「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(92ページ目) - Weblio英語例文検索

On the rear surface of a substrate comprising a GaN layer 100, protrusions and recesses 100a having a level difference of 1/10 or more of the wavelength of exposing light and being used in photolithography process are provided.例文帳に追加

ＧａＮ層１００よりなる基板の裏面に、フォトリソグラフィ工程で用いられる露光光の波長の１／１０程度以上の段差を有する凹凸１００ａが設けられている。 - 特許庁

To prevent cracks caused by bubbles and the crack of a substrate from generating, and to improve yields in the back-surface machining process in a compound semiconductor substrate where elements are formed.例文帳に追加

素子を形成した化合物半導体基板において、その裏面加工工程で、気泡によって惹起されるクラックや基板の割れを発生しなくして歩留りを向上させる。 - 特許庁

To prevent a porous resin layer on the surface of a stamp material from being separated together with a transparent film upon the separation of the transparent film thermally-bonded with the stamp material after the process.例文帳に追加

印材とともに熱接着された透明フィルムを製版後に印材から剥離する際に、印材表面の多孔性樹脂層が透明フィルムと一緒に剥離されるのを防ぐ。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing electrode foil for electrolytic capacitor, in which anions sticking on etching foil can be removed while an etching foil surface layer is prevented from being dissolved after an etching process.例文帳に追加

エッチング工程後、エッチング箔表層の溶解を防止しながら、エッチング箔に付着しているアニオンを除去することのできる電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve product yield by performing the optimization of temperature distribution on the surface of a metallic mold in a short time and fully excluding a testing shot process, when the metallic mold for casting is preheated.例文帳に追加

鋳造用金型を予熱する際の、金型表面の温度分布の最適化を短時間で行い、捨て打ち工程を完全に排除して、製品歩留まりの向上を図る。 - 特許庁

In this process, immediately before the press, only the vicinities of the surface and back of the heated mat are cooled to solidify only the resin of the cooled parts, and the mat is pressed into the sheet.例文帳に追加

シート化の直前に加熱マットの表裏面近傍のみを冷却させ、表裏面の熱可塑性樹脂のみを固化させ、ついで、加圧プレスしてシート化することを特徴としている。 - 特許庁

To control setting/changing of an audio signal process characteristic in a simple and intuitive manner according to user's operation on a two-dimensional display surface in which a parameter of audio signal is developed.例文帳に追加

オーディオ信号のパラメータが展開された２次元の表示面に対するユーザ操作に従って、簡単かつ直感的にオーディオ信号処理特性を設定し変更する制御を行う。 - 特許庁

Before at least the process (b), a surface treatment is applied to at least a peripheral region 32 of the resin layer 20 to improve the wettability of the resin layer 20 with the resin material.例文帳に追加

少なくとも（ｂ）工程前において、少なくとも樹脂層２０の周辺領域３２に対して、樹脂層２０の樹脂材料との濡れ性を向上させる表面処理を行う。 - 特許庁

Thereby, the pretilt film 310 in a tapered structure having a uniform inclined surface can be formed, which increases the response time of the liquid crystal and can ensure process margin.例文帳に追加

これにより、均一な傾斜面を有するテーパ構造のプレチルト膜３１０を形成することができ、液晶の応答速度を向上させるとともに、工程マージンを確保できる。 - 特許庁

At a next pump assembly assembling process, the single body characteristic check value of the opening valve response time of the solenoid spill valve 6 directly marked to the surface of the valve body 33 of the solenoid spill valve 6 is read.例文帳に追加

次のポンプアッセンブリ組付工程で、電磁スピル弁６のバルブボデー３３の表面にダイレクトマーキングされた電磁スピル弁６の開弁応答時間の単体特性チェック値を読み取る。 - 特許庁

A ceramic layer 7 for polishing process is formed without inclusion of a pad 5 to a bottom surface 31a of the ceramic layer 31 of the lowest layer of the package 3 holding therein a solid-state imaging device 21.例文帳に追加

固体撮像装置２１をその内部に保持するパッケージ本体３の最下層のセラミック層３１の底面３１ａに研磨用セラミック層７をパッド５を避けるように形成する。 - 特許庁

The treating method of an aluminum nitride powder includes a process for forming an aluminum oxide layer or an aluminum oxynitride layer on the surface of the aluminum nitride powder by heat treating the aluminum nitride powder in an oxygen-containing atmosphere.例文帳に追加

