「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(73ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method includes a process of heating a sound-absorbing raw material, having the thin film of aluminum foil arranged on one surface or both surfaces of the core material made of aluminum or aluminum alloy and a process of rolling the heated sound-absorbing raw material.例文帳に追加

製造方法は、アルミニウム又はアルミニウム合金よりなるコア材の片面又は両面にアルミニウム箔よりなる薄膜を配置した吸音素材を加熱する工程と、加熱された吸音素材を圧延する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor substrate includes a process of introducing the treatment liquid, containing a micro nano valve into a treatment tank, and a process of dipping the semiconductor substrate in the treatment liquid to form the protective film on the semiconductor substrate surface.例文帳に追加

処理槽に、マイクロナノバブルを含有する処理液を導入する工程と、この処理液中に半導体基板を浸漬し、半導体基板表面に保護膜を形成する工程を有することを特徴とする半導体基板の製造方法である。 - 特許庁

In an element unit measuring process 21, a position and a tilt of an imaging surface for a substrate of an element unit 6 in which a back side of the substrate is absorbed and held is measured by using a displacement/tilt sensor 27, and measured information is outputted to the adjusting/fixing process 22.例文帳に追加

素子ユニット計測工程２１は、変位・チルトセンサ２７を使用して基板の裏面を吸着保持した素子ユニット６の基板に対する撮像面の位置及び傾きを測定し、測定した情報を調整・固定工程２２に出力する。 - 特許庁

To provide a piezoelectric actuator obtaining stable drop ejection characteristics by eliminating an operation failure caused by the breakage of a vibrating plate including a thin film piezoelectric element and the exfoliation of a joint surface in a heating process in a manufacturing process and during the use of a product.例文帳に追加

製造過程での加熱工程及び製品使用時での薄膜圧電素子を含む振動板の破壊、接合面のはがれに起因する動作不良を解消して安定した滴吐出特性が得られる圧電型アクチュエーターを提供する。 - 特許庁

A microchannel chip manufactured by adhering resin members is obtained by implementing a hydrophilic process by a surface oxidation process on surfaces of two or more resin members, facing the processed surfaces, and bonding them by the thermal compression bonding.例文帳に追加

樹脂部材を貼り合わせて作製するマイクロ流路チップであって、二つ以上の樹脂部材の表面を表面酸化処理により親水化処理し処理面を向かい合わせて熱圧着にて接合させることによりマイクロ流路チップを得た。 - 特許庁

To provide a method of draining liquid on band iron capable of decreasing air consumption for continuously draining cleaning liquid adhered to the surface on the way running the cleaned band iron to a forming process in a manufacturing process of welding wire containing flux.例文帳に追加

フラックス入り溶接ワイヤの製造工程において、洗浄された帯鋼が成型工程へと走行する途中で、表面に付着した洗浄液を連続的に液切りするエア消費量の低減可能な帯鋼の液切り方法を提供する。 - 特許庁

In its manufacturing method, porcelain containing the oxides of at least an element selected out of Sr, Ba, and Ca and Ti obtained through a reduction baking process is made to undergo a re-oxidation process so as to develop compressive stress on its surface.例文帳に追加

その製造方法は、還元焼成処理によって得られたＳｒ、Ｂａ及びＣａのうちの少なくとも１種とＴｉからなる酸化物を含む磁器を再酸化処理することによって表面に圧縮応力を生ぜせしめる。 - 特許庁

The manufacturing method of the organic EL element comprises a process 1 of vapor-depositing a material containing alkali metal or alkali earth metal on the surface of a sputter target for a cathode electrode material, and a process 2 of forming a cathode electrode film by a sputtering method.例文帳に追加

カソード電極材用スパッタターゲット表面に、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属元素を含む材料を蒸着する工程１と、カソード電極をスパッタ成膜する工程２を有する有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the biochemical instrument has a first process for immersing the biochemical instrument in a water-soluble resin having a first functional group in its side chain to form a coating layer on the surface of the biochemical instrument and a second process for curing the coating layer.例文帳に追加

