「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(91ページ目) - Weblio英語例文検索

By etching in a pre-etching process, a least-adhesive layer having poor affinity with respect to the adhesive agent of an adhesive tape is formed uniformly on the surface of a resist pattern on a wafer W.例文帳に追加

前工程におけるエッチングによってウエハＷ上のレジストパターンの表面には、粘着テープの粘着剤との親和性の悪い難粘着層が不均一に形成される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a high quality semiconductor substrate which restricts occurrence of steps on the substrate surface and also simplifies a manufacturing process to prevent occurrence of bonding defects.例文帳に追加

基板表面の段差の発生を抑制すると共に、製造工程を簡略化し、結合欠陥等の発生を防止した高品質な半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The uppermost surface temperature of the substrate is measured based on a measured result of a film thickness of an oxide film formed on the substrate supplied to the oxidation process system using the oxidation treatment gas and the light irradiation.例文帳に追加

酸化処理ガスと光照射とを用いた酸化プロセス系に供されている基板に形成された酸化膜の膜厚の測定結果に基づき基板の表面温度を測定する。 - 特許庁

In a thin film forming step (i), a selective thin film 8 having an etching selectivity and a heat flowability is formed on the silicon, and the surface is flattened by reflowing process or the like.例文帳に追加

薄膜形成工程（ｉ）では、多結晶シリコンに対してエッチング選択性を持ち且つ熱流動性がある選択性薄膜８を成膜し、リフロー処理などによって表面を平坦化する。 - 特許庁

To provide a process for coating a surface of an object with hyaluronic acid, its derivatives or other natural or semisynthetic polymers, for applications in the fields of surgery, health care, and diagnostics.例文帳に追加

外科、健康管理および診断の分野における用途に関して、ヒアルロン酸、その誘導体または他の天然の、若しくは半合成ポリマーで、物体の表面を被服する方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the surface properties of a productfrom being deteriorated when performing a side charge in an initial melting in a multistage melting for high melting point metal by a consumable electrode type vacuum arc melting process.例文帳に追加

消耗電極式真空アーク溶解法による高融点金属の多段溶解において、初期溶解でサイドチャージを行ったときの製品表面の性状悪化を防止する。 - 特許庁

To provide a process to obtain broad range of feature detail in the same resist film with sufficiently uniform surface topography and without the need to perform significant post-patterning processing.例文帳に追加

同一レジスト膜に、実質的なパターニング後処理を行う必要がない十分に均一な表面トポグラフィを有する、広範囲のフィーチャのディテールを得ることが可能なプロセスの提供。 - 特許庁

Bondage of the fabric material on the surface of the pad results in improvement in processability in its production process, and enables prevention of displacement of the breast pad when used for the garment.例文帳に追加

また、布材が表面に貼着されていることで製造工程での加工性を向上させることができ、衣類に適用したときに胸部用パッドの位置ずれの防止もできる。 - 特許庁

To fine a semiconductor device by reducing the design thickness of a wiring protective film coating the surface of a wiring layer and decreasing a space between the wiring layer and a via plug formed by a self-alignment process.例文帳に追加

配線層の表面を被覆する配線保護膜の設計厚みを小さくし、配線層とセルフアラインプロセスで形成されるビアプラグの間隔を縮小し、半導体装置を微細化する。 - 特許庁

Further, a manufacturing process of a chemical fiber integral film molding carries out direct extrusion molding of the fused elastomer resin to a chemical fiber rear surface.例文帳に追加

そして、耐熱性を有する化学繊維を各種ラミネートまたは、化繊裏面へ融解した状態のエラストマー樹脂を直接押し出し成型する化繊合体フィルム成形体の製造方法 - 特許庁

In a pattern process, the design 3, in which a design board surface of the game board 22 is formed on the dried fixing layer 2, is formed in a layered manner by transfer or inkjet multicolor printing.例文帳に追加

図柄工程で乾燥した定着層２の上に遊技盤２２の意匠盤面を形成する意匠図３を転写やインクジェットによる多色刷り印刷で層状に形成する。 - 特許庁

To enhance the bond strength of a film to be applied to a machining tool in film coating technology using a sputtering process to obtain a comparatively smooth film surface.例文帳に追加