窒化アルミニウム粉末を、酸素含有雰囲気下で熱処理することにより、窒化アルミニウム粉末の表面に酸化アルミニウム層または酸窒化アルミニウム層を形成する工程を有する。 - 特許庁

To provide an automatic bread maker for preventing bread draught from being remarkably damaged in a degassing process so that the surface of the finished bread is coarse, and the internal phase of bread is not uniform.例文帳に追加

ガス抜き工程時にパン生地が著しく損傷し、出来上がったパンの表皮が荒れ、パンの内相が不均一となることをなくした自動製パン機を提供することを目的とする。 - 特許庁

A strain gage circuit 34 is formed on a surface of a beam member 20 by a semiconductor process so as to monitor the voltage produced by strain of the beam member 20 (torsion bar spring).例文帳に追加

梁部材２０の表面には歪ゲージ回路３４が半導体プロセスによって形成されており、梁部材２０（トーションバースプリング）の歪により生じる電圧をモニターすることができる。 - 特許庁

The process for treating the metal article can comprise a step of fusion-welding cladding (2) onto the metal article with a surface and a step of processing the compression-hardened depth of the cladding (2).例文帳に追加

金属物品を処理する本方法は、表面を備えた物品上にクラッディング（２）を融接するステップと、クラッディング（２）を圧縮硬化深さ処理加工するステップとを含むことができる。 - 特許庁

To solve such a problem that a spacing between a head and a medium is widened since surface roughness of a recording layer gets larger in the process of fabricating a patterned medium, and as a result, recording performance and corrosion resistance of the medium are degraded.例文帳に追加

パターンドメディアの作製工程で記録層表面の凹凸が大きくなるためヘッドとメディア間のスペーシングが大きくなり、その結果として記録性能と耐食性が劣化する。 - 特許庁

To detect automatically a degreased state of a measuring object surface, regardless of oil properties on a quantitative basis, without being influenced by the procedure of a manufacturing process or by individual weight.例文帳に追加

定量的な基準で、製造工程の手順や個々の重量に影響されることなく、油分の性状に関わらず被測定物表面の脱脂状態を自動的に検知する。 - 特許庁

To provide a cleaning device for manufacturing an information display panel that can be installed easily and inexpensively at a reverse side of the substrate conveying surface in any process with a simple configuration.例文帳に追加

簡単な構成で基板搬送面の裏側への設置が容易であり、設備費もかからず、どの工程でも設置可能な情報表示用パネルの製造に用いるクリーニング装置を提供する。 - 特許庁

After that, a contaminated device to be dismantled next, etc. are placed on the spread used tent (a placement process, S3), the top surface and the side of the contaminated device, etc. are covered with an upper tent (a covering step S4).例文帳に追加

その後、拡げた使用済テントの上に、次に解体される汚染装置等を載せ（載置工程，Ｓ３）、上側テントによって、汚染装置等の上面及び側面を覆う（被覆工程，Ｓ４）。 - 特許庁

To provide a surface coating cutting tool on which a composite hard film having excellent deposition strength, toughness, and wear resistance is coated and formed in a cutting process of a material hard to cut, such as titanium alloy.例文帳に追加

チタン合金等の難削材の切削加工において、付着強度、靭性、耐摩耗性に優れた複合硬質膜を被覆形成した表面被覆切削工具を提供すること。 - 特許庁

To provide a sintered target on which a deposited film having sedimented on a non-erosion part resists exfoliating from the target surface even in a continuous sputtering process in mass production, and a nodule and arcing resist occurring.例文帳に追加

量産時の連続スパッタリング工程においても、非エロージョン部に堆積した付着膜がターゲット表面から剥がれにくく、ノジュールやアーキングの生じにくい焼結体ターゲットの提供。 - 特許庁

If a back portion forming process is set upon performing back surface forming (S102), the regulations of the kind of a sheet, the number of stitched sheets, and the thickness of the sheet bundle are determined by S103 to S105 that are first determination criteria.例文帳に追加

