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surface processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9599件
At this time, a centrifugal force is generated by synchronizing a cleaning process fluid nozzle with the rotation of the substrate, and the foreign objects separated from the substrate surface are quickly removed to carry out cleaning of the substrate surface efficiently.例文帳に追加
このとき、洗浄処理流体ノズルと基板の回転を同期させることで遠心力を発生させ、基板表面から離脱させられた異物を速やかに排除し、基板表面の洗浄を効率的に行う。 - 特許庁
Further, this composite filter media structure includes a surface layer 20 deposited on one side of the base substrate where a thermal lamination process can be used to combine the base substrate and the surface layer 20.例文帳に追加
また、この複合フィルター媒体構造体は、ベース基材の1つの面上に設けられた表面層20を有しており、ここでベース基材を表面層20に結合させるには加熱積層プロセスを使用することができる。 - 特許庁
This image forming method is a method for forming an image on the surface of the coated paper by inkjet process and is characterized in that a surface modification treatment is performed right before (within 30 minutes) applying an ink to the coated paper.例文帳に追加
塗工紙の表面にインクジェットによって画像形成する方法において、該塗工紙にインキを塗布する直前に(30分以内に)表面改質処理を施すことを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁
To provide a process for easily preparing an ocular lens material having high oxygen permeability and excellent in surface wettability to water, surface lubricity, water retention, contamination resistance and biocompatibility at the same time.例文帳に追加
高酸素透過性を有するとともに、表面水濡れ性、表面潤滑性、保水性、耐汚染性および生体適合性にも同時にすぐれる眼用レンズ材料を容易に製造することができる方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a surface acoustic wave device, wherein no metallic particles are adhered to an electrode forming face of a surface acoustic wave element, even if a spark is produced in a process of welding a metallic lid to a base for configuring a package.例文帳に追加
パッケージを構成する基体に金属蓋を溶接する工程で火花が発生したとしても弾性表面波素子の電極形成面に金属粒が付着することのない弾性表面波装置を提供する。 - 特許庁
To provide a working method for a substrate surface in a surface antireflection structure at a low cost and of high performance, in the manufacturing process of a solar battery cell using a polycrystalline silicon substrate at a low cost.例文帳に追加
低コストな多結晶シリコン基板を用いる太陽電池セルの製造工程において、低コストかつ高性能な表面反射防止構造の基板表面の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
By executing a surface cleaning treatment to remove dust adhering to a surface of the photoresist film or a protective film, pattern defects caused by the duct in the second exposure process is reduced.例文帳に追加
第1の露光工程において発生し、フォトレジスト膜または保護膜上に付着したダストを表面洗浄処理して除去することにより、第2の露光工程でのダストに起因するパターン欠陥を低減する。 - 特許庁
This manufacturing method includes a process for molding a tire green cover RT using an unvulcanized bead apex rubber 9R having a non-smooth uneven region 12 provided to the inner surface 9i or outer surface 9o thereof in a tire axis direction.例文帳に追加
タイヤ軸方向の内面9i又は外面9oに非平滑な凹凸領域12を設けた未加硫のビードエーペックスゴム9Rを用いてタイヤ生カバーRTを成型する工程を含むことを特徴としている。 - 特許庁
This polishing pad made of a polylactic acid is easily decomposed by water, especially, an alkali aqueous solution, so that the decomposition of the surface is progressed during the polishing to expose a new surface, thereby simplifying a dressing process.例文帳に追加
また、ポリ乳酸からなる研磨パッドは、水、特にアルカリ性の水溶液によって、分解され易く、研磨中に表面の分解が進んで新しい表面が露出するので、ドレッシング工程を簡略化できる。 - 特許庁
This mold release film for the semiconductor sealing process includes a surface layer A, and a heat-resistant resin layer B, and a storage elastic modulus E' of the surface layer A is 45 MPa or more to 105 MPa or less at 175°C.例文帳に追加
表面層Aと、耐熱樹脂層Bと、を含む半導体封止プロセス用離型フィルムであって、前記表面層Aの175℃における貯蔵弾性率E’が、45MPa以上105MPa以下である。 - 特許庁
