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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > surface processに関連した英語例文

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surface processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 9599件



例文

To provide a substrate processing device for a substrate for an electro-optical device and a method for manufacturing an electro-optical device by which organic substances are prevented from depositing or remaining on a surface opposite to a resist coating surface of a substrate in a photolithographic process.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程において、基板のレジスト塗布面とは反対側の面上に有機物が付着し残存してしまうことのない電気光学装置用基板の基板処理装置及び電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A projected part, which can be simply and smoothly removed in a post process, is formed to a spherical body demolded by forming a chamfering surface 8 to the crossing part of the semispherical inner contour surface 4 of the upper mold 2 of the mold 1 and a pouring gate 7.例文帳に追加

成形型1の上型2の半球状の内輪郭面4と湯口7との交差部に面取り面8を形成することにより脱型された球体には後工程で簡単で、かつ円滑に除去可能な突起部が形成される。 - 特許庁

To provide a stable self alignment type phase shift mask which can prevent deterioration in transfer accuracy caused by multiple reflection on a wafer surface and a light shielding pattern surface, which has excellent phase shift mask characteristics, and which requires a short manufacturing process, and to provide a method for manufacturing the mask.例文帳に追加

ウェハー面と遮光パターン表面で多重反射による転写精度の劣化を防止し、位相シフトマスク特性に優れ、製造工程が短く、安定した自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of forming a silicon oxide film of good quality on the surface of a silicon wafer by oxidizing the silicon wafer at a low temperature in the formation of the silicon oxide film on the surface of the wafer in the manufacturing process of a semiconductor element and to provide a silicon oxide film manufacturing system.例文帳に追加

半導体素子の製造工程におけるシリコンウェーハ表面への酸化珪素膜の形成において、低温でシリコンウェーハを酸化して、シリコンウェーハ表面に良質の酸化珪素膜の形成方法及びその装置の提供。 - 特許庁

例文

In the toroidal type continuously variable transmission, at least a part A in at least either surface of a power roller 11 or of an output side disk 3, facing each other through the oil film, is subjected to a texture process for suppressing the deterioration in the surface pressure.例文帳に追加

このトロイダル型無段変速機では、油膜を介して互いに対向するパワーローラ11および出力側ディスク3のうちの少なくとも一方の表面の少なくとも一部Aに、面圧の低下を抑制するためのテクスチャ加工が施されている。 - 特許庁


例文

The LSI device is mounted on the surface mount board, in a thermal process, locating the mount board having grid-shaped low temperature fusing metals and resins located corresponding to the connecting terminal groups of the LSI device between the LSI device and the surface mount board.例文帳に追加

LSIデバイスの接続端子群に対応して配置された格子状の低融点金属及び樹脂を有する実装板を、LSIデバイスと表面実装基板の間に配置して熱工程を加え、LSIデバイスを表面実装基板に実装する。 - 特許庁

To provide a method and a device for surface treatment of a Mg alloy member capable of performing surface treatment for mass production at a low cost in a simple process by a dry method free from any environmental pollution caused by hexavalent chromium like that by a wet method.例文帳に追加

湿式法のような6価クロムによる環境汚染のない乾式法で、かつ単純なプロセスによる低コストで大量生産のための表面処理が可能な耐食性Mg合金の表面処理方法及び表面処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing method of a color filter for a liquid crystal display, more uniformly polishing the whole surface of the color filter surface to remarkably reduce variation of color degree of the color filter in polishing process using an Oscar type polishing machine.例文帳に追加

オスカー型研磨機を用いた研磨処理において、カラーフィルタ表面の全面をより均一に研磨し、カラーフィルタの色度のバラツキを大幅に縮小させることのできる液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法を提供すること。 - 特許庁

An insertion process inhibition area 14 is so set that the operation of an insertion machine tool for processing of a lead wire of inserted parts does not interfere with the surface mounting type parts 10, and its area is changed in accordance with the height of the surface mounting type parts 10.例文帳に追加

挿入工程禁止領域14は、挿入部品のリード線の処理を行う挿入機工具の動作が表面実装型部品10と干渉しないように設定し、表面実装型部品10の高さに応じて広さを変える。 - 特許庁