比較的平滑な被膜表面が得られるスパッタリング法による被膜のコーティング技術において、被膜の付着強度を一層高くして加工工具にも適用できるようにする。 - 特許庁

To realize a method for manufacturing a semiconductor device for improving manufacturing yield without damaging the surface of a semiconductor region in a flattening etch back process.例文帳に追加

平坦化のエッチバック工程で半導体領域の表面に損傷を与えることがなく、製造歩留まりを向上することが可能な半導体装置の製造方法の実現を課題とする。 - 特許庁

The fluid (SCF+chemical liquid) is brought into contact with the surface of a substrate in the process chamber 11 and strips and removes an unnecessary substance such as a resist and a resist residue deposited on the substrate.例文帳に追加

これにより、処理流体（ＳＣＦ＋薬液）が処理チャンバー１１内で基板の表面に接触し、基板に付着しているレジスト、レジスト残渣などの不要物質が剥離除去される。 - 特許庁

Static electricity generation preventing process is performed to a cleaner part and this disk cleaner is mounted inside a disk case and used such that the cleaner part is brought into contact with the data input surface of a disk.例文帳に追加

クリーナー部分に静電気発生防止加工が施され、そのクリーナー部分がディスクのデータ入力面に接触状態となるようにディスクケース内に装着使用されるディスククリーナー。 - 特許庁

To provide a ferrule integrated with metallic pipe excellent in dimensional precision and surface quality and a method for manufacturing through one process at a low cost without using a core pin.例文帳に追加

寸法精度及び表面品質に優れた金属製パイプ一体型フェルール及びそれを中子ピンを使用することなく単一のプロセスで低コストで製造できる方法を提供する。 - 特許庁

In the coating liquid sticking process, while the substrate is rotated slowly, liquid drops 22 are discharged from the nozzles 21 in required timing to be stuck on the surface of the substrate in an optimum pattern.例文帳に追加

塗布液付着工程では、基板を低速回転させながら、ノズル２１から液滴２２を所要のタイミングで吐出し、基板表面に液滴２２を最適パターンで付着させる。 - 特許庁

To prevent a trouble caused by a residue of an adheseive grain or a low molecular component occurring from an adhesive agent of a dicing tape in the dicing process of a wafer having an opening on its rear surface side.例文帳に追加

裏面側に開口を有するウエハのダイシング工程で、ダイシングテープの粘着剤から発生した粘着粒子や低分子成分が開口部内に残留することによるトラブルを防ぐ。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of preventing the occurrence of flaws in an image carrier surface even if the apparatus includes a plurality of cleaning brushes, and to provide a process cartridge for the image forming apparatus.例文帳に追加

複数のクリーニングブラシを備えた装置構成の場合でも像担持体表面への傷の発生を防止できる画像形成装置及び、画像形成装置用プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

In this sputtering process, the flow rate of gaseous oxygen is set to be smaller than the upper limit at which a state where metal Ti is exposed to the surface of the target is regularly held.例文帳に追加

このスパッタ法において、酸素ガスの流量は、ターゲットの表面に金属Ｔｉが露出した状態が定常的に保持される上限の流量よりも少ない流量とすればよい。 - 特許庁

To keep the entire surface of a transparent electrode on an observation side clean by a simple process and to evade the decline of display quality without remarkably lowering the productivity of an electrodeposition display element.例文帳に追加

エレクトロデポジション表示素子の生産性を著しく低下させることなく、簡単なプロセスで観察側の透明電極の表面全体を清浄に保ち、表示品位の低下を回避する。 - 特許庁

To facilitate manufacture of a game board made of synthetic resin, by forming a hard coat layer which protects the surface of the game board from a scratch evenly and cleanly and furthermore in an easy process.例文帳に追加

遊技盤の表面を傷から保護するハードコート層をムラなくきれいに、しかも簡単に形成できるようにすることで合成樹脂製の遊技盤の製造を容易にする。 - 特許庁

To provide near infrared cut filter glass comprising glass suitable for redraw forming, which can be stably produced in a redraw forming process and prevents devitrification or the like on the glass surface.例文帳に追加

