「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(86ページ目) - Weblio英語例文検索

A frictional surface 48 acquires superior wear resistance of the same order as an iron casting by forming micro irregularities by a first shot-peening process after applying quenching treatment and rounding pointed projection tips of the micro irregularities by a second shot- peening process.例文帳に追加

摩擦面４８は、焼入れ硬化処理を施した後に第１ショットピーニング工程で微小凹凸を形成するとともに、第２ショットピーニング工程で微小凹凸の尖った凸部先端を丸くすることにより、鋳鉄品と同程度の優れた耐磨耗性が得られる。 - 特許庁

In manufacturing the thermal printing head, a coating agent with a silica-based material dispersed in liquid is attached to at least one face of a support substrate (process S2), and then the coating agent is dried to form a coating agent layer on the surface of the support substrate (process S3).例文帳に追加

サーマルプリントヘッドを製造する際に、支持基板の少なくとも一つの面に液体中にシリカ系材料が分散したコーティング剤を付着させた（工程Ｓ２）後に、コーティング剤を乾燥させて支持基板の表面にコーティング剤の層を形成する（工程Ｓ３）。 - 特許庁

The manufacturing method of the stamper includes a process for forming a metal thin film on a stamper original plate provided with a rugged pattern on a surface layer thereof and a process for forming an electroplating layer by electroplating the stamper original plate in a plating liquid consisting essentially of nickel sulfamate.例文帳に追加

スタンパの製造方法は、凹凸パターンを表層に備えたスタンパ原版に金属薄膜を形成する工程と、このスタンパ原版を用いてスルファミン酸ニッケルを主成分とするメッキ液で電気メッキすることで電気メッキ層を形成する工程とを備える。 - 特許庁

The focus search process of laser beams from a pickup with respect to the information recording surface of a CD(Compact Disk) as the recording medium is started (step 104), and when the focusing is not effected, the emission of the laser beams is stopped to finish the process (steps 106, 108).例文帳に追加

記録媒体としてのＣＤ（Compact Disc）の情報記録面に対するピックアップからのレーザ光のフォーカス・サーチ処理を開始し（ステップ１０４）、合焦することができなかった場合はレーザ光の射出を停止して処理を終了する（ステップ１０６、１０８）。 - 特許庁

Then, at the joining process, the metal part 1 subjected to the surface treating process is inserted into injection molding dies 2, 3, the resin composition 4 is made to contain an additive having at least a crystal nucleating agent and then is injection-joined to an inserted metal part 1.例文帳に追加

次に、前記表面処理工程がなされた金属部品１を射出成形金型２、３にインサートし、樹脂組成物４に結晶核剤を少なくとも有する添加剤を含有させた上で、インサートされた金属部品１に射出接合させる接合工程。 - 特許庁

Based on the reflection information of the reflection map texture, the lighting model and the light source information, the lighting process part performs a lighting process for expressing the gloss of the liquid in a liquid sticking area set as the area of the character's surface to which the liquid (sweat) sticks.例文帳に追加

ライティング処理部は、反射マップテクスチャの反射情報と照明モデルと光源情報に基づいて、キャラクタの表面のうち液体（汗）が付着する領域として設定される液体付着領域において、液体の光沢を表すためのライティング処理を行う。 - 特許庁

The conductive film modifying method comprises a first process of forming the end of a first conductive film 6 formed on the surface of an underlying layer 5 into a gentle slope, and a second process of forming a second conductive film 10 spreading over the gentle slope and the exposed part of the underlying layer 5.例文帳に追加

下地層５の表面に形成された第１の導電膜６の端部を緩斜面状に整形する工程と、この緩斜面と下地層５の露出部とに渡って第２の導電膜１０を形成する工程とによって修正を行う。 - 特許庁

The method is provided with a process for generating conductive films on the front and rear faces of the substrate and electrically connecting the conductive films on the front and rear faces of the substrate, and a process for forming a piezoelectric layer on one surface of the conductive film at the front face of the substrate.例文帳に追加

基板の表裏両面に導電性膜を生成し、前記基板表裏の導電性膜を電気的に接続する工程と、前記基板表面の導電性膜の１表面に圧電層を形成する工程とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a system and a method for photolithography process, in which whether particles exist or not on the surface of a wafer charged to form a mask pattern is detected, and the process of the wafer is determined in accordance with the presence or non-presence of the particles.例文帳に追加

パターンマスクを形成するために投入されるウェーハの表面上にパーチクルが存在するか否かを検査し、そのパーチクルの存在有無に従いそのウェーハの過程を決定するフォトリソグラフィー工程システム及びフォトリソグラフィー工程方法を提供する。 - 特許庁

