「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(78ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate processing device and a substrate processing method for improving in-plane uniformity in the processing for the main surface of the substrate using a process liquid.例文帳に追加

基板の主面に対する処理液を用いた処理の面内均一性の向上を図ることができる、基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a semiconductor device in which a plating layer can be formed suitably even at the corner of a resist layer and the wafer surface when the plating layer is formed.例文帳に追加

めっき層形状時に、レジスト層とウエハ表面による角部にもめっき層を好適に形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a thin steel plate with extremely less surface defect originating in cracks caused in the hot rolling, even in the straight forward rolling process and its manufacturing method.例文帳に追加

この発明は、直送圧延プロセスにおいても、熱間圧延での割れに起因した表面欠陥が極めて少ない薄鋼板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the coupling process, the third insulating layer includes a platform portion that extends beyond the first insulating layer and the second insulating layer, and the platform portion has an upper surface.例文帳に追加

連結する工程において、第３の絶縁層は、第１の絶縁層および第２の絶縁層を越えて延在するプラットフォーム部を備え、そのプラットフォーム部は上面を有する。 - 特許庁

In the manufacturing process of a semiconductor device, a method is indicated, where the method includes a step for exposing the surface of the substrate to a rapid thermochemical vapor deposition(RTCVD).例文帳に追加

半導体デバイスの製造プロセスにおいて、基板の表面を、窒化膜を形成する急速熱化学蒸着（ＲＴＣＶＤ）プロセスに暴露する段階を含む方法を示す。 - 特許庁

The measurement of a displacement on the above weld zone surface 8a is repeated several times for the same area, arithmetic addition of this measurement result is utilized for imaging process.例文帳に追加

上記溶接部表面８ａの変位の測定は、同一箇所に対して複数回繰り返し、この測定結果を加算演算して画像化処理に利用する。 - 特許庁

In the process of such propagation, the main illuminating light and the sub illuminating light are stirred, become the homogenized light and are output from the emitting surface of the rod integrator 150.例文帳に追加

この伝播の過程において、主照明光および副照明光は攪拌され、均質化された光となってロッドインテグレータ１５０の出射面から出力される。 - 特許庁

In an assembly process of the coated optical fiber tape 1, an air flow containing talc is introduced to a powder coating device 7 and talc is applied on the surface of the coated optical fiber tape 1.例文帳に追加

テープ状光ファイバ心線１の集合工程をにおいて、粉体塗布装置７において、タルクを含んだ空気流を導入して、その表面にタルクを塗布する。 - 特許庁

A pad electrode layer 16 is formed on the insulating film 14, so as to cover the grooves 14a-14d and have an uneven surface by utilizing interconnection forming process.例文帳に追加

配線形成工程を流用して絶縁膜１４の上に溝１４ａ〜１４ｄを覆って上面が凹凸状をなすようにパッド電極層１６を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of molds for casting back-surface aspheric or bi-aspheric eyeglass lenses with a high precision in a manner suitable for mass production.例文帳に追加

内面又は両面非球面の眼鏡レンズをキャスト形成するためのモールドを、精度良く製造可能であるとともに量産に適したモールドの製造方法の提供。 - 特許庁

The processed pattern 4 is preferably formed into surface roughness that has fine ruggedness with a process depth Ra in the pipe thickness direction set to ≤10 μm.例文帳に追加

この加工模様４が、管厚方向への加工深さＲａが１０μｍ以下に設定された微細凹凸を有する表面粗さに形成することが好ましい。 - 特許庁

A dicing tape 21 as a foaming tape is laminated to the front surface of a semiconductor wafer on which an element structure is formed to the front and rear surfaces thereof, and the dicing process is conducted under this condition.例文帳に追加

表面および裏面に素子構造部が形成された半導体ウエハーの表面に、発泡テープであるダイシングテープ２１を貼り合わせ、その状態でダイシングをおこなう。 - 特許庁

Next, inorg. chlorine such as soy sauce or salt bonded to the surface of waste plastic is washed and separated in a washing process 6 by a washing equipment.例文帳に追加

次いで、洗浄工程６で、洗浄設備によって廃プラスチック表層等に付着している醤油や食塩等の無機塩素が水によって洗浄され分離する。 - 特許庁

The other objective semiconductor device is obtained by sealing semiconductor elements with the resin composition by transfer molding process or by sealing the electrode surface of the semiconductor elements by the use of the resin composition of sheet-like form.例文帳に追加

トランスファー成形法で半導体素子を樹脂封止したり、シート状の組成物を用いて、半導体素子の電極面を封止して半導体装置とする。 - 特許庁

The surface of the pad is subjected to a dressing process using a diamond disc while ion exchange water is dripped over it, and a Cu film is polished with a polishing slurry dripped over it.例文帳に追加

研磨用積層パッド表面を、まずはイオン交換水を滴下しながら、ダイヤモンドディスクによりドレッシングした後に、研磨スラリーを滴下しながら、Ｃｕ膜を研磨した。 - 特許庁

To provide a metallic mold for forming a gear-forging with which the gear having good tooth surface precision can simply be formed with only one time of forging process from a prescribed blank.例文帳に追加