例文

The processing method for the inner layer circuit board used for the multilayer printed board includes a process of roughing by blast the surface of a copper circuit formed on the inner layer circuit board, and consecutively roughing by immersion the surface of a copper circuit using a chemical roughing solution.例文帳に追加

多層プリント配線板に用いられる内層回路基板の処理方法において、内層回路基板に形成された銅回路表面をブラスト粗化、続いて化学粗化液により浸漬粗化する工程を有する内層回路基板の処理方法。 - 特許庁

例文

In assembly, a blank is sack-glued while a part of the lid top surface panel 7 is simultaneously glued onto the top surface panel 3 so that it turns only enough to raise the sack-glued blank for treatment in the process of filling contents, as in the case with a normal carton.例文帳に追加

組立に際しては、ブランクをサック貼りすると同時に蓋天面パネル7の一部を天面パネル3に貼着しておくことにより、通常のカートンと同様、サック貼りしたブランクを起こして内容物の充填工程を行えばよい。 - 特許庁

To provide a polishing composition using low-cost Neuburg silica or kaolin series mineral as a surface reforming material capable of enhancing the producibility in the polishing process by means of high-speed operation and suppressing the cost while a high quality of polishing surface is maintained.例文帳に追加

高品質の研磨面を保ちながらしかも高速研磨性により研磨工程の生産性の向上及び低コスト化が可能な安価なノイブルグ珪土又はカオリン族鉱物を表面改質材とする研磨用組成物を提供すること。 - 特許庁

The permeability of the elastic film 11 to the side of an inner surface 12b from the side of the outer surface 12a each of the knitted glove is adjusted to 20-95 % in average based on the thickness T_12 of the knitted glove 12 in a process of forming the film 11.例文帳に追加

当該被膜11の形成時において、編手袋の外表面12a側から内表面12b側への弾性体皮膜11の浸透率が、編手袋12の厚みT_12に対して平均で20〜95%となるように調節する。 - 特許庁

In this sizing process, diameter reducing work is applied to one end face of the compression mold 71, and after the diameter reduced surface 7f1 is formed, a sizing core 49 is passed in the bearing hole 71d of the compression mold 71 to form the bearing surface 7b.例文帳に追加

このサイジング工程では、圧縮成形体71の一端面に縮径加工が施され、縮径面7f1が形成された後、圧縮成形体71の軸受孔71dにサイジングコア49が挿通されて軸受面7bが形成される。 - 特許庁

In the plating treatment method including a process where a film surface having the surface resistance of 1 to 1,000 Ω/SQUARE is continuously subjected to electroplating for a plurality of times, the average plating treatment time in the first half part is made shorter than the average plating treatment time in the second half part.例文帳に追加

表面抵抗が1〜1000Ω/□のフィルム表面を連続的に複数回電解めっきする工程を含むめっき処理方法であって、前半部の平均めっき処理時間を後半部の平均めっき処理時間より短くする。 - 特許庁

This constitution causes overflowing of slurry (not shown in the figure), guided in the groove 13, from the interior of the groove 13 and feeds it to the polishing surface 12 outside the groove 13 again in a process of discharge of the slurry to the outside of the polishing surface 12 by a centrifugal force.例文帳に追加

これによって、溝13内に導かれたスラリー(図示省略)は、遠心力によって研磨面12の外側に排出される過程で溝13内から溢れて再び溝13外の研磨面12上に供給されるようになる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a formed article excellent in the design by which a designed desired rugged pattern is more faithfully left on the surface of a product by suppressing the defacement of the rugged pattern and the generation of surface defects in the forming process.例文帳に追加

成形過程における凹凸模様の潰れと表面傷発生の抑制にあり、設計された所望の凹凸模様を製品表面ヘより忠実に残すことができる意匠性に優れた成形品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The DVD recorder 1 forms a visible image displaying content information of the program whose image is recorded in an optical disk (DVD+R5) by a process for irradiating a data recording surface of the optical disk with a laser beam to form marks and spaces on a data recording surface of the optical disk.例文帳に追加

そして、光ディスクのデータ記録面にレーザ光を照射してマーク及びスペースを形成するプロセスによって、光ディスク(DVD+R5)に録画した番組のコンテンツ情報を表示する可視画像を光ディスクのデータ記録面に形成する。 - 特許庁

