「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(82ページ目) - Weblio英語例文検索

To increase and stabilize an emission current value by uniformly forming a microstructure on a cathode surface with excellent reproducibility in a simple process in forming an electron emitting element.例文帳に追加

電子放出素子の形成において、簡単な工程で均一にかつ再現性良く陰極表面に微構造を形成し、放出電流値の増大と安定化を図ること。 - 特許庁

A base material formed with a hard carbon film by a plasma vapor phase synthesis process using a hydrocarbon based gas is subjected to surface treatment by bombard treatment with gas plasma.例文帳に追加

炭化水素系ガスを用いたプラズマ気相合成法によって硬質炭素被膜を形成した基材に、ガスプラズマによるボンバード処理によって表面処理を行う。 - 特許庁

In the part of the decarburized layer to roll contact a mating surface, the layer is removed by a finishing process performed after heat treatment while the decarburized layer is left intact at each corner part.例文帳に追加

この脱炭層のうち、相手面と転がり接触する部分は、熱処理後に行なう仕上加工により除去するのに対して、各隅角部の脱炭層はそのまま残す。 - 特許庁

When the lower electrode 13 is formed by a spurring process, gaseous oxygen or gaseous nitrogen is introduced into the chamber, and the surface roughness of the alloy film of tantalum and niobium is improved.例文帳に追加

下部電極１３をスパッタ法で形成する際、チャンバーに酸素ガスあるいは窒素ガスを導入して、タンタルとニオブとの合金膜の表面粗さを改善する。 - 特許庁

The method comprises a process of etching and flowing out a polymer from an area in a surface layer of a substrate precursor which contains inorganic particles embedded in a polymer matrix.例文帳に追加

該方法は、重合体マトリクスに埋め込まれた無機粒子を含有する基板前駆体の表面層の領域から重合体をエッチングして流す工程を含む。 - 特許庁

A laser beam can be concentrated on a sample to excite optical emission on the top surface of a sample being processed and such a step can include a laser process.例文帳に追加

レーザー光は、また、処理中のサンプル表面での光学的放出を励起するべくサンプル上に集中させることができ、これはレーザー工程を含むことが可能である。 - 特許庁

The method for manufacturing the resist patterns includes a process of forming thickened resist patterns by applying the resist pattern thickening material on the surface of the resist patterns after forming the resist patterns.例文帳に追加

レジストパターンを形成後、該レジストパターン表面に前記レジストパターン厚肉化材料を塗布することにより厚肉化レジストパターンを形成するレジストパターンの製造方法。 - 特許庁

In one case of implementation, by using an appropriate process such as PVD or CVD, titanium as pure metal or an oxide is deposited on the surface of the stainless steel bipolar plate.例文帳に追加

一実施形態では、ＰＶＤやＣＶＤなど適切なプロセスを使用して、純金属または酸化物としてチタンがステンレス鋼バイポーラプレートの表面に堆積される。 - 特許庁

In a process of a step S1, the three-dimensional structure having a desired two-dimensional surface shape is made by machine-processing a foamed resin material, for example, foamed polystyrene.例文帳に追加

ステップＳ１の工程において、例えば発泡ポリスチレンから成る発泡樹脂材を加工造型して所望の二次元面形状を有する三次元構造物を作製する。 - 特許庁

To improve uniformity within a wafer surface in the size of circuit pattern obtained in the trimming process of a photoresist mask formed with a double patterning technology using a freezing method.例文帳に追加

フリージング法を用いたダブルパターニング技術により形成されたフォトレジストマスクのトリミング工程において、得られる回路パターン寸法のウエハ面内の均一性を改善する。 - 特許庁

To provide an economical and efficient process for removing metal oxide from at least one component and/or solder surface under a relatively low temperature.例文帳に追加

比較的低い温度下で、少なくとも１つの部品及び／又は半田表面から金属酸化物を除去するための経済的かつ効率的な方法を提供する。 - 特許庁

To stably form a gas barrier film having aimed gas barrier performance when forming the gas barrier film on the surface of an organic material by a plasma CVD process.例文帳に追加