In the molding process of the manufacturing method of the pneumatic tire, the cap rubber layer 11 is formed of a rubber composition containing alumina-containing cylindrical closed cells and a thin film rubber layer 30 containing no alumina-containing cylindrical closed cells is provided on the outer surface of the cap rubber layer 11 before performing a vulcanization process.例文帳に追加

成形工程にて、キャップゴム層１１をアルミナ入り筒状独立気泡を含むゴム組成物により形成するとともに、キャップゴム層１１の外表面に、アルミナ入り筒状独立気泡を含まない薄膜ゴム層３０を設けた後、加硫工程を行う。 - 特許庁

Vertically downward from the tip of the protrusion 13 of the rotating table 10, process liquid is supplied and diffused from a nozzle 14, and thereafter, the process liquid reaching the surface of each substrate 12 to be processed is externally swept away to the outside of the table 10 by a centrifugal force.例文帳に追加

そして、回転中のテーブル１０の突起部１３の先端から鉛直下方にノズル１４から処理液を供給して拡散させた後、各基板１２の被処理面に到達した処理液を、遠心力によってテーブル１０の外部に払拭させる。 - 特許庁

In this manufacturing method, as shown by Figure 1(a), a process for forming a step-difference pattern 2 on a surface of a semiconductor substrate 1, and a process for forming a CVD oxide film 10 whose film thickness d1 exceeds 1 μm on the step-difference pattern 2 by using a chemical vapor growth method, are performed.例文帳に追加

図１（ａ）に示すように、半導体基板１の表面に段差パターン２を形成する工程と、段差パターン２の上に化学気相成長法を用いて膜厚ｄ１が１μｍを超えるＣＶＤ酸化膜１０を形成する工程を行う。 - 特許庁

The method for etching the surface of a seed crystal is characterized by including a process for introducing catalytic agents 6 and 76 into a crystal growth vessel 12 after housing a seed crystal 2 in a reaction chamber 11 and a process for raising the temperature in the reaction chamber 11.例文帳に追加

本種結晶表面のエッチング方法は、種結晶２を反応室１１内に格納した後、触媒剤６および７６を結晶成長容器１２に導入する工程、反応室１１内を昇温する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a process for synthesizing a diamond-like carbon film which can be synthesized at a low cost and can be applied, in a uniform thickness, onto a member having a surface of a given shape, and a process for synthesizing the diamond-like carbon film having a p- or n-type conductivity.例文帳に追加

低コストで合成でき、任意形状の表面を有する部材にも均一な厚さで被覆することができるダイヤモンド状炭素膜の合成方法並びにｐ型及びｎ型の導電性を有するダイヤモンド状炭素膜の合成方法を提供する。 - 特許庁

By applying a crystallization accelerating process (e.g., a process for keeping the temperature zone at ±20°C of the temperature wherein the crystallization speed is highest) at an arbitrary time, the degree of crystallinity of the surface layer part 102 of the molded article 100 and/or the overall molded article can be increased.例文帳に追加

任意の時期に結晶化促進処理（例えば、結晶化速度が最も高い温度±２０℃の温度域に保持する処理）を施すことにより、成形体１００の表層部１０２及び／又は成形体全体の結晶化度を向上させることができる。 - 特許庁

Since an IPA water vapor can be supplied in the chamber 5 or the chamber 5 can be decompressed, ozone treatment, surface treatment with a process liquid, and a dry process are carried out in a single chamber 5, resulting in a smaller footprint of the substrate processing equipment 1.例文帳に追加

さらに、チャンバ５内へのＩＰＡ蒸気供給やチャンバ５内の減圧を行うこともできるため、オゾン処理、処理液による表面処理、乾燥処理を一つのチャンバ５内にて行うことができ、基板処理装置１のフットプリントを小さくすることができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of semiconductor device for controlling etching of the front surface of an element isolating film in the etching process of a silicon oxide film after element isolating film formation in the case where the element isolating film has a structure embedded within a semiconductor substrate.例文帳に追加

素子分離膜が半導体基板に埋め込まれた構造である場合、素子分離膜を形成した後の酸化シリコン膜のエッチング工程において、素子分離膜の表面がエッチングされることを抑制できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for evaluating a water absorption deterioration degree of a resin composition includes: a preparation process for preparing a test sample from a resin composition containing an inorganic filler and a resin; and a measurement process for measuring a ratio of the inorganic filler in a rupture surface of the test sample.例文帳に追加