生化学用器具を側鎖に第１の官能基を有する水溶性樹脂に浸漬して表面に被覆層を形成する第１の工程と、前記被覆層を硬化する第２の工程とを有することを特徴とするものである。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a semiconductor device which can carry out sufficient heat treatment while minimizing aggravation of the surface state of an SiC wafer, and to provide a semiconductor device which is fabricated by the fabrication process and exhibiting excellent characteristics.例文帳に追加

ＳｉＣウェハの表面状態の悪化を抑制しつつ、十分な熱処理を実施することが可能な半導体装置の製造方法、および当該製造方法により製造されることにより、優れた特性を有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the oxidation of molten metal surface in a stoke at the molten metal discharge stage in a casting process and to execute the degassing of the molten metal in a holding furnace when the other process is executed, only by installing one of inert gas supplying pipe in the holding furnace.例文帳に追加

一の不活性ガス供給管を保持炉に設置するのみで、鋳造工程における湯切り工程の際にはストーク内における溶湯の湯面の酸化を防止し、それ以外の工程の際には保持炉内の溶湯の脱ガスを行うことができる。 - 特許庁

The groove forming process is a process for forming a groove type recess, recessed along the outer peripheral end 270 of the inner electrode layer 12 to expose the outer peripheral end 270, on the bracing surface 111 among the outer peripheral surfaces of the ceramic laminate 10.例文帳に追加

溝形成工程は、セラミック積層体１０の外周面のうち控え面１１１において、内部電極層１２の外周端部２７０に沿って凹み、外周端部２７０を露出させた溝状の窪み部を形成する工程である。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin composition for metal plating, providing high adhesive strength of plating and good surface appearance even by any process including nonchromium process, and securing sufficient impact resistance even if a molded product is thinned.例文帳に追加

ノンクロムプロセスを含めたいずれのめっきプロセスを適用しても、めっき密着強度を高く、表面外観を良好にできる上に、成形品を薄肉化しても充分な耐衝撃性を確保できるめっき用熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The SOC film 160 can be processed at low temperature, a fall problem can be prevented by minimizing stress applied to the vertical type transistor 150, and a CMP process can be eliminated because a surface roughening phenomenon supposed to occur in a high-temperature annealing process does not occur.例文帳に追加

SOC膜160は低温処理が可能であり、垂直型トランジスタ150に加えるストレスを最小化して倒れ問題を防止することができ、高温アニーリング工程で発生する表面の粗化現象がないので、CMP工程を省略することができる。 - 特許庁

An ejection recovery process is executed according to a vacuum process by rotating the cylindrical member 25 in a state with the cylindrical member 25 facing the head so as to have the vacuum holes 50 face successively a plurality of nozzles 15 provided on the nozzle surface of the head.例文帳に追加

ヘッドに円筒部材２５を対向させた状態で円筒部材２５を回転させ、各吸引穴５０をヘッドのノズル面に設けられた複数のノズル１５に順次対向させることにより、吸引処理により吐出回復処理を行う。 - 特許庁

To provide a process for cold-rolling an aluminum sheet at the lowest possible cost of producing a rolled aluminum sheet, which process comprises minimizing the concentration of an aliphatic alcohol or a fatty acid ester added in an amount within the scope not detrimental to the quality of the surface of the rolled aluminum sheet.例文帳に追加

脂肪族アルコールや脂肪酸エステルの添加濃度をアルミニウム板の表面の品質低下を招くことなく最低限のものとすることにより、アルミニウム板の製造コストを極力低減するアルミニウム板の冷間圧延方法を提供する。 - 特許庁

The alumina particles are manufactured by Bayer process (wet alkaline process) and they are spheric, making an crystal (corundum structure) and having 1 to 2 m^2/g specific surface area, ≤2.5 μm average volume particle diameter, ≤0.05% sodium content and 0.99 environmental change rate.例文帳に追加