An insulating layer formation process is provided, where, on a laminated substrate 1 comprising a metal layer 3 on its surface, a resin insulating layer 13 comprising a bottomed hole 12 whose bottom surface is a part of the metal layer 3 is formed.例文帳に追加

配線基板の製造方法は、表面1Aに金属層3を有する被積層基板1上に、この金属層3の一部を底面とした有底孔12を有する樹脂絶縁層13を形成する絶縁層形成工程を備える。 - 特許庁

To provide a sealer which penetrates the surface of various cement- based forms, reinforces fragile parts and improves adhesion to overcoat paints in the next process and water resistance of the overcoat paint when coated on the surface of various cement-based forms.例文帳に追加

各種セメント系成型体の表面に塗装した際、その表面内によく浸透し、脆弱部分を補強することができ、次行程の上塗り塗装材との密着性、上塗り塗装の耐水性を改良するシーラーを提供すること。 - 特許庁

The present invention provides an effect of preventing the damage of the pad solder 12 formed on the other surface of the printed circuit board 10 in a process for coining the bump 11 formed on one surface of the printed circuit board 10 in an FC-BGA package.例文帳に追加

本発明によると、FC−BGAパッケージで印刷回路基板10の一面に形成されたバンプ11をコイニングする過程において、印刷回路基板10の他面に形成されたパッド半田12の損傷を防止する効果がある。 - 特許庁

A lens surface 34 at least out of two lens surfaces 34, 36 has regions 40, 42 having different optical scattering effects structured as regions imprinted from a mold to the surface by a hotpress process.例文帳に追加

2つのレンズ表面34、36の少なくとも1つであるレンズ表面34は、ホットプレス工程により金型から当該表面に転写される領域として構成される異なる光学的散乱効果を有する領域40、42を有する。 - 特許庁

To provide a method for forming texture by which dimples having ideal internal surface property can be formed without needing a debris-removing process by suppressing the occurrence of debris without degrading the shape accuracy of the texture formed on the surface of a sliding member.例文帳に追加

形成されるテクスチャの形状精度を低下させることなくデブリの発生を抑制してデブリ除去工程を必要とせず、かつ、理想的な内部表面性状を有するディンプルを形成することができるテクスチャ形成方法を提供する。 - 特許庁

An amorphous semiconductor film is once molten and when performing crystallization in a subsequent process, a magnetic field is applied to the surface or zone of the molten film with the principal aim of controlling the Marangoni convection in a surface of the molten film.例文帳に追加

非晶質半導体膜を一旦溶融して、その後の冷却過程で結晶化するに際し、その溶融表面のマランゴニ対流を制御することを主たる目的として、溶融表面又は溶融帯に磁場を印加することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a surface-protective film that is easily developed from a wound body without using a release agent and without a corona treating process to a base material layer, and exhibits proper self-adhering force to an adherend having irregular surface such as a prism sheet.例文帳に追加

離型剤の使用や基材層へのコロナ処理工程が無くとも、巻回体から容易に展開することができ、且つプリズムシートのような表面に凹凸を有する被着体へ適度な粘着力を示す表面保護フィルムを提供すること。 - 特許庁

Since resin will not enter the back surface side of the terminal part 5 at molding, the thin burrs are not generated on the back surface of the terminal part 5 and excellent proper at mounting is secured, without having to perform a deburring process performed conventionally.例文帳に追加

モールド時に端子部5の裏面側に樹脂が入り込まないので、端子部5の裏面に薄バリを生じることがなく、従来行っていたバリ取りの工程を行わなくても、実装時における良好な半田メッキ性を確保することができる。 - 特許庁

To provide a surface acoustic wave element in which insertion loss is improved by preventing an electromechanical coupling coefficient from lowering, and to provide its manufacturing process, an electronic device and an electronic apparatus comprising a surface acoustic wave element.例文帳に追加

電気機械結合係数の低下を防止して、挿入損失の改善を図った弾性表面波素子、かかる弾性表面波素子を製造する製造方法、かかる弾性表面波素子を備える電子デバイスおよび電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide a method which does not require monitor of a cooling process during welding and does not require check in the sense of post adjustment (Nachregelung) in a method for welding one surface and another surface of materials at least one of which is glass.例文帳に追加