無機フィラーと樹脂とを含む樹脂組成物から試験サンプルを準備する準備工程と、試験サンプルの破断面における無機フィラーの割合を測定する測定工程とを含むことを特徴とする樹脂組成物の吸水劣化度評価方法。 - 特許庁

To provide a method for producing granules for friction material, capable of producing a friction material having excellent mechanical strength without needing reinforcement with a fiber base material by a simplified process free from: aggregation of material; wall surface adhesion thereof in a manufacturing process; or generation of powder dust.例文帳に追加

繊維基材で補強しなくても、優れた機械的強度を有する摩擦材を、材料凝集や製造プロセス内での壁面付着や粉塵の発生等がなく、プロセスの簡易化が可能な方法による摩擦材用造粒物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To eliminate, regarding a filament winding apparatus and a filament winding method in which a fiber bundle is wound round the surface of a member to be wound, the time lag between the winding treatment process and the inspection process and minimize generation of defective products whose resin deposition amounts are under a criteria.例文帳に追加

被巻付部材の表面に繊維束を巻き付けるフィラメントワインディング装置とフィラメントワインディング方法に関して、巻付処理工程と検査工程とのタイムラグをなくして、樹脂付着量が基準に満たない不良品の発生を最小限化する。 - 特許庁

In a front plate forming process, a dielectric layer 4 is subjected to planarizing treatment and thereafter a protective membrane is formed, or in a rear plate forming process, a surface of a partition layer 6 (the layer before processing to the partition) is subjected to planarizing treatment and thereafter a partition is formed by processing.例文帳に追加

前面板の形成工程において、誘電体層４を平坦化処理し、その後保護膜を形成する、または、背面板の形成工程において、隔壁層６（隔壁に加工する前の層）の表面を平坦化処理し、その後隔壁を加工形成する。 - 特許庁

Then the silicon compound is etched at a high speed, under a condition suitable for the formation of sidewalls 7 in a first etching process, and when a etching time measured in advance has elapsed immediately before the silicon surface of the compound is exposed, the etching of the compound 16 is switched to a second etching process.例文帳に追加

このシリコン化合物を、第１のエッチング処理工程で、高速でサイドウォール１７の形成に適した条件でエッチング処理し、シリコン面が露出する直前で、あらかじめ測定したエッチング時間が経過すると第２のエッチング処理工程に切り換える。 - 特許庁

The manufacturing method (1) of carrier comprises at least a process of forming a cover layer on the surface of core material and a process of causing room temperature molten salt to contact with the cover layer in a super-critical or subcritical fluid to introduce the room temperature molten salt into the cover layer.例文帳に追加

（１）芯材表面に被覆層を形成する工程、及び超臨界乃至亜臨界流体中で、前記被覆層と常温溶融塩を接触させ、該被覆層中に常温溶融塩を導入する工程を少なくとも含むキャリアの製造方法。 - 特許庁

Then, in the restraining process and the second cooling process, the bearing ring 10 is restrained in a ridge line part 14 so that the bearing ring 10 is not in contact with the restraining member 30 on the outer peripheral surface 11 of the bearing ring 10 and the end face 12.例文帳に追加

そして、拘束工程および第２冷却工程では、軸受軌道輪１０の外周面１１および端面１２において、軸受軌道輪１０と拘束部材３０とが接触することなく、稜線部１４において、軸受軌道輪１０が拘束される。 - 特許庁

To provide a measurement device capable of automatically performing a measurement process for changes in film thickness of a test wafer performed during a measurement process for organic content of an air, calculation of organic content of the air, and a surface treatment (removing of organics) of the test wafer used during measurement.例文帳に追加

エアの有機物含有量の測定過程で行われるテストウェハの膜厚変化の測定処理、エアの有機物含有量の算出、測定時に用いられたテストウェハの表面処理（有機物の除去）を自動で行うことのできる測定装置を提供する。 - 特許庁

The forming method of a nitride semiconductor has a process for performing selective transverse direction growth for a second GaN layer 5 on an upper surface of a first GaN layer 3, and a process for forming a quantum dot 6 on the second GaN layer 5 which is subjected to selective transverse direction formation.例文帳に追加

この窒化物系半導体の形成方法は、第１ＧａＮ層３の上面上に、第２ＧａＮ層５を選択横方向成長させる工程と、選択横方向成長された第２ＧａＮ層５上に、量子ドット６を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

To provide an abrasive that is used for super-precision polishing in the planarization process of a substrate surface in manufacturing semiconductor devices and the formation process of especially shallow trench separation, increasing the polishing speed ratio of a silicon oxide film to a silicon nitride film, and having little contamination of alkali metal.例文帳に追加