アルミナ粒子はバイヤー法（湿式アルカリ法）で製造され、丸い形状で、α結晶（コランダム構造）をなし、比表面積が１〜２ｍ^2／ｇ、平均体積粒径が２．５μｍ以下、ナトリウム含有量が０．０５％以下、環境変動率が０．９９である。 - 特許庁

This manufacturing method is equipped with a nozzle hole covering process by forming a liquid repellent resin layer by lamination on the surface of the nozzle plate with nozzle holes and a process for removing the liquid repellent resin layer at the nozzle hole by self-alignment.例文帳に追加

ノズル孔を有するノズルプレートの表面に撥液性樹脂層をラミネートによって形成してノズル孔を覆う工程、ノズル孔の撥液性樹脂層をセルフアライメントで除去する工程を含む撥液性樹脂層付きノズルプレートの作製方法。 - 特許庁

Successively, an insulating layer 60 is formed so as to cover the individual electrodes 42, on the upper surface of the piezoelectric layer 41, by spraying an aerosol similar to an aerosol containing particles and carrier gas used in the piezoelectric layer forming process by the AD (aerosol deposition) method (blowing process).例文帳に追加

続いて、個別電極４２を覆うように圧電層４１の上面に、ＡＤ法により圧電層形成工程で用いた粒子とキャリアガスとを含んだエアロゾルと同様のエアロゾルを噴きつけて絶縁層６０を形成する（噴きつけ工程）。 - 特許庁

To provide blasting resistant high strength concrete which is not required to cover its surface with heat insulating material or the like, has little fear of a deterioration in and ununiformity of strength and of the lowering of fluidity when placed into molds and can be placed into molds with a process similar to the conventional placement process.例文帳に追加

表面を断熱材等で覆うことなく、かつ、強度の低下や不均一、及び打設時の流動性低下の虞が少なく、従来の打設工程とほとんど変わらない工程で打設可能な耐爆裂性高強度コンクリートを提供する。 - 特許庁

Voltage having a polarity reverse to an electrifying polarity is applied to the peripheral surface of the photoreceptor drum 1 through the contact member (fixed brush) 8 after the transfer process and also before an electrifying process, so that the occurrence of an optical memory is suppressed without causing remarkable dark decay.例文帳に追加

転写行程後かつ帯電行程前、接触部材（固定ブラシ）８を通じて、感光ドラム１周面に帯電極性とは反対の電圧を印加することにより、顕著な暗減衰を生じさせることなく光メモリの発生を抑制する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having excellent adhesion property, reducing deficiencies at rib tops and to be used as a mask material for sand blasting so as to process a fine pattern on a substrate to be processed with high yield, and to provide a surface process method by sand blasting by using the laminate.例文帳に追加

密着性に優れ、リブ頂部欠損を低減し、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたサンドブラスト表面加工方法を提供する。 - 特許庁

The substrate rotator 101 has a process liquid supplier 110 for supplying the process liquid to the surface facing the substrate rotator 101 of the substrate W, and a regulator 105 for regulating the relative motion of the substrate W with respect to the substrate rotator 101.例文帳に追加

基板回転部１０１は、基板Ｗの基板回転部１０１と対向する面に処理液を供給する処理液供給部１１０と、基板回転部１０１に対する基板Ｗの相対的な動きを規制する規制部１０５とを有する。 - 特許庁

The exhaust gas which is discharged from an etching process or a cleaning process and contains gaseous fluorine or gaseous halogen fluoride is introduced in a combustion apparatus having a combustion chamber on a surface of which a fluoridized passive film is formed and the exhaust is burned.例文帳に追加

エッチング工程またはクリーニング工程から排出される、フッ素ガスまたはフッ化ハロゲンガスを含む排ガスを、表面にフッ化不動態膜が形成された燃焼室を備えた燃焼装置に導入し、前記排ガスを燃焼させる処理方法。 - 特許庁

