate for display elements having a reflecting surface at the substrate itself by simplifying a manufacturing process step for the reflecting surface of a reflection type liquid crystal display device manufactured by many process steps and adopting plastic for the substrate heretofore made of glass and further the reflection type liquid crystal display using the same.例文帳に追加

多数の工程によって作製されていた反射型液晶表示装置の反射面の製造工程を簡易化すると共に、従来ガラスで作られていた基板をプラスチック化することで、基板自体に反射面をもつ表示素子用プラスチック基板を提供し、さらにこれを用いた反射型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The machine plate of which the wettability of the surface is controlled selectively according to image information is prepared by the preparing method of the machine plate which has a process of heating a polyimide precursor layer of the plate material to make it into a polyimide one and a process of giving energy to the polyimide surface of the machine plate according to the image information.例文帳に追加

版材のポリイミド前駆体層を加熱してポリイミド化する工程と、該ポリイミド化した版材表面に画像情報に応じてエネルギーを付与する工程とを有する刷版の作製方法によって表面の濡れ性を画像情報に応じて選択的に制御した刷版を作製する。 - 特許庁

The method for forming the film includes a process (1) for fixing a reinforcing material to the surface of a base material and a process (2) for forming a film on the base material by packing/applying a solventless two-component polyurea curable resin (A) from the surface of the base material to embed the reinforcing material.例文帳に追加

基材表面に補強材を固定する工程（１）、上記基材表面から上記補強材を包埋するように無溶剤系２液ポリウレア硬化型樹脂（Ａ）を充填塗布して、上記基材上に膜状体を形成する工程（２）を含んでいることを特徴とする膜状体の形成方法。 - 特許庁

The method for fixing the substrate 10 to be ground to a base 40 includes a process of sticking the substrate 10 on a first main surface 211 of a film 21 with a pressure-sensitive adhesive 22, and a process of sticking a second main surface 212 of the film 21 on the base 40 with wax 30.例文帳に追加

研磨対象となる基板１０を、支持体４０に固定する基板の固定方法であって、基板１０とフィルム２１の第１の主面２１１とを、粘着剤２２により貼着する工程と、フィルム２１の第２の主面２１２と支持体４０とを、ワックス３０により貼着する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method of forming contact plug of a semiconductor element which can suppress formation of voids in a metal layer forming process subsequent to a contact plug forming process by selectively etching a subsequent interlayer insulation film formation of a contact plug so that the surface of the uppermost portion of the contact plug is higher than the surface of the uppermost portion of the interlayer insulation film.例文帳に追加

コンタクトプラグの形成後、コンタクトプラグの最上部の表面が層間絶縁膜の最上部の表面より高くなるように層間絶縁膜を選択的にエッチングすることにより、後続の金属層形成工程の際にボイドの生成を抑制する、半導体素子のコンタクトプラグ形成方法を提供すること。 - 特許庁

Furthermore, by imagining that there is a virtual flat surface S vertical to a bottom 7b of a box body, where the driving circuit board 11 is provided and placing the control process element 3 and the drive element 5 with the flat surface S in between, transmission of heat from the drive element 5 to the control process element 3 is suppressed further.例文帳に追加

また、駆動回路基板１１が設けられた筐体底部７ｂに垂直な仮想的な平面Ｓを考え、制御処理素子３と駆動素子５とを、その平面Ｓを挟んで互いに反対側に配置することにより、駆動素子５からの熱が制御処理素子３に伝達されるのを更に抑制することができる。 - 特許庁

Between the process for forming the mask oxide film and the process for injecting oxygen ions, a recess 12c at a prescribed depth, that is deeper than the substrate surface 12b that serves as a bulk region where the mask oxide film is formed, is formed on the substrate surface 12a that serves as the SOI region where mask oxide films have not been formed.例文帳に追加