背面形成を行う際、背部形成処理が設定されていれば（S102）、第1判定基準であるS103−105により用紙種、綴じ枚数、用紙束厚の規定を判別する。 - 特許庁

The fixed contact 46 and the movable contact 56 act as the surface in contact with the side of a molding section during the growing process of the contact layers 45, 55 through vapor deposition, sputtering and the like.例文帳に追加

この固定接点４６及び可動接点５６は、接点層４５及び５５を蒸着やスパッタリング等により成長させる工程で、モールド部の側面に接していた面である。 - 特許庁

A projection 22c can be integrally molded on the surface of a conduction part 22 of the spiral contact piece 20 by applying a plating process to the groove part 43a and the recess 41a.例文帳に追加

前記溝部４３ａと凹部４１ａに対してメッキ工程を行うことにより、スパイラル接触子２０の導電部２２の表面に凸部２２ｃを一体形成することができる。 - 特許庁

To provide a water-soluble detergent composition attaining high cleanliness of a product surface which is required in a washing process for an electronics material, a metal, glass, sapphire or a resin.例文帳に追加

エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁

In the separation process (S15), a micro cavity is grown up inside a fixed distance from the flat surface of the piezoelectric substrate 1, and a piezoelectric thin film 4 is separated from the piezoelectric substrate 1 bonded to the support part 2.例文帳に追加

剥離工程（Ｓ１５）は、圧電基板１の平坦面から一定距離の内部でマイクロキャビティを成長させて、支持部２に接合する圧電基板１から圧電薄膜４を剥離する。 - 特許庁

To provide a processing method for a substrate and a substrate holding device that can rotate and process a substrate with a warp in a state wherein the substrate is stably sucked and held on a substrate placing surface.例文帳に追加

反りがある基板を、基板載置面に安定して吸着・保持したまま回転させて処理を行うことができる、基板の処理方法及び基板保持装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a cement type base material which can control occurrence of back-surface shrinkages of the cement type molding in the press molding process of press-molding a cement type molding.例文帳に追加

セメント系成形体にプレス成形を施すプレス成形工程においてセメント系成形体の裏面ヒケの発生を抑制することができるセメント系基材の製造方法を提供する。 - 特許庁

An ALC plate 1 forming a lightweight cellular concrete plate is heated in a heating process 2 to adjust the water-content of the ALC plate 1 and keep the surface temperature to 40-60°C.例文帳に追加

軽量気泡コンクリート板となるＡＬＣ板１を加熱工程２で加熱し、該ＡＬＣ板１の含有水分を調整すると共に表面の温度を４０℃〜６０℃の範囲に保持する。 - 特許庁

In the substrate pretreatment washing process when semiconductor devices are prepared, a substrate temperature is maintained from the room temperature to 1200°C, and ultraviolet rays are applied onto the substrate surface for carrying out ozone exposure.例文帳に追加

半導体デバイス作製時の基板前処理洗浄工程おいて、基板温度を室温から1200℃の範囲に保ち、基板表面に紫外線を照射しつつオゾン暴露を行う。 - 特許庁

To provide a microwave introduction apparatus wherein microwaves can be uniformly introduced into a plasma processing chamber, and to provide a SWP (Surface Wave Plasma) processing apparatus which can carry out a process uniformly without any damages by plasmas.例文帳に追加

マイクロ波を均一にプラズマ処理室内に導入できるマイクロ波導入装置、およびプラズマダメージのない均一な処理ができるＳＷＰプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

When a binding process is performed with staples 411, as shown in (A), sheets of paper S are stacked on a paper stacker section 35 with a surface formed with an image facing downward.例文帳に追加

ステープル針４１１により綴じ処理が行われる場合、（Ａ）に示すように、画像が形成された面が下向きとなる状態で用紙積載部３５上に用紙Ｓが積載される。 - 特許庁

To provide a low linear pressure and high surface pressure cleaning structure by specifying a material, a shape and a support structure of a cleaning blade in a cleaning device, a process cartridge and an image forming device.例文帳に追加

クリーニング装置、プロセスカートリッジ、および画像形成装置において、クリーニングブレードの材質や形状や支持構成を特定することにより、低線圧で高面圧なクリーニング構成を得る。 - 特許庁

The surface treated according to the process is characterized by a high degree of lubricity, and is able to inhibit the adhesion of cells or bacteria present in the biological fluids.例文帳に追加