This asbestos layer sealing treatment method comprises a process for impregnating an asbestos solidifying material into the asbestos layer, and a process for coating the surface of the asbestos layer with a glass flake coating material or a fiber reinforced coating material.例文帳に追加

前記アスベスト層を封込め処理する方法であって、当該アスベスト層にアスベスト固化剤を含浸させる工程と、当該アスベスト層表面にガラスフレーク塗料または繊維強化塗料を被覆する工程からなるアスベスト層の封込め処理工法。 - 特許庁

The coating film for the display device is formed by performing a coating film forming process of forming the film having anti-dazzle characteristic and a wiping process of wiping the surface of the film using a wiping material.例文帳に追加

シリカを含有する塗料をスプレー法により塗着し、防眩性を有する膜を形成する塗膜形成工程、および上記膜の表面をワイピング材を用いてワイピングするワイピング工程を施すことにより表示装置用コーティング膜を形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the liquid fertilizer includes a process for adjusting the concentration of at least one element selected from the group consisting of nitrogen, phosphorus, and potassium in the phosphorus component-containing waste liquid used for the surface chemically-modifying process of the metal.例文帳に追加

本発明はまた、金属の表面化工工程に用いたリン成分含有廃液中の、窒素、リン、およびカリウムからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素の濃度を調節する工程を含む、液状肥料の製造方法である。 - 特許庁

The method for forming the surface of the sliding member comprises a carburizing treatment process for carburizing a base metal consisting of a ferrous alloy including Cr, and a nitriding treatment process for nitriding the carburized base metal.例文帳に追加

本発明の摺動部材の表面形成方法は、Ｃｒを含む鉄系合金よりなる母材に浸炭処理を施す浸炭処理工程と、浸炭処理が施された母材に窒化処理を施す窒化処理工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a tempered glass plate includes a chemical tempering process of chemically tempering a glass plate, and a polishing process of, after the tempering, polishing the surface of the glass plate by using slurry containing colloidal silica having an average particle diameter of 80 nm or less.例文帳に追加

ガラス板を化学強化する化学強化工程と、前記化学強化工程後に、前記ガラス板の表面を、平均粒径が８０ｎｍ以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する強化後研磨工程と、を含む、強化ガラス板の製造方法。 - 特許庁

A pressing load is loaded onto the plurality of portions of the surface of a side opposite to the wafer side of a pressing component, when a plurality of probes provided in a thin film are pressed, using the pressing component in a probe inspection process and/or a burn-in inspection process.例文帳に追加

プローブ検査工程および／またはバーンイン検査工程において、押圧部材を用いて薄膜に設けられた複数のプローブをウェーハに押圧する時には押圧部材のウェーハ側とは反対側の面の複数の箇所に押圧荷重を負荷させる。 - 特許庁

To provide a method for easily evaluating the successfulness of a pick-up process in the manufacturing process of semiconductor devices, without having to carry out a large number of experiments using a real machines, even for the case where a method of pasting a tape on the backside surface of a wafer is used.例文帳に追加

ウェハ裏面貼付方法を用いた場合であっても、半導体装置の製造工程におけるピックアップ工程での成功性を、実機での多量の実験をすることなく簡易的に評価することができる評価方法を提供すること。 - 特許庁

For the silicon in the melting process, the silicon melting advances to a depth; whereas, for the silicon in its solidifying process, reflection of the vertical vibration to the surface of the sample 42 can strongly promote (111) crystal orientation.例文帳に追加

溶融過程のシリコンに対しては深部に亘ってシリコンの溶融を進行させ、凝固過程のシリコンに対しては試料４２表面に垂直な方向への揺動が反映することにより（１１１）結晶配向性を強く促進させることができる。 - 特許庁

A positioning mark is formed in a wiring surface side of a silicon substrate by appropriating an active region or a gate electrode used in a MOS transistor preparation process, for example, for stepper positioning in a manufacturing process of a backside illumination type CMOS image sensor.例文帳に追加

