「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(95ページ目) - Weblio英語例文検索

To more reliably preventing adhesion of dust to a magnetic disk glass substrate and a state change of a surface of the magnetic disk glass substrate in a process of wrapping operation.例文帳に追加

梱包する作業の過程において磁気ディスク用ガラス基板への塵埃の付着、ならびに磁気ディスク用ガラス基板表面の状態変化を、より確実に防止することを目的としている。 - 特許庁

As shown in Fig.1(f), resist 109 is applied on the surface of the bump forming layer 104 on which the bumps 107 are formed, and as shown in Fig.1(g), a resist 110 is formed by means of an exposure/development process.例文帳に追加

図１（ｆ）に示すように、バンプ１０４が形成された面にレジスト１０９を塗布し、図１（ｇ）に示すように、露光および現像を行うことによりレジスト１１０を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a surface acoustic wave element for easily realizing frequency adjustment, for simplifying a manufacturing process, and for accurately realizing frequency adjustment without requiring any equipment especially.例文帳に追加

周波数調整が容易で、製造工程が簡単であり、設備も特別に必要とせず正確な周波数調整が可能な弾性表面波素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The contact part 50 is formed approximately in the form of spherical surface by a sheet drawing process at the end 40a of the spring part 40 and is protruded from the storage hole 21a in the side part 21.例文帳に追加

そして、バネ部４０の端部４０ａには、絞り加工によって略球面状の接触部５０を形成し、上述した側部２１の収納穴２１ａから突出させる。 - 特許庁

To provide a design method of an integrated circuit device capable of reducing characteristic variation of a macrocell due to the difference of an automatic generation part of a dummy pattern for a flattening process of an insulation layer surface; and the like.例文帳に追加

絶縁層表面の平坦化処理用ダミーパターンの自動発生箇所の相違によるマクロセルの特性変動を低減する集積回路装置の設計方法等を提供すること。 - 特許庁

To provide a terminal forming device and a terminal forming method, by which it does not take much time and efforts to perform a process of changing and positioning a surface, where a thin film becoming an external terminal is formed.例文帳に追加

外部電極となる薄膜を形成する面を換えて位置決めする工程に手間がかからない端子電極形成装置及び端子電極形成方法の提供。 - 特許庁

Moreover, as an insulating cover treatment process, insulating cover treatment is applied to the surface of the plate-shaped conductor 10, in at least a certain period before or after the formation or during the formation of the square conductor 1.例文帳に追加

また，絶縁被覆処理工程として，角線導体１の形成前後又は形成中の少なくともいずれかの時期に，板状導体１０の表面に絶縁被覆処理を施す。 - 特許庁

The member 60 is mounted fast on the fabricated mold body 42 by conducting the specified electroformation process upon setting on a mold forming surface of an inlet tank model.例文帳に追加

なお形状調整部材６０は、入槽モデルの型成形面へセットしたもとで所定の電鋳を行なうことで、製作された型本体４２に一体的に取付けられている。 - 特許庁

In this manufacturing method, after washing a piezoelectric single crystal wafer for the surface acoustic wave substrate with weak acid liquid whose pH is in the range of 4.0-6.5, it is cleaned with pure water whose pH is in the range of 6.0-8.0 (pre-processing process).例文帳に追加

弾性表面波基板用圧電単結晶ウェーハをｐＨが 4.0〜 6.5の範囲の微弱酸液で洗浄した後、ｐＨが 6.0〜 8.0の範囲の純水で洗浄する（前処理工程）。 - 特許庁

To provide a reusable printing plate the printing surface of which can generate or erase an image several times and the process time of which for adjustment has a short duration.例文帳に追加

その印刷面が、画像を何度も生成したり消去することが可能であって、かつその調製のためのプロセス時間が短い継続時間を有している、再利用可能な版を提供する。 - 特許庁

In a process for cooling the molten metal, the temperature is wholly and uniformly lowered from the wall surface to the center part of the vessel without developing the latent heat with the formation of the solidified layer at the initial stage.例文帳に追加

