「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(75ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a sintering method that does not form such a surface layer as mainly consists of bonding phases in a sintering process, concerning on a surface property of a hard metal or a cermet alloy produced by powder metallurgy.例文帳に追加

超硬合金やサーメット合金を粉末冶金法で製造する際の表面性状につき、焼結工程において、結合相が主成分で構成された表面層が形成されないような焼結方法を提供する。 - 特許庁

When the projection 52 is detected in the first process, an interface part between the transparent substrate 54 and the opaque film 56 is observed from the opposite surface side opposite to the film-formation surface by the second camera 16.例文帳に追加

第１工程で突起５２が検出された場合に、その突起５２の位置において、第２カメラ１６により、成膜表面とは反対の反対面側から透明な基板５４と不透明な膜５６との界面部を観察する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor wafer and a semiconductor device which includes annealing, a process of curing defects on the semiconductor wafer or on the surface of a semiconductor device to reduce a surface roughness caused by the defects.例文帳に追加

半導体ウェーハまたは半導体素子の基板表面に存在する欠陥をキュアリングし、それに起因する表面粗さを改善させるアニーリングを伴った半導体ウェーハ及び半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a synthetic quartz glass substrate having high flatness to perform fine drawing as well as having a substrate surface with less defect and minimal surface roughness, as a synthetic quartz glass substrate for a photomask used in a photolithography process or the like.例文帳に追加

光リソグラフィー法等で使われるフォトマスク用合成石英ガラス基板として、平坦度が良く微細な描画を行うことができ、かつ基板表面が低欠陥で面粗さの小さい合成石英ガラス基板を提供する。 - 特許庁

An oxide silicon film 7a is formed on the surface of a substrate 1, and applied with a nitriding process which uses a nitrogen active radical generated by plasma, so that the surface of oxide silicon film 7a is changed into a nitride layer 7b.例文帳に追加

基板１の表面に酸化シリコン膜７ａを形成した後、この酸化シリコン膜７ａにプラズマによって生成した窒素の活性基を用いた窒化処理を施して、酸化シリコン膜７ａの表面を窒化層７ｂに変える。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a decorated block for a wall surface, which is attached with a titanium oxide film functioning as a photocatalyst and hardly increases its manufacture cost even when being incorporated in the manufacturing process of a general decorated block for wall surface.例文帳に追加

一般的な壁面用化粧ブロックの製造工程に組み込んでも、製造コストを増大させることの少ない、光触媒として機能する酸化チタン膜が付与された壁面用化粧ブロックの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To stably hold left-right glasses particularly, sticking glasses onto the whole surface of the wall surface of a building without using an opening frame such as a sash, to easily improve the accuracy of manufacture for such a process, and to enhance finished appearance.例文帳に追加

サッシのような開口枠を使うことなくビルの壁面の全面にガラスを貼りながら、特に、左右のガラスの保持を安定しておこない、このようにするための製作精度を容易に高め、しかも、仕上り外観を高める。 - 特許庁

The three-dimensional measured die data and the model data are placed in proximity to each other, and a stacking and deforming process is performed in order to project a model surface 16 represented by the model data onto a measured data surface 10 represented by the three-dimensional measured die data (S12).例文帳に追加

金型３次元測定データとモデルデータとを近接配置し、モデルデータで示されるモデル面１６を、金型３次元測定データで示される計測データ面１０に投影させるための積層変形を行う（Ｓ１２）。 - 特許庁

This method for producing a surface-modified rubber comprises a process of making surface treatment of a discarded cured rubber with a radical generator at such a temperature as to be ≥20°C lower than the temperature at which the half-life of the radical generator comes to one minute.例文帳に追加

ラジカル発生剤の半減期が１分間となる温度より２０℃以上低い温度において、該ラジカル発生剤を用いて廃棄加硫ゴム表面の処理を行う工程を含む表面改質ゴムの製造方法である。 - 特許庁

The insulating resin layer 41 is subjected to polishing process to form a surface-polished insulating resin layer 41a and solder bumps 31a from which one part of the surface is exposed, and a copper foil is laminated and a resulted object is heated and pressed to form a conductor layer 51.例文帳に追加