裏面照射型ＣＭＯＳイメージセンサの製造工程において、ステッパ合わせを行うために、例えばＭＯＳトランジスタ作成工程で用いる活性領域またはゲート電極を流用してシリコン基板の配線面側に位置合わせマークを形成する。 - 特許庁

The combination of a process pressure below about 1 Torr with a hydrogen flow rate up to about 3 standard later for minute (SLM) has been found to remove substantially all oxygen contamination from the surface of the silicon wafer at a process temperature less than about 800°C without the use of a reactive gas.例文帳に追加

約１トール以下の処理圧力と約３ＳＬＭまでの水素流量の組合せによって、反応性ガスを用いずに約８００未満の処理温度でシリコンウエハ表面から酸素汚染を実質的にすべて除去されることが分かった。 - 特許庁

The plasma processing device guides the microwaves M transmited inside a wave guide 3 from first and second slot antennas provided to a magnetic field surface H, forms a surface wave S, produces surface wave excitated plasma P by exciting process gas inside a chamber 4 by the surface wave S and processes a processing object by the plasma P.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、導波管２内を伝播するマイクロ波Ｍを磁界面Ｈに設けられた第１および第２のスロットアンテナからマイクロ波導入窓３に導き、表面波Ｓを形成し、表面波Ｓによってチャンバー４内のプロセスガスを励起して表面波励起プラズマＰを生成し、このプラズマＰにより被処理物を処理する。 - 特許庁

To provide a method of forming a surface protective film, which occupies a small space, has few production man-hours and excellent mass productivity, the method sticking powder coating to all except for a terminal surface for mounting by forming the surface protective film by the powder coating on a plurality of surface-mounted electronic components and therefore dispensing with a cutting process.例文帳に追加

占有スペースの少なく、かつ製造工数の少ない量産性に優れた方法において、複数の表面実装型電子部品を粉体塗装にて表面保護膜を形成することにより、粉体塗料を実装用端子面以外全てに付着させることができ、切断工程が不要な表面保護膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

The process entails performing a first peening operation to form residual compressive stress layers in the near-surface region of the component, and then performing at least a second peening operation to cause surface smoothing of the surface of the component while retaining residual compressive stresses in the near-surface region of the component.例文帳に追加

この処理は、第１のピーニング工程を実施することによって部品の表面近くの領域内に残留圧縮応力層を形成するステップと、次に、少なくとも第２のピーニング工程を実施することによって部品の表面近くの領域内の残留圧縮応力を保持しながら部品の表面の表面平滑化を行うステップとを含む。 - 特許庁

In a process liquid supplying method, a template 60 which has plural opening portions 90 formed at places corresponding to predetermined positions on a surface 60a and flow paths 91 intercommunicating from the opening portions 90 formed on the surface 60a to a back surface 60b of the template 60 is mounted on a spin chuck 62 for rotating the template 60 while holding the back surface 60b of the template 60.例文帳に追加

処理液供給方法であって、表面６０ａにおいて、所定の位置に対応する箇所に開口部９０が複数形成され、且つ表面６０ａに形成された開口部９０から裏面６０ｂに連通する流通路９１を備えたテンプレート６０を、テンプレート６０の裏面６０ｂを保持して回転させるスピンチャック６２に載置する。 - 特許庁

The image forming method includes a process of removing the toner remaining on the surface of a photoreceptor which has a resin layer containing at least metal oxide particles on the uppermost surface with the member in which bias impression is performed, wherein chemical bonds are formed between a resin component constituting the resin layer on the uppermost surface of the photoreceptor and the surface of the metal oxide particles.例文帳に追加

少なくとも、金属酸化物粒子を含有する樹脂層を最表面に有する感光体表面に残留したトナーをバイアス印加させた部材で除去する工程を有する画像形成方法で、感光体最表面の樹脂層を構成する樹脂成分と金属酸化物粒子表面の間に化学結合が形成されている。 - 特許庁