所定の素材から１回の鍛造工程のみで歯面精度の良好な歯車を、簡易に成形することできる歯車鍛造成形用金型を提供すること。 - 特許庁

To improve the efficiency of a dry cleaning process for removing a natural oxide film and further, to minimize the quantity of fluorine atoms to be adsorbed onto the surface of a treated substrate.例文帳に追加

自然酸化膜を除去するドライクリーニングプロセスにおいて、プロセスの効率を向上させ、さらに処理された基板表面へのフッ素原子の吸着量を最小化する。 - 特許庁

In each image forming part 20, the discharging process of removing the residual charge of the photoreceptor drum 22 is carried out before cleaning the toner remaining on the surface of the drum 22.例文帳に追加

各画像形成部２０は、感光体ドラム２２の残留電荷を除去する除電工程を、ドラム表面に残留するトナーをクリーニングする前に実行する。 - 特許庁

To process a substrate in an atmosphere of low oxygen until an insulating film is formed on the substrate, so as not to make a coating film on the surface of a substrate react unwillingly on oxygen.例文帳に追加

基板上に絶縁膜が形成されるまで，基板表面の塗布膜が不本意に酸素と反応しないように基板処理を低酸素雰囲気内で行う。 - 特許庁

Subsequently, the heated substrate is immersed in the plating solution for plating nickel/iron alloy during a prescribed time and the oxide film on the surface of seed is removed by etching (oxide film removing process).例文帳に追加

次に、加温された基板を、ニッケル／鉄合金をメッキするためのメッキ液に所定時間浸漬し、シード表面の酸化膜をエッチング除去する（酸化膜除去工程）。 - 特許庁

When the surface of the key top 12 is operated with the pen, the pen input switch 16 senses that and input process different from that by the push key 11 is performed.例文帳に追加

このプッシュキー１１によれば、キートップ１２表面をペンで操作するとペン入力スイッチ１６が感応して、プッシュキー１１とは別の入力処理が行われる。 - 特許庁

Then, a deposition process is performed such that an organic material is deposited on the surface of the resist pattern PRp and lens material film 111z, thereby forming organic films JM1 and JM2.例文帳に追加

そして、そのレジストパターンＰＲｐとレンズ材膜１１１ｚとの表面に有機材料を堆積し有機膜ＪＭ１，ＪＭ２を成膜するデポジション処理の実施をする。 - 特許庁

To provide a surface treatment device where the application of bias voltage upon sputtering treatment to the substrate to be treated and power supply upon etching treatment by a sputtering process can be satisfactorily performed.例文帳に追加

被処理基板へのスパッタ処理の際のバイアス電圧の印加や、スパッタ法によるエッチング処理の際の給電を良好に行える表面処理装置を提供する。 - 特許庁

In a manufacturing process of the thin-film transistor, a gate electrode is formed on a top surface of a substrate (S11), and a gate insulating layer is provided covering the gate electrode (S12).例文帳に追加

薄膜トランジスタの製造工程では、基板の上面には、ゲート電極が形成され（Ｓ１１）、当該ゲート電極を覆うようにしてゲート絶縁層が設けられる（Ｓ１２）。 - 特許庁

The variable resistive element can be formed in a simple process for oxidizing a lower electrode surface which is composed of a conductive nitride, and depositing a variable resistor material.例文帳に追加

また、導電性窒化物からなる下部電極表面を酸化して可変抵抗体材料を成膜するという簡便な工程で可変抵抗素子を形成することができる。 - 特許庁

To form the line width CD of a pattern, and a sidewall angle SWA uniformly in a substrate surface in each substrate that is etched after a photo lithography process.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程後にエッチング処理が施された基板において、パターンの線幅（ＣＤ）とサイドウォールアングル（ＳＷＡ）とを夫々、前記基板面内で均一に形成すること。 - 特許庁

Next, the metal oxide layer 22 is polished using a CMP process while using a slurry, and the nitride layer 31 on the upper surface of the metal structure 21 is exposed.例文帳に追加

次に、スラリを用いて、金属酸化物層２２が化学機械研磨（ＣＭＰ）プロセスにより研磨され、金属構造２１の上面上の窒化物層３１が露出される。 - 特許庁

To provide a more reliable and smaller-sized electrochemical device capable of simplifying a step of cutting a current collector sheet in a manufacturing process, and capable of surface-mounting.例文帳に追加

製造過程において集電体シート切断工程を簡略することができ、かつ信頼性の高い、小型の表面実装可能な電気化学素子を提供することにある。 - 特許庁

To provide a composite material easy to process and low in cost, excellent in impact resistance, having high hardness, excellent in radio wave permeability, capable of forming a flat and smooth surface, and excellent in productivity.例文帳に追加

加工が容易で低コスト、耐衝撃性に優れ、高硬度で、電波透過性がよく、平滑な面を形成可能で、量産性のよい複合材を提供する事。 - 特許庁

In a process S105, the direction of the piezoelectric polarization in the light-emitting layer at the selected tilt angle on a primary surface of the substrate is evaluated by the determined bias dependence.例文帳に追加