マスク酸化膜を形成する工程と酸素イオンを注入する工程の間に、マスク酸化膜の形成されていないＳＯＩ領域となる基板表面１２ａに、マスク酸化膜の形成されたバルク領域となる基板表面１２ｂより深い所定の深さの凹部１２ｃを形成する。 - 特許庁

After the heat curing process, a heat-cured coating film 72 produced in the heat curing process on the outer surface side of a thick wall part 1b which is a part of the car body 1 is coated with an intermediate coating, and the whole outer surface of the car body 1 after intermediate coating is coated with a finish coating.例文帳に追加

熱硬化処理工程後に、自動車車体１の一部である厚肉部１ｂの外表面側に前記熱硬化処理工程で生じている熱硬化塗膜７_2 に塗り重ねるようにして中塗り塗装を施し、その中塗り塗装後に自動車車体１の外表面全体に上塗り塗装を施す。 - 特許庁

To provide an optical transceiving module and an optical element used for it without requiring an optical wave-guide and even without requiring a groove processing process and an insertion process of an optical wavelength selective filter for a groove by attaching the optical wavelength selective filter on light receiving surface of a photo-detector or an end surface of an optical fiber.例文帳に追加

受光素子の受光面或いは光ファイバの端面に光波長選択フィルタを取り付けることにより、光導波路を必要とせず、溝加工プロセスおよび溝に対する光波長選択フィルタの挿入プロセスも必要としない、光送受信モジュールおよびこれに使用される光学素子を提供する。 - 特許庁

In this method, the adhesive property between an inorganic film and the organic thin film is improved by keeping the surface of a base film in a hydrophobic surface having a contact angle of ≥50° with water, after a base film forming process performed before the organic thin film is formed by the chemical vapor growth method or before an organic thin film forming process.例文帳に追加

有機物薄膜を化学的気相成長法により形成する前の下地膜形成工程の後処理あるいは有機薄膜成膜工程の前処理にて、その下地膜表面が水との接触角を５０°以上の疎水性の表面にしておくことで無機膜と有機物薄膜との密着性を向上させる。 - 特許庁

The image forming apparatus which performs an electrophotographic process containing electrification, exposure, development and transfer by using an electrophotographic photoreceptor is provided with a stabilizer supply apparatus for supplying a stabilizer to a photoreceptor surface and performs the electrophotographic process in such a manner that the wear rate of the photoreceptor surface becomes 0.2-5 nm/kcycle.例文帳に追加

電子写真感光体を用いて帯電、露光、現像、転写を含む電子写真プロセスを行う画像形成装置であって、感光体表面に安定剤を供給する安定剤供給装置を備え、且つ感光体表面の磨耗率が０．２〜５ｎｍ／ｋｃｙｃｌｅとなるように電子写真プロセスを行う画像形成装置。 - 特許庁

This method of detecting the volatile organic compound existing on the base material surface has (1) a process for bringing the compound into reaction with a volatility modifying reagent to make the compound nonvolatile, and (2) a process for measuring the base material surface by a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS) to detect the compound.例文帳に追加

基材表面に存在する揮発性有機化合物の検出方法であって、（１）該化合物と揮発性の修飾試薬とを反応させ、該化合物を不揮発化する工程、及び（２）飛行時間型二次イオン質量分析計（TOF-SIMS）により基材表面を測定し、該化合物を検出する工程、を有する、検出方法。 - 特許庁

The dielectric film forming method is provided with a process for improving the surface of a SiO_2 film 2 by irradiating the SiO_2 film 2 with plasma 3 and a process for forming an SBT raw-material film 5 by depositing mist of SBT raw-material 4 on the improved surface of the SiO_2 film 2.例文帳に追加

この誘電体膜の形成方法は、被成膜面としてのＳｉＯ_2膜２にプラズマ３を照射することによって、ＳｉＯ_2膜の表面を改質する工程と、その改質されたＳｉＯ_2膜の表面上に、霧状のＳＢＴ原料４を堆積することによって、ＳＢＴ原料膜５を形成する工程とを備えている。 - 特許庁