A method of selectively forming a germanium structure within semiconductor manufacturing processes removes the native oxide in a chemical oxide removal (COR) process and then exposes the heated nitride surface and a oxide surface to a heated germanium containing gas to selectively form germanium only on the nitride surface but not the oxide surface.例文帳に追加

半導体製造プロセス中でゲルマニウム構造体を選択的に形成する方法は、化学的酸化物除去（ＣＯＲ）プロセスにおいて自然酸化物を除去し、次いで、加熱された窒化物及び酸化物表面を加熱されたゲルマニウム含有ガスに曝して、ゲルマニウムを選択的に窒化物表面上にだけ形成し、酸化物表面上には形成しない。 - 特許庁

The mold 20 has a molding surface 20a of which the shape corresponds to the surface shape of the laminated resin product formed to the upper surface thereof and a suction pump 21 applying negative pressure in a molding process is connected to a plurality of the suction ports 20b opened to the molding surface 20a at predetermined places through a suction passages consisting of branch pipelines 20c or the like.例文帳に追加

成形型２０は、積層樹脂製品の表面形状に対応する成形面２０ａをその上面に形成し、成形面２０ａの所定箇所にて開口した複数の吸気口２０ｂに成形工程にて負圧を付与する吸気ポンプ２１が分枝管路２０ｃ等からなる吸気通路を介して接続されている。 - 特許庁

The article is manufactured by a method including a mirror surface precision machining process for performing precision machining for a surface to be machined of a material to be cut by ultrasonically vibrating a tool having a machining surface of a shape in which a partial shape of the article to be manufactured is reversed in the vicinity of the surface to be machined, while interposing machining grains dispersed in machining liquid.例文帳に追加

加工液に分散した加工粒を介在させながら、製造する物品の一部の形状を反転させた形状の加工面を有する工具を被削材の被加工面近傍において超音波振動させて、被削材の被加工面を精密加工する鏡面精密加工工程を含む方法によって物品を製造する。 - 特許庁

One part in the medium facing surface and the other part are formed of the plurality of conductive materials different from each other, so that the medium facing surface different in height of both parts is easily formed by a surface removal process by polishing, etching, or the like from the medium facing surface side on the basis of the difference in the materials.例文帳に追加

媒体対向面の内の一の部分と他の部分とが互いに異なる複数の導電材料から形成されているので、このような媒体対向面は、媒体対向面側から研磨やエッチング等による表面除去工程により、一の部分と他の部分との高さの差が材料の違いに基づいて容易に形成される。 - 特許庁

In carrying out a salicide process, at least in a part of an exposure region of a semiconductor substrate surface other than an element formation region, a salicide block used as a mask preventing a silicide layer from being formed on the semiconductor substrate surface in the exposure region of the semiconductor substrate surface other than the element formation region is formed on the semiconductor substrate surface.例文帳に追加

サリサイド工程を行うに際し、素子形成領域以外の半導体基板表面の露出領域の少なくとも一部に、素子形成領域以外の半導体基板表面の露出領域の半導体基板表面にシリサイド層が形成されることを防止するマスクとなるサリサイドブロックを半導体基板表面上に形成する。 - 特許庁

To provide a technique by which a metallic oxide film deposited on a metallic surface can be subjected to removing tretment for oxide so that the surface is made smooth and uniform without roughening the metallic surface after the removal of the oxide which has been shown in the conventional etching process, and the metallic oxide film deposited on the metallic surface can be removed even in the case energizing operation is difficult.例文帳に追加

金属表面に形成される金属酸化物被膜を、従来のエッチング法のように酸化物除去後の金属表面が荒らされることなく、表面平滑且つ均一に酸化物の除去処理が行え、通電操作が困難な状態場合でも金属表面に形成された金属酸化物被膜が除去できる技術を提供する。 - 特許庁