絶縁樹脂層４１を研磨処理し、表面研磨された絶縁樹脂層４１ａ及び表面が一部露出したはんだバンプ３１ａを形成し、銅箔をラミネートし、加熱、加圧して導体層５１を形成する。 - 特許庁

To provide an ink jet recording paper sheet which is free from the generation of blister on a recording image surface, even when a protective layer comprising a transparent resin is deposited on the surface of an ink receiving layer through a heating process, after an image recording is performed on the ink receiving layer.例文帳に追加

インク受理層に画像を記録した後、該インク受理層の表面に加熱工程を経て透明樹脂からなる保護層を設ける場合でも、記録画像面にブリスターの発生がないインクジェット記録用紙を提供する。 - 特許庁

The tilting of the scanning line on a surface of a photoreceptor drum being a latent image carrier is adjusted according to the ratio K of the scanning speed Vimg of a light beam scanning the surface of the photoreceptor drum and the linear speed (process linear speed) V of the photoreceptor drum.例文帳に追加

潜像担持体たる感光体ドラム表面を走査する光ビームの走査速度Ｖｉｍｇと、感光体ドラムの線速（プロセス線速）Ｖとの比率Ｋに応じて、感光体ドラム上の走査線の傾きを調整する。 - 特許庁

To obtain an exhaust gas treating system for surface treating equipment in which a CVD system and exhaust gas treating equipment are linked, and, in the process of the operation by the surface treating equipment, the change of harm removal treating cylinders is not performed in the exhaust gas treating equipment.例文帳に追加

ＣＶＤ装置と排気ガス処理装置とを連動させて、表面処理装置が作業中は、排気ガス処理装置では除害処理筒の切替が行われない表面処理装置用排気ガス処理システムを得ること。 - 特許庁

To provide a film which is excellent even in suitability for a coating process, wherein when a coated layer is provided on a film surface, an oligomer deposited onto the coated layer surface is little and even when treated at a high temperature, decrease of transparency is not caused.例文帳に追加

フィルム表面に塗布層を設けたときに、その塗布層表面に析出するオリゴマーが少なく、高温下で処理した場合でも透明性の低下を起こすことのない、塗布工程適性にも優れたフィルムを提供する。 - 特許庁

In order to simplify the warping process, at least two dividing rods of the plurality of the dividing rods 17-29 are arranged on the peripheral surface positions of the warping drum 2 and the tangent lines of these peripheral surface positions have an angle of ≥45°.例文帳に追加

整経工程を簡略化するためにも、複数のデバイディングロッド１７〜２９のうち少なくとも２つのデバイディングロッドが整経ドラム２の周面位置に配置されており、これら周面位置の接線が４５°以上である。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having high surface hardness of the photoreceptor and high mechanical strength in an electrophotographic process, i.e., the high durability to the occurrence of significant wear, flaws, etc., on the surface of the photoreceptor by rubbing.例文帳に追加

感光体の表面硬度が高く、電子写真プロセスにおける機械的強度、つまり摺擦による感光体表面の著しい摩耗や傷の発生などに対して、高耐久性を有する電子写真感光体を提供する。 - 特許庁

The method comprises a process in which a master mold 30 having the recessed and protruded pattern is pressed on the surface of a metal part 3a having a surface of an arithmetical mean degree of roughness Ra of 100 nm or smaller to transfer the recessed and protruded pattern 4 to the metal part 3a.例文帳に追加

算術平均粗度Ｒａが１００ｎｍ以下の表面を有する金属部３ａの表面に、凹凸パターンを有するマスターモールド３０を押し付けて、凹凸パターン４を金属部３ａに転写する工程を有する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of crack on the inside surface of a glass tube base material in a process for vapor-depositing a glass component on the inside surface of the glass tube base material with the excitation of plasma inside the glass tube base material by a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition).例文帳に追加

プラズマＣＶＤによりガラス管基材の内部にプラズマを励起させて当該ガラス管基材の内面にガラス成分を蒸着させるプロセスを行うに際して、ガラス管基材の内面にクラックを生じさせない。 - 特許庁