有機材料の表面にプラズマＣＶＤによってガスバリア膜を形成する際に、目的とするガスバリア性を有するガスバリア膜を、安定して形成することを可能にする。 - 特許庁

To provide a cutting device having a simple structure and accurately performing hole-widening process on an inner surface in production of a vessel such as a vase or a pot with wood or stone alone.例文帳に追加

木材や石材単体で花瓶、壷のような器を作る場合、簡単な構造の装置で、精度よく、内面の中広加工ができる切削装置を提供する。 - 特許庁

In the firing process 4, a firing temperature and a firing time of the lumber P with the flame of the firing device S can be set voluntarily so as to adjust a color of the surface of the lumber P.例文帳に追加

焼成工程４は、木材Ｐ表面の色の調整を可能にすべく焼成器Ｓの炎による木材Ｐの火燃温度、火燃時間を任意に設定可能とする。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus which can easily remove foreign matters from a groove on a substrate setting surface, and can reduce missing of elements in the exposure process resulting from foreign matters.例文帳に追加

基板載置面の溝部からの異物除去が容易であり、異物に起因した露光工程での素子欠損を少なくできるようにした露光装置を提供する。 - 特許庁

In the process shown in (h), the As thin film 2 is sublimated, and the Ga_2O_3 thin film 4 other than the modified mask portion 17 is separated to make the surface of the GaAs substrate 1 expose.例文帳に追加

（ｈ）に示す工程では、Ａｓ薄膜２が昇華され、改質マスク部１７以外の部分のＧａ_2Ｏ_3薄膜４が脱離してＧａＡｓ基板１の表面が露出する。 - 特許庁

To manage thickness of a film on a resin layer to be molded with high precision in a process for molding the resin layer on a surface of a glass member being a base material of an optical element integrally.例文帳に追加

光学素子の母材であるガラス部材の表面に樹脂層を一体成形する工程において、成形される樹脂層の膜厚を高精度に管理する。 - 特許庁

To achieve a rotation preventing structure for a cup member and a cam contactor with a simple composition and simplify the grinding process and ensuring of accuracy for an outer peripheral surface of a side wall part.例文帳に追加

カップ部材及びカム接触子の回転阻止構造を簡単な構成で実現し、側壁部の外周面の研削加工及び精度確保を容易化する。 - 特許庁

The surface of a substrate is spin coated with an organic metal decomposition (MOD) solution raw material by using, for example, an MOD process and the coating is dried, by which the dry film is formed.例文帳に追加

例えば、有機金属分解（ＭＯＤ）法を用いて、基板上にＰＬＺＴを得られるＭＯＤ溶液原料をスピンコートし、乾燥させて乾燥膜とする。 - 特許庁

To incorporate surface eroding polymers in barbed sutures whose properties can provide necessary strength and appropriate mass loss, enabling the wound healing process.例文帳に追加

棘付き縫合糸に表面腐食性ポリマーを組み込み、縫合糸の特性が必要な強度および適切な質量損失を提供し、創傷治癒プロセスを可能にすること。 - 特許庁

To provide a technology capable of preventing a circuit surface from being smeared and damaged by cut wastes during an initial groove-forming process for the so-called "leading dicing" method executed after conducting "half-cut" dicing.例文帳に追加

いわゆる「先ダイシング法」の初期工程である溝の形成工程において、切削屑により回路面が汚染、破損されることを防止しうる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a continuous annealing and descaling method of a stainless steel strip which is capable of preventing outbreak of defective surface quality without excessive charge of the power in an electrolytic descaling process.例文帳に追加

電解脱スケール工程での電力過剰投入なく表面品質不良の突発を防止可能なステンレス鋼帯の連続焼鈍脱スケール方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the laminated ceramic capacitor includes a step of disposing a green laminated chip 1 on the receiving surface 81 of a setter 8, and performing a binder removing process on the laminated chip 1 disposed on the setter 8.例文帳に追加