A sloped surface is formed, after the first insulating layer has been polished by CMP, and a planarization process further levels off this nonuniform surface, so that a uniform insulator thickness having a preferable sensor function is formed.例文帳に追加
第一絶縁層が、CMPにより研磨された後、傾斜表面が形成され、更に、平坦化工程によりこの不均一表面を除去し、好ましいセンサー機能を有する均一な絶縁体厚さを形成する。 - 特許庁
In this process, a disk body 1 having an outer peripheral shape with repeatedly formed projections and recesses is half-blanked from one surface of a sheet material W in the thickness direction thereof, and thereafter the disk body 1 is blanked from the other surface of the sheet material W in the thickness direction thereof.例文帳に追加
外周形状が凹凸繰り返し形状のディスク本体1を板材Wの板厚方向一方から半抜きした後に、ディスク本体1を板材Wの板厚方向他方から打ち抜く。 - 特許庁
To prevent deterioration of strength and degradation of quality of a glass tube due to a surface flaw with good reproducibility by reducing surface flaws over a whole process of producing various products using the glass tube.例文帳に追加
ガラス管を用いた各種製品の製造工程全体にわたって表面傷を生じにくくすることによって、表面傷に起因するガラス管の強度低下や品質低下等を再現性よく抑制する。 - 特許庁
To finish an etching epitaxial wafer and a mirror-surface wafer in a high planarity shape over the entire surface from a (high luminance) etching wafer by eliminating shape defects on the wafer periphery due to etching or polishing process works.例文帳に追加
エッチング加工や研磨加工によって発生するウエハ外周の形状不良を皆無にすることにより、(高輝度)エッチングウエハを素材とするエッチングエピタキシャルウエハ、及び鏡面ウエハを全面で平坦度の高いものに仕上げる。 - 特許庁
This sheet set 1 for the beautiful skin can exhibit the effect by just bringing the beautiful skin sheet 2 to contact with the skin surface, dispense with a process of coating the active ingredients on the skin surface and simplify the beautiful skin treatment itself.例文帳に追加
また、美肌シートセット1によれば、美肌シート2を皮膚面に接触させる操作を行うだけで、有効成分を皮膚表面に塗布する工程等が不要となり、美肌処理自体の簡略化を図ることができる。 - 特許庁
In a via hole formation process, first the surface of an insulating resin layer 27 is roughened, and after an electroless Cu plated film 31 is formed on the layer 27, a photosensitive resin layer 33 is formed on the surface of the film 31.例文帳に追加
ビアホール形成工程では、まず絶縁樹脂層27の表面を粗化し、無電解Cuメッキ被膜31を形成した後、無電解Cuメッキ被膜31の表面に感光性樹脂層33を形成する。 - 特許庁
To provide an organic electroluminescence element, which is formed with a color filter layer between a thin-film transistor and a first electrode, is simplified in processes, has high process safety and facilitates embodiment of front surface light emission and back surface light emission.例文帳に追加
薄膜トランジスタと第1の電極との間にカラーフィルタ層を形成して,工程を単純化し,工程安全性が高く,前面発光及び背面発光の具現が容易な有機電界発光素子を提供する。 - 特許庁
In this case, the grinding composition is constituted so as to be used in a grinding process for the purpose of improving the haze level of surface of the silicon wafer when the grinding is applied on the surface of the silicon wafer by dividing it into a plurality of stages.例文帳に追加
そして、研磨用組成物は、シリコンウエハ表面に複数段階に分けて研磨を施すときに、シリコンウエハ表面のヘイズレベルを改善する目的で行われる研磨工程に用いられるように構成されている。 - 特許庁
The manufacturing method for the printed-wiring board has a process in which a resin layer is formed on the surface of a core board, to which the conductor circuit is formed by a thermosetting resin composition containing polyamide-imide and the surface of the core board is smoothed.例文帳に追加
導体回路が形成されたコア基板表面に、ポリアミドイミドを含む熱硬化性樹脂組成物により樹脂層を形成しコア基板表面を平滑化する工程を有するプリント配線板の製造方法。 - 特許庁
The manufacturing process for a die used in an injection machine is characterized in that the plate surface configuration of the die to form at least one surface of the molded article is prepared by liquid droplet discharge.例文帳に追加
射出成形機に使用される金型の製造方法において、成形品の少なくとも一方の表面を成形する、前記金型のプレート表面形状を液滴吐出により作製することを特徴とする。 - 特許庁