少なくともその材料の1つがガラスである、材料の表面と表面とを溶接するための方法であって、その溶接中に、冷却プロセスを監視する必要も、事後調整(Nachregelung)という意味で、チェックする必要もない方法を提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive particle which is used for a chemical mechanical polishimg method and contains a resin, the state of a polished surface polished with which is easily observable, and a polishing flaw on the polished surface is easily findable and the end point of polishing process is easily detectable.例文帳に追加

化学的機械研磨方法に用いられる樹脂を含有する研磨用粒子であって、被研磨面の研磨状況を観察し易く、研磨傷の発見や研磨工程の終点を容易に検知することができる研磨用粒子を提供する。 - 特許庁

A working process is applied to the thin steel sheet containing ≥0.05 mass% C, >0.7 mass% Si and ≥0.8 mass% Mn, wherein working amount is adjusted such that sum of absolute values of surface strains imparted to the surface layer of the thin steel sheet to be 5% or more in a nominal strain.例文帳に追加

質量%で、C:0.05%以上、Si:0.7%超え、Mn:0.8%以上を含有する薄鋼板に、薄鋼板の表層に付加される表面歪の絶対値の和が、公称歪で、5%以上となるように調整した、加工工程を施す。 - 特許庁

The annular groove 14 with a diameter formed smaller than that of the other portion is formed from the position of the end of the inner ring on the inboard side on the outer peripheral surface of the hub ring 9 to an outboard side, and the surface of the annular groove 14 is flatly and smoothly finished by a grinding process.例文帳に追加

ハブ輪9の外周面における内輪のインボード側端の位置からアウトボード側にかけて、他の部分よりも小径に形成された環状溝14を設け、この環状溝14の表面を研削加工で平滑に仕上げる。 - 特許庁

Thus, by separating with a ring 104 the region in which the rear surface 112 is located from the region in which the front surface 110 is located, it becomes possible to introduce an aimed process gas into the chamber 100 making the rear 112 only to be the object.例文帳に追加

このように、リング104で裏面112が位置する領域を、表面110が位置する領域から分離させることによって、裏面112だけを対象にして、目的とするプロセスガスをチャンバ100に導入することが可能となる。 - 特許庁

A laminating process is applied to the EL sheet used as the light source to carry out protection for waterproofing and electric leakage prevention; and by arranging FF sheets on the front surface and the back surface and by welding the circumferences thereof to doubly protect the EL sheets, installation in indoor and outdoor places is enabled.例文帳に追加

また、光源となるELシートを、ラミネート加工を施し、防水、漏電防止の保護を行い、且、前面と背面にFFシートを配して、周囲を溶着することで、ELシートを2重に保護を施し、屋内外への施工を可能にする。 - 特許庁

To provide a spiral nanocarbon material composite having diamond particles as nuclei and having high resistance, a wide surface area and an excellent process fitness, to provide its manufacturing method and to provide an electron-emitting element using the composite and an electronic device such as a surface-emitting element.例文帳に追加

ダイヤモンド粒子を核に持ち、高耐性で表面積が広く、プロセス適性に優れたらせん状ナノ炭素材料複合体とその製造方法並びにそれを用いた電子放出素子と面発光素子等の電子デバイスを提供する。 - 特許庁

Since a drying process advances in a high temperature steam baking state, the surface and interior of the wood are almost equally dried and a phenomenon wherein the wood is cracked from the surface thereof is not caused at all and deformation such as warpage, bending or the like is not brought about.例文帳に追加

高温の蒸し焼き状態で乾燥プロセスが進行するため、木材の表面も内部も略均等に乾燥してゆくことになり、木材表面から割れてゆく現象がまったく起こらず、また、反り、曲がりなどの変形も起こらない。 - 特許庁

In a 3rd process, a 2nd concave part is formed on the other surface of the side opposite to the surface on which the concave part 23 is formed, the microlens 10 is exposed, and also, an optical path groove 33 is formed for manufacturing a seat 33 provided with the microlens 10.例文帳に追加