In this way, coating traces of the adhesive 75 caused by the coated adhesive 75 never emerge on the printed surface after the process, and even the lower side layer 73 of printing material never be separated upon the separation of a transparent film for printing surface protection.例文帳に追加

これにより、塗付された接着剤７５に起因して接着剤７５の塗付跡が製版後に印面に現れず且つ印面保護用透明フィルムの剥離の際に印材の下側層７３までもが剥離されることがなくなる。 - 特許庁

Accordingly, the process of backfilling the space between the injector mounting part and the outer surface of a delivery pipe is dispensed with, different from the drilling of a hole-like space extending from the outer surface of the delivery pipe to the main passage across the injector mounting part.例文帳に追加

よって、デリバリパイプの外面からインジェクタ取付部を横切って主経路に達する孔状の空間を穿孔した場合とは異なり、インジェクタ取付部とデリバリパイプの外面との間の空間を埋め戻すという工程が不要である。 - 特許庁

To provide a surface light-emitting laser that, even if a shape of a step structure is changed in manufacturing process, suppresses the influence of the change to a far field pattern (FFP), and an image forming apparatus using the surface light-emitting laser.例文帳に追加

作製プロセスにおいて段差構造の形状が変動したとしても、この変動がＦＦＰに与える影響を抑制することができる面発光レーザ、および、該面発光レーザを用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

As a gate region is formed of an N+ diffusion layer 11 located under a channel region 14, the surface of the channel region 14 is restrained from increasing in surface roughness by a flattening process, and a thin film transistor is restrained from deteriorating in driving capacity.例文帳に追加

ゲート領域が、チャネル領域４の下にあるｎ^+ 拡散層１１によって形成されているので、平坦化プロセスによってチャネル領域１４の表面粗さが大きくならず、薄膜トランジスタの駆動能力の低下を抑制する。 - 特許庁

An optical data gathering part 38 collects an optical data on the surface of a normal polishing pad preventing the occurrence of a deficiency in a wafer during a polishing process, and an optical data on the surface of a polishing pad 30 which is an object for inspecting a deficiency.例文帳に追加

研磨工程実施時にウェーハに不良を発生させない正常な研磨パッドの表面の光データと、欠陥を検査する対象の研磨パッド３０の表面の光データとを光データギャザリング部３８により収得する。 - 特許庁

The simplified surface is draped with the wire-frame description by a wire frame draping process, one or a plurality of draped line segments are simplified, and the simplified line segments and the simplified surface description are subjected to rendering to a display device.例文帳に追加

ワイヤフレーム・ドレーピング・プロセスによって、ワイヤフレーム記述を簡略化された面にドレーピングし、ドレーピングされた線分の１つまたは複数を簡略化し、簡略化された線分および簡略化された面記述を、ディスプレイ装置にレンダリングする。 - 特許庁

To uniformly flatten the entire surface of a wafer and to replace a conventional CMP process by spraying a fume of an etching liquid with high pressure to the surface of a wafer rotating at a high speed.例文帳に追加

高圧の蝕刻液の蒸気を高速で回転するウェハ表面に噴霧することで、ウェハの全面を均一に平坦化することができて、従来のＣＭＰ工程を取り替えることができるウェハの平坦化方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface acoustic wave device composed of a plurality of piezoelectric thin film resonators which can be formed on the same substrate in a short manufacturing process and have different resonance frequencies, and a manufacturing method of the surface acoustic wave device.例文帳に追加

短い製造工程で同一基板上に形成可能なそれぞれ異なる共振周波数を有する複数の圧電薄膜共振器からなる弾性波デバイスおよび弾性波デバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a second process, a tape like solder 24 having a size that covers the connection surface and a rectangular cross section is prepared and the conductor strip 2 is integrated with the tape like solder 24 with the tape like solder 24 facing the connection surface.例文帳に追加

第２の工程で、接続面を覆う大きさを有する断面矩形状のテープ状半田２４を用意したうえで接続面にテープ状半田２４を相対させて導体条２とテープ状半田２４とを一体化する。 - 特許庁