リドロー成形時に安定して生産でき、また失透などがガラス表面に発生することのない、リドロー成形に好適なガラスからなる近赤外線カットフィルタガラスを提供すること。 - 特許庁

During the last process of the anodization C to D in forming the porous layer 12, intermittent energization is performed by repeatedly energizing and non-energizing the surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

そして、多孔質層１２を形成する工程の最後の陽極化成処理ＣからＤにおいて、半導体基体表面への通電と停止とを繰り返す間欠通電を行う。 - 特許庁

In the early stage of the second etching process, the initial groove mask 54 covers a portion of the upper surface of the bottom formation layer 42 in a region where the second portion is scheduled to be formed.例文帳に追加

第２のエッチング工程の当初は、第２の部分が形成される予定の領域における底部形成層４２の上面の一部が初期溝マスク５４によって覆われている。 - 特許庁

To provide a polishing liquid composition which can effectively reduce an LPD having a size of 50 nm or smaller, which is formed on a surface of a wafer, in a polishing process of the semiconductor wafer.例文帳に追加

本願発明は、半導体ウェーハの研磨において、ウェーハ表面の５０ｎｍ以下の大きさのＬＰＤを効果的に低減可能な研磨液組成物の提供を課題とする。 - 特許庁

In the process, a metal oxide is fixed on the surface of the substrate as a film.例文帳に追加

さらに、広範囲な種類の基材に形成させることができ、造膜性や機械的強度および密着性に優れた膜を得ることができる金属酸化物膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

The display panel 8 is a pattern itself desired to be displayed or the pattern on which a mortise process is performed, and an LED or an EL element light source is disposed on an end surface of the display panel 8.例文帳に追加

表示パネル８には表示したいパターンそのもの又はそのパターンをくりぬき加工した物であり、ＬＥＤ又はＥＬ素子光源は表示パネル８の端面に配置される。 - 特許庁

When the transfer material is an OHT sheet, it is carried to the fixing unit at a speed faster than the process speed through the both-surface image formation path (S7, S12 to S25) to perform 2nd fixation (S26).例文帳に追加

そしてＯＨＴシートである場合、両面画像形成経路により該プロセススピードより高速で定着器まで搬送し（Ｓ７、Ｓ１２〜Ｓ２５）、２度目の定着を行なう（Ｓ２６）。 - 特許庁

In a transfer process from a pick-off area to the agitating carrying area, the developer particle is treated as the individual particle on the developing roll side based on the moving boundary surface (S242-YES, S244).例文帳に追加

ピックオフ領域から攪拌搬送領域への移行過程において、移動境界面を基準に現像ロール側では個々の粒子として取り扱う（Ｓ２４２−ＹＥＳ，Ｓ２４４）。 - 特許庁

The process comprises pressing on the internal surface of the leather 1 at least one semi-permeable membrane 2, and disposing a glue pattern on the membrane contacting the leather 1 to waterproof the leather 1.例文帳に追加

皮革１の内側表面に少なくとも１つの半透膜２を押圧することを含み、皮革１に接する半透膜の表面に接着剤パターンを設けて皮革１を防水する。 - 特許庁

To simplify a soldering process, enhance productivity, and reduce costs, by collectively mounting electronic components such as a photointerrupter on a component mounting surface of a circuit board, in an image forming device.例文帳に追加

画像形成装置において、回路基板の部品実装面にフォトインタラプタ等の電子部品を集約して実装することにより、はんだ付け工程を簡素化して生産を高め、コストダウンを図る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing diamond having highly elaborate acicular protrusion array structure on the surface which is applicable to materials with various shapes while simplifying the manufacturing process, and others.例文帳に追加

製造工程を簡素化しつつ、かつ種々の形状の材料に適用できる、高細密な針状突起配列構造を表面に有するダイヤモンドの製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a method for reducing the surface resistance of a bit line and for simplifying a process to improve TAT by forming a contact and bit line metallic wiring using low-resistance tangsten.例文帳に追加