The printable label layer including wet process silica ground to particles having an average secondary particle diameter of not more than 500 nm and polyvinyl alcohol is provided on the top surface opposite to the information recording surface of the optical information recording medium.例文帳に追加
光情報記録媒体の情報記録面とは反対側の最表面に、平均二次粒径500nm以下に粉砕された湿式法シリカ、及びポリビニルアルコールを含有するプリンタブルレーベル層を設ける。 - 特許庁
A reducing solution containing sulfite ions is applied to the surface of the layer 14 in a silver mirror post treating process step, by which hydroxy groups having an extremely high polarity are imparted to the surface of the layer 14.例文帳に追加
銀鏡後処理工程において、銀めっき層14の表面に亜硫酸イオンを含む還元性溶液を塗布することで、同銀めっき層14の表面に極めて極性の高いヒドロキシル基が付与される。 - 特許庁
The process for forming a color filter array layer on a transparent surface comprises the step of applying a water-borne solid-particle dispersion of randomly disposed colored beads of a water-immiscible synthetic polymer to the surface.例文帳に追加
水不混和性合成ポリマーのランダム配置された着色粒子の水性固体粒子分散物を、透明表面に適用する工程を含んでなる、透明表面上にカラーフィルターアレイ層を形成する方法。 - 特許庁
When electric parts 32 and 33 are connected to a second surface 14, the base board 10 is supported by the support board 20, so the electric parts 31 and 32 that are connected to the first surface 13 do not contact a process stage 51, suffering no damage.例文帳に追加
第二面14に電気部品32、33を接続するときには、支持基板20でベース基板10が支持され、第一面13に接続された電気部品31、32は処理台51に接触せず、ダメージを受けない。 - 特許庁
The other objective method for the surface processing of sweet roasted chestnuts is characterized by comprising the following process: raw chestnuts are roasted, the resultant sweet roasted chestnuts are then mixed and agitated with the surface processing agent preferably while they are hot.例文帳に追加
更に、本発明によれば、生栗を焙煎した後、好ましくは、未だ、熱い間に甘栗に上記表面加工剤を混合し、攪拌することを特徴とする甘栗の表面加工方法が提供される。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor of which the coefficient of surface friction is lowered without impairing surface strength, and which maintains that effect, and to provide a process cartridge with the electrophotographic photoreceptor and an electrophotographic apparatus.例文帳に追加
表面強度を損なうことなく表面の摩擦係数を低下させ、かつ、その効果が持続する電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁
Further, the method includes a process of depositing an oxide film 26 entirely over the semiconductor substrate 21 such that the upper surface of the oxide film 26 above the groove 24 is positioned to be higher than the surface of the nitride film 23.例文帳に追加
この方法はまた、溝24の上方における酸化膜26の上面が窒化膜23の表面より高い位置になるように、半導体基板21の上方全体に酸化膜26を堆積する工程を有する。 - 特許庁
During the process of mounting a cartridge 18 to the slider 40, the abutting surface 51a abuts on the insertion surface 19b of the cartridge 18 so that an insertion port of a cartridge 18 is covered with the first ink absorbing body.例文帳に追加
そして、カートリッジ18がスライダ40に装着される間、カートリッジ18の差込面19bに当接面51aを当接させて、カートリッジ18の差込口を第1インク吸収体で覆うようにした。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor having high surface strength, good surface smoothness and lubricity and capable of forming a ghost- free image, an electrophotographic device with the photoreceptor and a process cartridge.例文帳に追加
高い表面強度、良好な表面平滑性、及び潤滑性を有し、ゴーストのない画像を形成できる電子写真感光体、そのような電子写真感光体を備えた電子写真装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
This production process comprises: partly glazing the surface of a body 3 with a first glaze slurry 1 which contains a thickener such as CMC and is highly viscous, thereafter, further glazing the whole surface of the partly- glazed body 3 with a second glaze slurry 2, subsequently drying the resulting glazed body 3, and thereafter subjecting the dried body 3 to firing.例文帳に追加
CMCなどの増粘剤を添加した高粘性の第1の釉薬スラリー1を素地3上に部分的に掛けた後、第2の釉薬スラリー2を素地3の全面に掛け、その後、乾燥し、焼成する。 - 特許庁