半導体デバイス製造時の基板表面の平坦化工程、特にシャロートレンチ分離の形成工程の超精密研磨で使用し、酸化珪素膜と窒化珪素膜との研磨速度比を大きくし、アルカリ金属の汚染の少ない研磨剤を提供する。 - 特許庁

In a hole part formation process in a process (1), a mask layer 3 is formed in an in-face predetermined area on the main surface of a substrate 1 so that a residual area except the formation area of the mask layer 3 can be formed with a plurality of holes 4 whose upper parts are opened.例文帳に追加

工程（１）の孔部形成工程にて、基板１の主表面上における面内の所定領域にマスク層３を形成することにより、マスク層３の形成領域を除く残余領域に、上部が開口した複数の孔部４を形成する。 - 特許庁

At this time, pressurizing force of the upper surface plate is reduced to 1 to 1/10 times of pressurizing force in a machining process, the rotational speeds of the sun gear and the internal gear are increased to 1/5 to 5 times of the rotational speed in the machining process, and the work is finished.例文帳に追加

このとき、上定盤の加圧力を本加工過程時の加圧力の１倍〜１／１０倍に減少させると共に、サンギア及びインターナルギアの回転速度を本加工過程時の回転速度の１／５倍〜５倍の回転速度に増加させて、ワークを仕上げ加工する。 - 特許庁

To provide a method for depositing a catalyst for electroless plating onto the surface of the resin substrate, which can reduce a consumption amount of palladium and shorten the treatment process without decreasing catalytic activity, in the process of depositing the catalyst.例文帳に追加

樹脂基材表面への無電解めっき用触媒付与工程において、触媒活性を低下させることなく、パラジウム使用量の低減及び処理工程の短縮化が可能な樹脂基材表面への無電解めっき用触媒付与方法を提供する。 - 特許庁

A process of keeping adding pressure to a molten resin supplemented from a gate to a cavity and a process of injecting compressed fluid from a passage having an opening to the reverse surface of the molded article are simultaneously conducted during the time from filling the molten resin into a cavity to opening a mold.例文帳に追加

キャビティに溶融樹脂を充填してから型を開くまでの間に、ゲートからキャビティに補充する溶融樹脂に圧力を加え続ける工程と、成形品の裏面に向けて開口する流路から加圧流体を注入する工程を同時に実行する。 - 特許庁

Since the insulating substrate is divided along a direction orthogonal to the slit-like opening, the surface mounting photoelectric converter can be unitized individually during manufacture, and the process for forming three-dimensional wiring and the machining process can be simplified.例文帳に追加

これにより、前記スリット状の開口部に直交する方向に沿う、前記絶縁基板の分断加工によって面実装型光電変換装置を製造する際の単位個別化が可能になり、立体配線形成及び加工工程の簡略化を達成できる。 - 特許庁

The method for joining the thermoplastic resin to the metallic adherend includes a process for forming a self-adhesive layer 3 at the joining surface 2 of the metallic adherend 1 to the thermoplastic resin 4 and a process for bringing the thermally molten thermoplastic resin 4 into contact with the self-adhesive layer 3 and then solidifying it.例文帳に追加

金属製被着体１における熱可塑性樹脂４との接合面２に粘着層３を形成する工程と、熱溶融した熱可塑性樹脂４を粘着層３に接触させ、次いで固化させる工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

In a screen process printing plate 10 for applying a substance to be applied such as a sealing agent for printing on the work 1 to be subjected to prescribed screen process printing, a spacer means 13 for avoiding the protruding part 2 formed on the work 1 is formed on the printing surface side of the screen mask 12.例文帳に追加

所定のスクリーン印刷すべきワーク１に例えばシール剤の如き被塗布物を塗布印刷するスクリーン印刷版１０であって、ワーク１上に突設形成してある突部２を回避するスペーサー手段１３をスクリーンマスク１２の印刷面側に突設形成する。 - 特許庁

To thin a scale at the final stage after an air cooling process and not to generate a scale dented flaw on a steel surface in a level straightening process by conducting water cooling at a specified value, that a water volume density is the product of a water volume per unit time and time, after heating/ rough rolling and before finish rolling.例文帳に追加

熱間圧延による鋼板の圧延は、一般に加熱、粗圧延、仕上圧延、熱間矯正、空冷等をこの順番で行うが、空冷後に平坦度判定を行い、これが不良のときは冷間のまま矯正レベラにかけるようにしている。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which the surface area of a conductive part of solder is increased while suppressing the concentration of a stress to a solder part on the ball surface when a semiconductor chip is bonded to a substrate through a ball, and to provide its manufacturing process.例文帳に追加