未焼成の積層チップ１をセッタ８の受面８１上に配置し、次に、セッタ８に配置された積層チップ１に脱バインダ処理を施す工程を含む。 - 特許庁

And in the second process wherein the ball house 15 is formed, an annular groove 60 is formed by cutting the outer circumference of the bottom surface 71 in use of a second blade.例文帳に追加

また、ボールハウス１５を形成する第２の工程では、第２の刃を用いて加工底面７１の外周部分を切削して環状溝６０を形成するように行われる。 - 特許庁

To provide a detergent composition excellent in detergency to fine particles sticking on the surface of a material to be washed and in rinsability in a water-rinsing process after washing.例文帳に追加

被洗浄物表面に付着している微粒子に対する洗浄性、かつ、洗浄後の水リンス工程におけるリンス性に優れた洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁

Since each of the holder portions 16 is easily released from the inner surface of the mold while undergoing bending deformation, in a mold releasing process after molding, a mold releasing resistance is significantly reduced.例文帳に追加

したがって、成形後の離型過程では、各ホルダ部１６が曲げ変形しながら金型内面から容易に離脱するので、離型抵抗が著しく緩和される。 - 特許庁

To provide a simple method and apparatus for maintaining the surface of an article to be treated at a high degree of cleanliness after a treating process such as cleaning using high-pressure carbon dioxide.例文帳に追加

高圧二酸化炭素を用いた洗浄等の処理工程後、被処理体の表面が高い清浄度に維持される簡易な処理方法、及び処理装置を目的とする。 - 特許庁

A multistage type dry furnace 1 is provided for drying fluid adhered on a surface of the glass substrate which is treated with a cleaning process and the likes before proceeding to a next procedure.例文帳に追加

洗浄処理等が施されたガラス基盤等を次の処理工程に進める前にその表面に付着した液体を乾燥させる多段式乾燥炉１である。 - 特許庁

To provide a component for a heat treatment device that is hardly influenced by stress from a film formed on a surface in a film formation process of a high-dielectric film; and the like.例文帳に追加

高誘電体膜の成膜プロセスにて、表面に形成される膜からの応力の影響を受けにくい熱処理装置用の構成部品等を提供する。 - 特許庁

The recess forming process comprises two steps of a step for digging each recess by dry etching, and a step for removing a surface deterioration layer of each recess inner wall, by wet etching using an acid.例文帳に追加

凹部形成工程は、ドライエッチングにより凹部を掘り下げるステップと、酸を用いたウエットエッチングにより凹部内壁の表面変質層を除去するステップの２段階からなる。 - 特許庁

One end of the sheet 51 is fixed on the case 16c of the device 16 and the other end is made to elastically abut on the upper surface of the housing 31a of the process cartridge.例文帳に追加

防塵シート５１は、一端をクリーニング装置１６のケース１６ｃに固定し、他端をプロセスカートリッジ３１の筐体３１ａの上面に弾性的に当接させる。 - 特許庁

In the method for manufacturing the low-temperature fired ceramic substrate including the debinder/firing process, a cover 21 which can cover the top surface of a substrate 11 is put on the substrate.例文帳に追加

脱バイ・焼成工程を含む低温焼成セラミック基板の製造方法であって、基板１１の上面を覆うことが可能な蓋体２１を基板に被せる。 - 特許庁

In other words, a lithography process for forming the irregularity shape of the surface of the organic insulation film 1 need not be carried out, and a manufacture cost can be reduced.例文帳に追加

すなわち、有機絶縁膜１の表面凹凸形状を形成するためのフォトリソグラフィー工程を実施する必要がなくなり、製造工程コストを低減することができる。 - 特許庁

To provide the design structure of an improved heat exchanger tube bundle which can increase a heat transfer surface area of a heat exchanger having a predetermined size, and a process for the production thereof.例文帳に追加