その方法により処理された表面は、高度の潤滑性によって特徴づけられ、生物学的な液体中に存在する細胞または細菌の付着を防止することができる。 - 特許庁

To provide a method for producing an article by which hydrophilic properties and oil repellency can be imparted to the surface of an article, and further, durability of the hydrophilic properties and oil repellency is satisfactory by a relatively simple process.例文帳に追加

比較的簡易なプロセスで、物品の表面に親水撥油性を付与することができ、しかも該親水撥油性の耐久性が良好である物品の製造方法を提供する。 - 特許庁

After the end of the washing, the inside surface of the pneumatic transportation piping 16 is rapidly and efficiently dried by driving a heater 11 for heating and a blower 10 in a process of drying the interior of the piping.例文帳に追加

洗浄終了後、配管内乾燥過程で加熱ヒータ１１及びブロア１０を駆動させて、短時間で効率よく空気圧輸送配管１６の内面を乾燥させる。 - 特許庁

To prevent the occurrence of discharge by insulating a pace between a rear surface protection layer of a solar cell panel and a frame member over a wide range without using sealants by a simple configuration and a simple manufacturing process.例文帳に追加

シール材を用いることなく、簡単な構成と製造工程で、太陽電池パネルの裏面保護層と枠部材間を広い範囲で絶縁して、放電の発生を防止する。 - 特許庁

The bearing 4 is a shell type roller bearing disposing a plurality of needle rollers 12 along an internal diameter surface 11c of a shell type outer ring 11 formed by press processes including a drawing process.例文帳に追加

軸受４は、絞り工程を含むプレス加工で形成されたシェル型の外輪１１の内径面１１ｃに沿って複数の針状ころ１２を配列したシェル型ころ軸受である。 - 特許庁

To provide an expansion method capable of reducing defects in each of which chipping occurs in transporting a wafer after a protective sheet on a wafer surface is separated in an expansion process.例文帳に追加

エキスパンド工程において、ウェーハ表面の保護シートを剥離した後のウェーハの搬送時にチッピングが発生するという不具合を低減することができるエキスパンド方法を提供する。 - 特許庁

In the process of cleaning a substrate to form a photosensitive layer on the substrate of a seamless belt type electrophotographic photoreceptor, cleaning is carried out while a brush is brought into contact with the outer surface of the substrate.例文帳に追加

シームレスベルト状電子写真感光体の基体に感光層を形成する際の基体の洗浄において、基体外周面にブラシを接触させながら洗浄を行う。 - 特許庁

To provide a fabrication process of an optical semiconductor device having high photosensitivity characteristics by reducing reflectivity of the light-receiving surface particularly for short wavelength light centering on blue light.例文帳に追加

特に青色光を中心とした短波長光に対し、受光面における反射率が低減され、高受光感度特性となっている光半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To easily select and designate a support backup pin in a backup pin setting device for supporting a printed wiring board, in a process for constituting a both surface mounting printed wiring board.例文帳に追加

両面実装のプリント配線基板を構成する過程に於ける該プリント配線基板を支持するバックアップピン設定装置に関し、支持するバックアップピンの選択指定を容易とする。 - 特許庁

To provide a surface-modified carbon black pigment suitable as black particulate for electronic paper, a dispersion of the carbon black pigment in a silicone oil, and also to provide a process for production of the carbon black pigment.例文帳に追加

電子ペーパー用の黒色微粒子として好適な表面改質カーボンブラック顔料、そのシリコーンオイル分散体、該カーボンブラック顔料の製造方法を提供すること。 - 特許庁

When a plasma process is continued, an increase in charge density on the surface of a wafer caused by an increase in electron energy is prevented by supplying power as a pulse for generating plasma.例文帳に追加

プラズマ工程を進行する際に、プラズマを発生させるための電力をパルスとして供給することによって電子エネルギー増加によるウェハー表面のチャージ密度増加を防止する。 - 特許庁

In the subsequent drying process, the solvent in the mix body evaporates and a sponge type center part and a surface part densely having holes of smaller diameter than the center part are formed.例文帳に追加

続く乾燥工程で、合剤体中の溶媒が蒸発して、スポンジ状の中央部と、中央部に比べて孔径の小さい空孔を緻密に有する表面部とが形成される。 - 特許庁