To form any barrier rib such that a height of a part of the rib is different from a height of other parts in a uniform shape across a whole surface of a panel regardless of its size in an AC type PDP rear surface panel barrier rib manufacturing process.例文帳に追加

ＡＣ型ＰＤＰの背面パネルのバリアリブ製造工程において、その一部分の高さがその他の部分の高さと異なる任意のバリアリブを、その大きさによらず、且つパネル全面にわたって均一な形状で形成する。 - 特許庁

To provide a method of removing irregular color on the surface of concrete which can suppress a concrete structure from disfiguring due to irregular color caused by efflorescence produced on the surface of a concrete structure is suppressed with a simple process.例文帳に追加

コンクリート構造物表面に生じたエフロレッセンスに起因する色むらにより、コンクリート構造物の美観が損なわれることを簡易な方法で抑止することのできる、コンクリート表面の色むら除去方法を提供する。 - 特許庁

To eliminate exposure process, when forming a fluorescent surface of each color to reduce cost of an apparatus used for it, improve adhesion of the fluorescent surface to the inner face of the panel, and provide an image display device having satisfactory color reproducibility.例文帳に追加

各色の蛍光体面を形成する際の露光工程を無くしそれに用いる装置のコストダウンを図ると共に、パネル内面に対する蛍光体面の接着力の向上を図り色再現性のよい画像表示器を提供する。 - 特許庁

The surface of a rigid roller 47c is subjected to a coating process so that its friction coefficient is made greater than that of the surface of a elastic roller 47b, while the diameter of the rigid roller 47c is made smaller than the elastic roller 47b.例文帳に追加

剛体ローラ４７ｃの表面をコーティング処理して剛体ローラ４７ｃ表面の摩擦係数を弾性ローラ４７ｂ表面の摩擦係数よりも大きくし、かつ剛体ローラ４７ｃの径を弾性ローラ４７ｂの径よりも小さくする。 - 特許庁

To provide an organic photoreceptor which has no image blur or the like though it is an organic photoreceptor, and in which surface flaws and wear are hard to occur owing to its high surface strength, and to provide an image forming apparatus and a process cartridge.例文帳に追加

有機感光体であるに係わらず長期使用されても画像ボケ等がなく、しかも、表面強度が高いので、表面傷や摩耗が生じにくい有機感光体と、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a surface modification method for a metal member, which gives a superior modified layer with cavitation erosion resistance on a part needing the surface modification in a comparatively cheap process, and a metal member having the modified layer.例文帳に追加

表面改質が必要な部位に比較的安価な処理で耐キャビテーション・エロージョン性に優れた改質層を得ることができる金属製部材の表面改質方法及び改質層を有する金属製部材を提供すること。 - 特許庁

After an initial crack is formed, a cutting surface 110 is formed at the non-metallic substrate 100 by propagating the initial crack and thereafter the continuous formation of the crack to be intersected with the cutting surface without stopping a cutting process is made possible.例文帳に追加

初期クラックを形成した後、初期クラックを伝播して非金属基板１００に切断面１１０を形成した後、切断面と交差されるクラックを切断工程の停止なしに連続的に形成することができるようにする。 - 特許庁

In the vulcanization process, surface of the metal layer 4 is sulfurated through the reaction of sulfur in the rubber composition 5, and a metal of the metal layer 4 and an anti-glare layer 6 composed of a metal sulfide is formed on the surface of the metal layer 4.例文帳に追加

加硫工程において、ゴム組成物５中の硫黄と金属層４の金属との反応で、金属層４の表面が硫化され、金属層４の表面に金属硫化物よりなる防眩層６が形成される。 - 特許庁

To provide an improved composition for surface treating which finishes a surface with high smoothness while minimizing damage on a base material when a Si base material is cleaned and/or etched in a process for manufacturing a single crystal silicon and a wafer.例文帳に追加

単結晶ケイ素およびウェファーの製造工程でＳｉ基材を洗浄及び／又はエッチングするときに、基材の損傷を最小化しつつ高平滑度に仕上げる改良された表面処理用の組成物を提供する。 - 特許庁