所与の大きさの熱交換器に対して、熱伝達表面積を増加できる改良された熱交換器管束の設計構造及びその製法を提供する。 - 特許庁

For an interior finish work process planishing a screw hole, a nail hole and other recess section on the wall surface, the ground method is to stick an interior finish label on the recess section by means of a labeler.例文帳に追加

壁面のビス穴、釘穴、その他の凹部を平面化する内装作業工程において、ラベラーを用いて内装ラベルを前記凹部に貼り付ける下地工法である。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin coating device where occurrence of a pattern bridge phenomenon is prevented during an exposure process by preventing contamination of the rear surface of a substrate due to sticking of resin.例文帳に追加

基板の裏面の樹脂付着の汚染を防止し、露光工程の際、パターンブリッジ現象が生じることを防止できる感光性樹脂塗布装置を提供する。 - 特許庁

When the removal of the barrier metal film 7 on the outside of a recessed part 5 is finished and a surface 4a of an insulation film 4 on the outside of the recessed part 5 is exposed, the CMP process is finished.例文帳に追加

そして、凹部５外のバリアメタル膜７の除去が完了して、絶縁膜４の凹部５外の表面４ａが露出すると、ＣＭＰ処理を終了する。 - 特許庁

To provide a cleaning device which removes an external additive such as silica stuck firmly to a surface of a photoreceptor as an image carrier and to provide a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

像担持体である感光体の表面に強固に付着しているシリカ等の外添剤を除去するクリーニング装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for detecting the end point of a film removal process for removing a film by a polishing apparatus having a polishing surface coupled to a shaft.例文帳に追加

シャフトに結合される研磨面を有する研磨装置により膜を除去する膜除去プロセスの終点を検出する方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

When the road is widened, the earth retaining structure 40 is removed in the process of construction of an additional lightweight banking structure 30A, and thereafter roadbed works and surface layer works are laid.例文帳に追加

道路拡幅時に、増設する軽量盛土構造体３０Ａの施工途中で土止め構造４０を撤去し、その後に、路盤工と表層工を施工する。 - 特許庁

To protect a crank case of an engine and a head fitting surface from the excessive spray, and to easily recover the excessively sprayed material in the case of masking an engine block in a thermal spraying process of the engine.例文帳に追加

エンジンの溶射工程におけるエンジン・ブロックのマスキングにおいて、過剰噴霧からエンジンのクランクケース及びヘッド取付面を保護し、過剰噴霧材の回収を容易にする。 - 特許庁

Next, the supporting stage 11 is rotated at high speed, whereby the water remaining on the surface of the wafer WF is shaken off by centrifugal force thereby drying the wafer WF ((d) high-speed rotation process).例文帳に追加

次に、支持台１１を高速回転させ、ウェハＷＦ表面に残った水は遠心力により振り切られウェハＷＦを乾燥させる（（ｄ）高速回転工程）。 - 特許庁

Prior to a hot dip coating process, the treatment to bring an aqueous solution containing a silicon compound (e.g. an aqueous solution of sodium orthosilicate) into contact with the surface of a plating base material is performed.例文帳に追加

溶融めっき工程の前に、珪素化合物を含有する水溶液 (例、オルト珪酸ナトリウム水溶液) をめっき基材表面に接触させる処理を行う。 - 特許庁

To provide a resist removal method and a resist remover which has process time, independently of the thickness of a surface hardened layer of resist and removes the resist, without residues.例文帳に追加

処理時間がレジストの表面硬化層の厚さに依存せず、残渣なくレジストを除去することができるレジスト除去方法およびレジスト除去装置を提供する - 特許庁

To provide a method for instantaneously and accurately detecting an abnormality, e.g. crack or flaking occurring on the outer surface of a crucible in a heating/temperature rising process.例文帳に追加

加熱昇温工程においてルツボの外表面に生じたクラックや剥離等の異常を瞬時に精度よく検出できるルツボの異常検知方法を提供する。 - 特許庁