A semiconductor substrate 1 is used, in which a first main surface 1a is provided with an electrode 3 to which a bump 4 is bonded in the ultrasonic bonding process, and a recess 2 is formed on the second main surface 1b on right above the connecting position of the bump 4.例文帳に追加
第一の主面1aにバンプ4が超音波ボンデングされる電極3を備え、バンプ4接続位置直上の第二の主面1bに窪み2が形成された半導体基板1を用いる。 - 特許庁
If the core of the blank appears on the surface layer of a raceway groove 21A in the forging process, on the surface layer of the raceway groove 21A, a number of extremely bent fiber flows T are observed to line up in rows with directionality.例文帳に追加
鍛造工程で素材の芯部が軌道溝21Aの表層部に出現すると、軌道溝21Aの表層部は、多数の鍛流線Tが極端に折れ曲がって方向性を持って並んだ状態になる。 - 特許庁
To solve a problem that the finished surface of a semiconductor mirror wafer is flawed with a probability not lower than 1% and sometimes cracked during a process for beveling, grinding and polishing a semiconductor wafer into a mirror wafer, and to protect the finished surface against flaw or crack.例文帳に追加
半導体ウエハーを面取り、研削、研磨してミラーウエハーとする工程において、半導体ミラーウエハーの仕上げ面に1%以上の確率で傷が入っていることがあり、ときに割れが発生することもある。 - 特許庁
This production process involves: forming a recessed and projecting pattern in one surface of a lightweight cellular concrete panel by a water jet machining method; and thereafter, forming grooves in the resulting panel surface provided with the recessed and projecting pattern by a cutting method.例文帳に追加
軽量気泡コンクリートパネルの一表面にウォータージェット加工により凹凸模様を形成し、その後、前記凹凸模様が施されたパネル表面に切削加工により溝部を形成することを特徴とする。 - 特許庁
To prevent an apparatus from undergoing secondary contamination by permitting a metal film, when deposited on a wafer surface, to go round a peripheral edge and a rear surface, and a conveyance arm of the apparatus of the next process to make contact with the metal film.例文帳に追加
金属膜をウェハ表面に成膜する際に周辺エッジ部および裏面に回り込み、次工程の装置の搬送アームが金属膜に接触することにより装置が二次汚染されることを防止する。 - 特許庁
When a core portion of the raw material appears on a surface layer portion of a raceway groove 21b in a forging process, the surface layer portion of the raceway groove 21b is put into the condition that a number of grain flows T are extremely bent and arranged side by side with their directivity.例文帳に追加
鍛造工程で素材の芯部が軌道溝21bの表層部に出現すると、軌道溝21bの表層部は、多数の鍛流線Tが極端に折れ曲がって方向性を持って並んだ状態になる。 - 特許庁
At a first process, an FPC 11 and an FPC 15 are vertically laid one upon the other so as to make the upper surface of a conduction part 13 of the FPC 11 contact with the lower surface of a conduction part 17 of the FPC 15.例文帳に追加
第一工程では、FPC11の導体部13の表面にFPC15の導体部17の裏面が接触するように、FPC11及び15同士が上下方向に重ね合わせられて配置される。 - 特許庁
To provide a method for discriminating the front/back of a one-side mirror surface processed article more simply at low cost in a small process without requiring application of a discrimination paint for discriminating the front/back of the one-side mirror surface processed article.例文帳に追加
片側鏡面加工品の表裏を判別するための識別塗料の塗布を無くし、より簡単に低コストで、少ない工程で、片側鏡面加工品の表裏を判別することができる方法を提供する。 - 特許庁
This process film for forming the cast film is formed by laminating a surface slip film, a pressure-sensitive adhesive layer and a transparent film in this order and constituted so as to be capable of integrally peeling and removing the surface slip film and the pressure-sensitive adhesive layer.例文帳に追加
表面滑り性フィルム、粘着剤層、透明フィルムがこの順で積層されており、該表面滑り性フィルムと該粘着剤層を一体として剥離除去可能としたキャスト製膜用工程フィルムにする。 - 特許庁
To provide a shear surface coating process for a clad member capable of allowing an outer face coating layer to remain on a shear surface, and completely connecting a connecting member inserted into a connection hole of the clad member by brazing.例文帳に追加
剪断面に外面被覆層を残すことが可能でクラッド部材の結合孔に挿通された結合部材をロウ付けにより完全に結合させることができるようになるクラッド部材の剪断面被覆工法の提供。 - 特許庁