In the combined contaminant removal process in the latter stage, cleaning of the surface of the silicon boat with the mixed liquid of sulfuric acid and hydrogen peroxide solution removes the combined contaminant of the organic matter and metal impurities attached on the surface of the silicon boat.例文帳に追加

後段の複合汚染物除去工程では、硫酸と過酸化水素水の混合液でシリコンボート表面を洗浄することで、シリコンボート表面に付着した有機物と金属不純物との複合汚染物を除去する。 - 特許庁

Before an electrode forming process for forming a negative electrode (n electrode c) on the polished surface of the semiconductor substrate (a) consisting of a group III conductive nitride compound semiconductor and has already been polished, the polished surface is dry-etched.例文帳に追加

既に研磨加工された導電性の ＩＩＩ族窒化物系化合物半導体から成る半導体基板ａの被研磨面に負電極（ｎ電極ｃ）を形成する電極形成工程の前に、その被研磨面をドライエッチングする。 - 特許庁

To provide an electrodeposition coating process giving improved durability against mechanical stress on the surface of an electrodeposited substrate and improved resistance to corrosion on the surface and edge of the electrodeposited substrate.例文帳に追加

本発明は、電着された基材表面の機械的応力に対する向上した耐久性、電着された基材表面およびエッジの良好な腐食に対する保護を提供する電着塗装方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To obtain a hydrogen storage alloy electrode that has a high discharge capacity by providing a process method in which the hydrogen storage alloy powder surface is activated by a hydrogen gas reduction treatment and the surface activation can be maintained.例文帳に追加

水素ガス還元処理を行って水素吸蔵合金粉末表面を活性にしても、この表面活性を維持できるような処理方法を提供して、放電容量に優れた水素吸蔵合金電極を得られるようにする。 - 特許庁

To specify a process of generating a defect, or to detect the defect, even in an area that is not formed with a repeeated pattern on a wafer surface, when detecting the defect appearing on the semiconductor wafer surface by visual inspection.例文帳に追加

外観検査により半導体ウエハの表面に現れる欠陥を検出する際に、欠陥を生じた工程を特定する、或いはウエハ表面に繰り返しパターンが成形されていない領域においても欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a process for attaining a higher functionalization on the surface of a resin, in an injection molding method for conducting a surface modification at a resin injection by using a supercritical fluid such as carbon dioxide or the like as a solvent.例文帳に追加

二酸化炭素等の超臨界流体を溶媒に用い射出成形等の樹脂成形時に表面改質する射出成形方法において、より樹脂表面の高機能化を達成するプロセスを提案すること。 - 特許庁

A wafer W is heated on a hot plate 45 to a predetermined temperature, and, in such condition, a hydrofluoric acid vapor is introduced to the surface of the wafer W, and the process for removing the film which removes an oxide on the wafer surface by vapor-phase processing is performed.例文帳に追加

ホットプレート４５上でウエハＷを所定温度に加熱し、その状態で、ウエハＷの表面にふっ酸蒸気を導き、気相エッチング処理によってウエハＷの表面の酸化膜を除去する膜除去工程を行う。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning method which allows adhering of rigid hydrocarbon on a substrate surface with organic cleaning process to be prevented or hydrocarbon to be effectively removed even when the hydrocarbon is deposited on the substrate surface.例文帳に追加

有機洗浄により基板表面にハイドロカーボンが強固に付着することを防止し、あるいは基板表面にハイドロカーボンが付着した場合でも、それを効率的に除去する基板洗浄方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This invention has a feature of the method for manufacturing the rolling resistive stainless steel and the heat resistant steel which, in the process of hot rolling, protrusions remaining after turning and peeling are removed by machining and surface roughness is improved, thus eliminating surface scratches.例文帳に追加

ターニングまたはピーリング後に残存する突起物を機械加工により除去し、表面粗さを良好にし熱間圧延時の表面疵をなくすることを特徴とする難圧延ステンレス鋼および耐熱鋼の製造方法。 - 特許庁