低抵抗タングステンを用いてコンタクトとビットライン金属配線を形成することにより、ビットラインの面抵抗値を減少させ、工程を簡素化してTATを改善させる方法を提供する。 - 特許庁

As shown in Fig. (f), resist 109 is applied on the surface of the bump forming layer 104 where the bumps 107 are formed, and a resist layer 110 is formed through an exposure/development process as shown in Fig. (g).例文帳に追加

図１（ｆ）に示すように、バンプ１０４が形成された面にレジスト１０９を塗布し、図１（ｇ）に示すように、露光および現像を行うことによりレジスト１１０を形成する。 - 特許庁

To provide a wire saw working method which provides a favorable flat cutting surface of a workpiece by lowering the degree of a change in the maximum amount of flexure of a cutting wire in the process of cutting.例文帳に追加

切断中における切断用ワイヤーの最大たわみ量の変化の程度を小さくして、被加工物の良好な平坦な切断面を得ることができるワイヤーソー加工方法の提供。 - 特許庁

To solve the problem of difficulty in control of the thickness reproducibility of a metal oxide film due to the influence by surface conditions of a substrate in the formation of the metal oxide film on the substrate by an open-air CVD process.例文帳に追加

金属酸化物膜を大気開放型CVD法により基材に形成する際に、基材の表面状態の影響を受け、金属酸化膜厚や再現性の制御が困難である。 - 特許庁

The present invention relates to a manufacturing method of a semiconductor device that has a process of applying oxygen plasma treatment with a power density of 0.2-0.3 W/cm^2 to a surface of a nitride semiconductor layer 11.例文帳に追加

本発明は、窒化物半導体層１１の表面に、パワー密度が０．２〜０．３Ｗ／ｃｍ^２である酸素プラズマ処理を行う工程を有する半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a magnetostrictive element in which detection precision is enhanced by planarizing the surface of the magnetostrictive element, and reliability can be prevented from lowering.例文帳に追加

磁歪素子表面を平坦化し、その検出精度を向上させ、さらには信頼性の低下を防止することのできる磁歪素子の製造方法等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a process for producing a polyester composition suitable to apply to a polyester film with uniformly dispersed silica, excellencies in productivity, large unevenness on the surface and favorable deflation.例文帳に追加

シリカが均一に分散されており、生産性に優れ、表面の凹凸が大きく空気抜け性に優れたポリエステルフィルムに用いるに好適なポリエステル組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce the number of processes of heat treatment in a method for manufacturing a capacitive element including a process for growing silicon crystal grains on the surface of a silicon film constituting a lower electrode.例文帳に追加

下部電極を構成するシリコン膜の表面にシリコン結晶粒を成長させる工程を含む容量素子の製造方法において、熱処理の工程数を低減する。 - 特許庁

To obtain a reflection surface which realizes high reflectance/cost reduction and high strength/low expansion and has excellent shape accuracy without performing a succeeding process of forming a reflection film by vapor deposition.例文帳に追加

蒸着による反射膜の形成という後工程を行うことなく、高反射率・低コスト化及び高強度・低膨張とともに、優れた形状精度を有する反射面を得る。 - 特許庁

A control part controls the cutting part 18 so as to mirror-process a mold base material 2 comprising glassy carbon by ductility mode machining to form a molding surface 3.例文帳に追加

制御部が、ガラス状カーボンから成る金型母材２に対し、バイト２２で延性モード切削により鏡面加工して成形面３を形成するよう、切削部１８を制御可能になっている。 - 特許庁

To provide a clip made of a sheet metal and its manufacturing process which keep a side surface of a member to be fixed with a clip undamaged, and an end ball part smoothly slidable to a sheet member.例文帳に追加

クリップ固定対象部材の側面を損傷せず、かつ、シート部材にスムーズに摺接可能な先端玉部を有した板金製クリップ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Because of a serration forming processing or finish serration processing conducted after the boring process, it is possible to prevent burrs from remaining at the slide surface and also stabilize the sliding force.例文帳に追加

また、穿孔工程の後に、セレーション成形加工又は仕上げセレーション加工を行っているため、摺動面での「バリ」の残存を防止して、摺動力の安定化を図ることができる。 - 特許庁