第3工程では凹部23を形成した面と反対側の他方の面に第2凹部3を形成して、微小レンズ10を露出させるとともに、光路溝33を形成して、微小レンズ10を備えた台座33が製造される。 - 特許庁

To provide a stainless steel mirror which is produced by forming an oxide coating film contg. a photosemiconductor on the surface of a stainless steel subjected to mirror surface finishing and hardly causes interference colors even if the oxide coating film is formed thinner and a process for producing the same.例文帳に追加

鏡面仕上げステンレス鋼板の表面に光半導体を含有する酸化物塗膜を形成したステンレス鋼板鏡において、酸化物塗膜を薄くしても干渉色が発生しにくいものおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a window structure which is effective in COD prevention without diffusing an impurity or irradiating a resonator end surface with laser light so as to expand a band gap nearby the resonator end surface in a process of manufacturing a semiconductor laser device.例文帳に追加

半導体レーザ装置の製造工程の中で、共振器端面近傍のバンドギャップを拡大するために、不純物の拡散を行なったり、共振器端面にレーザ光を照射したりしなくても、COD防止に有効な窓構造を実現する。 - 特許庁

The toner is stuck to the printable surface and the toner amount transferred to the printable surface is measured by using a measuring device 21, and the measured result exerts influence on a printing process so that a difference between the real toner amount of the printed image stuck to the printable surface and desired toner amount may be reduced or kept constant.例文帳に追加

トナーを印刷可能な面に被着し、印刷可能な面に転写されたトナー量を測定装置21を用いて測定し、印刷可能な面に被着された印刷画像の実際のトナー量と所望のトナー量との間の差が減少されるか一定に維持されるように印刷プロセスに影響を及ぼす。 - 特許庁

The image forming device main body is provided with a reference surface 91 for positioning the process cartridge 2 in a loaded state, a holding member 70 which is rotatably supported by the image forming device main body and provided with a 1st surface 71 and a 2nd surface 72, and an urging member 80 for urging the holding member 70.例文帳に追加

画像形成装置本体14は、装着状態の前記プロセスカートリッジ2を位置決めするための基準面91と、画像形成装置本体14に回転可能に支持され、第一面71と第二面72とを有する保持部材70と、該保持部材70を付勢する付勢部材80と、を有する。 - 特許庁

To obtain a packaging material for a package to be heated in a microwave oven which can be efficiently manufactured, allows a smooth surface of a decorative printed layer to be viewed as a decorative surface, and can have a beautiful printed surface with a simplified manufacturing process in obtaining the packaging material for the package which can be heated in a microwave oven.例文帳に追加

電子レンジで加熱することができる包装体の包装材料を得るに際して、効率よく製造できるとともに、化粧印刷層の平滑面が化粧面として見えるようにし、簡素化した製造工程から印刷面がきれいな電子レンジ加熱用包装体の包装材料を得る。 - 特許庁

In a cooling process of a molten resin filled in a cavity 12 of a mold 11, gas is led in from a slit 14 formed in an arbitrary place of a cavity wall surface corresponding to the non-transfer surface (transfer surface not requiring a high accuracy relatively) of the molded article and is guided to a place where a shrink mark 5 is brought about.例文帳に追加

金型11のキャビティ12に充填した溶融樹脂の冷却工程において、成形品の非転写面(相対的に高精度が要求されない転写面)に対応するキャビティ壁面の任意個所に形成したスリット14から気体を導入し、ひけ5の発生個所を誘導する。 - 特許庁

In the process for inspecting the surface flaws 14, a longitudinal direction position of the surface flaws 14 detected by the leakage flux flaw detection test is displayed by a lamp 10, and existence of the plurality of surface flaws 14 in the peripheral direction of the longitudinal direction position is displayed by some of lighting, flashing and putting-out of the lamp 10.例文帳に追加

表面疵14の検査をする工程において、漏洩磁束探傷試験によって検知された表面疵14の長手方向位置がランプ10で表示され、この長手方向位置の周方向に複数の表面疵14があることがこのランプ10の点灯、点滅及び消灯のいずれかで表示される。 - 特許庁