To provide a method for producing a steel sheet having reduced surface defects, by which the problem of surface flaws generated near the end part in the width direction of a hot rolled steel sheet is solved without providing particular equipment nor increasing special process load.例文帳に追加
熱間圧延鋼板の幅方向端部近傍に発生する表面庇問題を特段の設備対応や工程負荷増なく無害化する表面欠陥の少ない鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a surface protective film without occurring unevenness on the surface in a heating process conducted for processing a material to be protected such as a plastic optical material or the like and even though in the case of being left under a high temperature environment in transporting or the like.例文帳に追加
プラスチック光学材料等の被保護物を加工時に行う加熱工程、及び、輸送時等に高温環境下に置かれた場合であっても、浮きが発生することのない表面保護フィルムを提供する。 - 特許庁
(3) It has a second process in which manufacturing of a reaction gas flow passage is carried out by the shot blast and a surface treatment work is carried out, and working of cooling water flow passage is carried out by the shot blast and the surface treatment work is carried out.例文帳に追加
(3) ショットブラストにより反応ガス流路加工を施すとともに表面処理加工を施し、ショットブラストにより冷却水流路加工を施すとともに表面処理加工を施す第2の工程を有する。 - 特許庁
The method of manufacturing the solar cell module includes mounting the light-receiving surface-side protective material 101 on a first projection portion 33 provided on an opposite surface 3S of a first support portion 3 in a laminating process for a laminate 100.例文帳に追加
太陽電池モジュールの製造方法では、積層体100のラミネート工程において、第1支持部3の対向面3Sに設けられる第1突起部33上に、受光面側保護材101を載置する。 - 特許庁
In a process for forming a separation groove for separating into chips by dry etching and then surface-roughening a surface where the n-type nitride semiconductor layer 2 is exposed, the side of the active layer 3 is melted and the width is narrowed.例文帳に追加
チップに分離するための分離溝をドライエッチングで形成した後、n型窒化物半導体層2が露出した表面の粗面加工を行う工程で、活性層3の側面が溶けて幅が狭くなったものである。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a water closet capable of manufacturing a wall surface piping type water closet and a floor surface piping type water closet by hardly changing a manufacture process, and to provide the water closet.例文帳に追加
製造工程を殆ど変更することなく、壁面配管タイプの水洗大便器及び床面配管タイプの水洗大便器を製造することができる水洗大便器の製造方法及び水洗大便器を提供する。 - 特許庁
To provide polishing pad profile modification equipment capable of reducing time and man power used in a process from a surface profile measurement of polishing pad to a job obtaining a desired accuracy of flatness of polishing pad surface profile.例文帳に追加
研磨パッドの表面形状測定から、研磨パッドの表面形状が所望の平坦性の精度を得るまでの時間と労力とを軽減することができる研磨パッド形状修正装置を提供すること。 - 特許庁
In a cutting process K4, regions corresponding to boundary regions between the circuit formation regions are cut to a prescribed depth from the surface opposite from the circuit-formed one, to form parts left untouched on the circuit-formed surface of the substrate.例文帳に追加
切削工程K4では、反対側表面から回路形成領域間の境界領域に対応する領域を、所定の深さまで切削手段で切削して回路形成面側に切り残し部を形成する。 - 特許庁
By blowing gas flow G containing an active species generated by air discharge P from the reaction container 1 to supply to a processed object 4, the surface treatment device to process a surface treatment of the processed object 4 is operated.例文帳に追加
気体放電Pにより生じる活性種を含むガス流Gを反応容器1から吹き出して被処理物4に供給することによって、被処理物4の表面処理を行う表面処理装置に関する。 - 特許庁
In the roundness applying part of at least a part of the surface of the pressure carving roll, the negative recessed structure of the pressure carving roll is provided in the surface region corresponding to the sheet region, where drawing is performed in the deep drawing process, in a contracted state.例文帳に追加
圧刻ローラの表面の少なくとも一部の丸み付け部において圧刻ローラのネガティブな凹み構造を、深絞り過程で引き延ばしの行われるシート領域に対応する面領域で縮小して設ける。 - 特許庁
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