ボールによって基板に半導体チップを接合する際にボール表面のハンダ部分に応力が集中するのを抑制すると共に、ハンダの導通部分の表面積を増加させた半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plastic film drying apparatus which removes and dries adhered liquid on the surface of the film quickly after cleaning in a liquid cleaning process of the plastic film, in which dust and waste adhered on surface of the film are removed by the liquid.例文帳に追加

プラスチックフィルム表面に付着したほこりや屑を液体にて除去するプラスッチクフィルムの液体洗浄工程において、洗浄後、フィルム表面に付着した液体を早く除去乾燥させるプラスチックフィルム乾燥装置を提供する。 - 特許庁

In the curing process, both of a pasting surface 12A and a non-pasting surface 12B are exposed to UV rays as depicted by arrows A and B, to surely prevent a part of the ultraviolet curing adhesive layer 16 from remaining on ends, etc., of the chips 20.例文帳に追加

硬化工程において、矢印ＡおよびＢの示すように貼着面１２Ａと非貼着面１２Ｂとの両面に紫外線を照射し、チップ２０の端部等に紫外線硬化型粘着剤層１６の一部が残留することを確実に防止する。 - 特許庁

To provide a truing method for efficiently and precisely truing a conductive grinding wheel having a part of a ball or a spherical surface as a work action surface, a truer, and a field in-process dressing grinding method using the conductive grinding wheel.例文帳に追加

本発明は球または球面の一部を加工作用面として有する導電性砥石を効率的にかつ高精度にツルーイングするツルーイング方法、ツルアー及び当該導電性砥石を用いた電界インプロセスドレッシング研削法を提供する。 - 特許庁

To provide a polarizing plate surface-protecting film which has a peelable adhesive layer to the surface of a polarizing plate on one side of a plastic film and does not float in a tunnel like, even when subjected to a thermal treatment process.例文帳に追加

プラスチックフィルムの片面に、偏光板表面に剥離可能に貼付される粘着剤層を有する偏光板表面保護フィルムであって、加熱処理工程を施しても表面保護フィルムがトンネル状に浮き上がらないものを提供すること。 - 特許庁

To provide a thin surface-mounted electrolytic which can stably connect a capacitor element with a lower surface electrode provided on an exterior case and reduce failures in characteristics during a manufacturing process, and which has stable characteristics in evaluating long-term reliability.例文帳に追加

コンデンサ素子と外装ケースに設けられた下面電極とを安定的に接続し、製造工程での特性不良を低減でき、且つ長期信頼性評価において特性が安定である表面実装薄型電解コンデンサを提供すること。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device includes a process of forming the nonvolatile memory in a memory region Rm on a silicon substrate 1, wherein a selection gate electrode CG is formed on the principal surface of the silicon substrate 1 and a dummy gate DG adjoining one sidewall surface is formed.例文帳に追加

シリコン基板１上のメモリ領域Ｒｍに不揮発性メモリを形成する工程であって、シリコン基板１の主面に選択ゲート電極ＣＧを形成し、いずれか一方の側壁面に隣り合うダミーゲートＤＧを形成する。 - 特許庁

A vanishing layer vanishes when a prescribed process is performed, and is formed in advance in each sheet and the thicknesses of the sheets are uniformized so that the vanishing layers may continue and pass through a laminate from the top surface to the bottom surface when the sheets are laminated upon another.例文帳に追加

各シートに所定の処理によって消失する消失層を予め形成し、且つ各シートの厚さの均一化を図っておき、積層時には各シートの消失層が連続化して積層体の上下面に貫通する状態とする。 - 特許庁

To provide a sticking method of a functioning film over a cathode-ray tube and a device therefor capable of preventing dust from being entrapped between the functioning film and a display surface due to static electricity in a sticking process of the functioning film over the display surface of the cathode-ray tube.例文帳に追加

陰極線管の表示面への機能性フィルムの貼着工程において、機能性フィルムと表示面との間への静電気による塵の混入を防止できる陰極線管への機能性フィルム貼着方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing method capable of suppressing surface defect including scratches, and sufficiently suppressing a cost in practical usage in a planarizing process of a surface to be polished by the chemical mechanical polishing method.例文帳に追加

化学的機械的研磨方法による被研磨面の平坦化工程において、スクラッチをはじめとした表面欠陥が抑えられ、現実の使用においてもコストを十分に抑える事が出来る化学的機械的研磨方法を提供することを目的とする - 特許庁