A method for manufacturing an inkjet printhead includes a process for: forming an aperture plate by disposing a silicon layer on the aperture plate; using photolithography to create a textured pattern on an outer surface of the silicon layer; and chemically modifying the textured surface by disposing a conformal oil repellent coating on the textured surface.例文帳に追加

アパチャプレート上にシリコン層を配置することでアパチャプレートを形成する工程と、写真平版術を用いてシリコン層の外面にテクスチャード加工パターンを作成する工程と、テクスチャード加工面に共形の撥油性被覆を配置することでテクスチャード加工面を化学的に改質する工程とを含む。 - 特許庁

To increase adhesion strength between a protective film and a polarizing film by applying a proper adhesive on the respective surface in the process of laminating a cycloolefin resin film on one surface of a polarizing film made of a polyvinylalcohol resin and laminating a cellulose acetate film on the other surface to produce a polarizing plate.例文帳に追加

ポリビニルアルコール系樹脂からなる偏光フィルムの一方の面にシクロオレフィン系樹脂フィルムを積層し、他方の面には酢酸セルロース系フィルムを積層して、偏光板とするにあたり、それぞれの面に適切な接着剤を適用して、各保護フィルムと偏光フィルムの間の接着力を高める。 - 特許庁

Accordingly, in the process to form the liquid film of sulfuric acid, the sulfuric acid supplied to the center of the surface of the wafer W concentrically spreads around the supply location on the surface of the wafer W without any influence of hydrophilic property and pattern formed on the surface of the wafer W.例文帳に追加

これにより、硫酸の液膜を形成する工程では、ウエハWの表面中央部に供給される硫酸が、レジストの疎水性およびウエハWの表面に形成されているパターンの影響を受けずに、ウエハWの表面上をその供給位置を中心とする同心円状に拡が拡がる。 - 特許庁

An inner region on the surface of a focus ring is finish-worked at mean surface roughness Ra in e.g., 0.1 or less as fine as suppressing the adhesion of a reaction product in an etching process, and an outer region is finish-worked at mean surface roughness Ra e.g., 3.2 or less.例文帳に追加

フォーカスリングの表面における内側領域を、エッチング処理時の反応生成物の付着を抑えることができる程度の平均表面粗さRaとなるように例えば0.1以下に仕上げ加工し、外側領域を反応生成物を捕集するためにその平均表面粗さを例えばRa3.2以下に仕上げ加工する。 - 特許庁

In the laminated plastic film containing the inorganic matter layer and a plastic film base material of which the surface is treated with the plasma due to microwave discharge before the inorganic matter layer is formed on the surface by a dry process, the surface of the plastic film base material is etched in an etching amount of 12-563 nm by the plasma.例文帳に追加

無機物層と、表面に該無機物層がドライプロセスによって形成される前に、マイクロ波放電によるプラズマによって該表面が処理されるプラスチックフィルム基材とを含む積層プラスチックフィルムであって、前記プラスチックフィルム基材の表面が、前記プラズマによって12〜563nmのエッチング量でエッチングされている。 - 特許庁

Consequently, even if an amount of sinking of an upper surface of the vertical gate electrode 19 or an upper surface of a buried insulating film 20 from a surface of the source region 21 varies in a manufacturing process, it is possible that the threshold voltage does not vary, and the impurity concentration can be reduced to easily obtain the low threshold voltage.例文帳に追加

これによって、縦型ゲート電極19の上面または埋め込み絶縁膜20の上面の、ソース領域21表面からの落ち込み量が製造工程でばらついても閾値電圧が変動しないようにでき、また不純物濃度を低減させて容易に低閾値電圧を得ることができる。 - 特許庁

例文

Furthermore, when the rear end of the first original document passes through a downstream-side reading position, the image reading of a front surface of the original document is similarly stopped (S7), a front surface initializing signal is outputted by the initializing signal generating circuit (S8), and the setting of the image process and the like for the front surface of the original document are initialized.例文帳に追加

また、1枚目の原稿の後端が下流側読取位置を通過すると、同様にして該原稿の表面の画像読み取りが停止されると共に(S7)、初期化信号生成回路により表面用初期化信号が出力され(S8)、原稿の表面についての画像処理等の設定が初期化される。 - 特許庁




  
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