工程Ｓ１０５では、バイアス依存性から、基板主面の選択された傾斜角の各々において発光層におけるピエゾ分極の向きの見積もりを行う。 - 特許庁

To provide a developing device that efficiently discharges a deteriorated developer without scratching the surface of a photoreceptor, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

感光体の表面を傷付けることなく劣化した現像剤の排出を効率良く行うことができる現像装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

Since the surface of the material 213 is welded to the steel plates 211 and 213, a working process for bonding with each steel plate is not required.例文帳に追加

また、断熱材２１３の表面が鋼板２１１，２１２に溶着されるため、各鋼板２１１，２１２に接着するための作業工程を設ける必要がなくなる。 - 特許庁

To provide, in particular, a method for manufacturing an optical transmission member capable of holding a predetermined bent shape and increasing a light amount emitted from a side surface at the same process.例文帳に追加

特に、所定の屈曲形状への保持と、側面出射光量の増加を同一工程で行うことが可能な光伝送体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manually and efficiently wiping off an acrylic adhesive adhering to the surface of the glass substrate of a liquid crystal panel in the rework process of a liquid crystal module.例文帳に追加

液晶モジュールのリワーク工程において、液晶パネルのガラス基板の表面に付着しているアクリル系接着剤を手作業で効率良く拭き取る方法を提供する。 - 特許庁

To provide a simple system and a simple process which take a balance between the oxidation and/or corrosion resistance and ductility in a metal surface is taken in a severe environment, and improve them.例文帳に追加

厳しい環境下で金属表面の酸化及び／又は腐蝕耐性と延性のバランスを取り、それらを向上させる簡単なシステム及びプロセスを提供すること。 - 特許庁

Even when the oxide film of a metal strong in a coupling force with oxygen is formed on the upper surface of the wiring material film 5, the oxide of the metal can be removed in the process (d).例文帳に追加

配線材料膜５の上面に酸素との結合力が強い金属の酸化膜が形成される場合でも、当該金属の酸化物は工程（ｄ）で除去できる。 - 特許庁

The initiator component for vehicle is furnished with at least one locating groove in which the inside of an upper surface peripheral position is chamfered by a cold forging process.例文帳に追加

車両用イニシエーター部品において、冷間鍛造加工により、上面外周位置の内側に面取り加工を施した少なくとも１つの位置決め用溝部を設ける。 - 特許庁

To provide a process for producing a clad material, which excels in productivity, facilitating control of the surface roughness and flatness of side material member, and which suppresses bonding failure.例文帳に追加

生産性に優れ、側材用部材の表面粗度および平坦度の制御が容易であり、密着不良が生じにくいクラッド材の製造方法を提供する。 - 特許庁

The pipe 25 is combined with a process-gas pipe 26 (a second raw-material-gas pipe), and a mixed-gas pipe 27 of a combined-off pipe continues with a surface treating apparatus 10 via an introducing pipe 13.例文帳に追加

管２５は、プロセスガス管２６（第２原料ガス路）と合流され、合流後の混合ガス管２７が導入管１３を介して表面処理装置１０に連なっている。 - 特許庁

This process can be repeated, alternately subjecting the surface to the first reactant gas and the second reactant gas, until the compound thin film reaches the desired thickness.例文帳に追加

このプロセスは、表面に第１の反応物ガスおよび第２の反応物ガスを交番して受けさせ、化合物薄膜が所望厚さに達するまで繰返すことができる。 - 特許庁

The decorative material is obtained by laminating the decorative sheet S for molding to an adherend by a vacuum molding lamination process or the like in such a way that the transparent protecting sheet 1 becomes the first surface of the sheet S.例文帳に追加

化粧材は、この成形用化粧シートを用いた真空成形積層法等で、透明保護シートを表側にして被着体に積層した構成とする。 - 特許庁

To provide a process for fabricating an electronic device in which control of removing quantity of a damaged layer or shaving remnant on the surface of an insulating film can be carried out easily.例文帳に追加

絶縁膜の表面上の表面損傷層及び削り残し等の除去量の制御を容易に行うことができる電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polarized beam conversion element which can be manufactured with a simple process, whose manufacturing cost can be reduced, and also, which can attain a large surface.例文帳に追加

単純な工程で作製することができ、製造コストを抑制し得るとともに、大面積のものを作製することが容易な偏光ビーム変換素子を提供する。 - 特許庁

To provide a new production method by which an oxide coating film can be formed by a simple process and at the same time, projected parts can be formed on the surface of the coating film with satisfactory controllability.例文帳に追加

簡便な方法によって、酸化物被膜の成膜と同時に、当該被膜の表面に制御性良く凸部を形成できる、新規な製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve the conventional technical issue that whatever catalytic activity on the surface of silica in the process of acquiring an image color fading fastness and a moisture fastness is excluded.例文帳に追加

画像退色及び湿気堅牢度に向かうシリカ表面のいかなる触媒活性も排除するという点において従来技術における課題を解決すること。 - 特許庁