溶融金属を冷却する工程で初期凝固層の形成による潜熱の発生なしに容器の壁面から中心部にわたって全体的に均一に温度が低下する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor for forming proper images by hardly possessing dielectric breakdown in an electrophotographic process in the electrophotographic photoreceptor surface-roughened by blasting.例文帳に追加

ブラストにより粗面化された電子写真感光体であって、電子写真プロセスにおいて絶縁破壊されることなく、適切な画像を形成させることができる電子写真感光体を提供する。 - 特許庁

To provide a process and an apparatus for producing coatings which allow a layer with defined mechanical properties to be applied to a front surface of a substrate with little contamination of a vacuum chamber.例文帳に追加

汚染がほとんどない真空チャンバを用いて、所定の機械的特性を備えた層を基板の前面に形成させる薄膜の形成方法及び薄膜の形成装置を提供すること。 - 特許庁

The shower plate, through which both cleaning gas and reaction source gas flow, may include a hole machined surface area with a size different than conventionally used to ensure a good film thickness uniformity during a deposition process.例文帳に追加

クリーニングガス及び反応ガスの両方が通過するシャワープレートは従来と異なるサイズの孔切削表面を有し、膜堆積処理中に良好な膜厚均一性を保証する。 - 特許庁

When the processing mode of characteristic process is an entire surface mode requiring no image characteristics information (S701; Y), the parameter Zdata Length of packet data is set at 0 (S702).例文帳に追加

特性処理の処理モードが画像特性情報を必要としない全面モードである場合（Ｓ７０１，Ｙ）、画像入力インターフェース部において、パケットデータのパラメータＺｄａｔａＬｅｎｇｔｈを０に設定する（Ｓ７０２）。 - 特許庁

The cereals in a condition of letting the whole inside absorb water content is heated in the roasting process and a carbonized film 1b is formed on the surface of the cereals followed by carbonizing the inside of the cereals.例文帳に追加

焙煎工程では、水分を内部の全体に吸収させた状態の穀物を加熱し、穀物の表面に炭化被膜１ｂを形成した後に穀物の内部を炭化させる。 - 特許庁

In a coating process for forming a coat layer in the peripheral surface of a head part 72 of an intermediate product 150 formed by connecting two single-head pistons in series to each other, a roll coating device 180 is used.例文帳に追加

２個の片頭ピストンを直列に連結した中間製品１５０の頭部７２の外周面にコート層を形成するコーティング工程で、ロールコーティング装置１８０を使用する。 - 特許庁

To develop a method that is simple and permits the treatment of many specimens for screening a medicine inhibiting the transport process of a surface protein of a Gram-positive bacterium, particularly a sortase or FemABX activity.例文帳に追加

本発明の課題は、グラム陽性菌表層蛋白質の輸送過程、特にsortase・FemABX活性を阻害する薬剤の、簡便で多検体処理が容易な、スクリーニング方法を開発することにある。 - 特許庁

By using the mixture gas of HF gas and NH_3 gas like this, the silicon oxide film formed on the surface of the workpiece to be process is made removable efficiently.例文帳に追加

このようにＨＦガスとＮＨ_３ ガスとの混合ガスを用いることにより被処理体の表面に形成されているシリコン酸化膜を効率的に除去することが可能となる。 - 特許庁

(1) In the preparation process of an aluminate fluorescent body for luminous materials, aluminum hydroxide having a BET specific surface area of ≥100 m2/g is calcined as a raw material.例文帳に追加

（１）ＢＥＴ比表面積が１００ｍ^2／ｇ以上の水酸化アルミニウムを原料として、焼成することを特徴とする蓄光材用アルミン酸塩系蛍光体の製造方法。 - 特許庁

Differently from a method removing an unnecessary part after forming a layer over the whole surface, no removal of an unnecessary part is required, and consequently, there is no possibility of short-circuit due to dust generated in the removal process.例文帳に追加

また、全面に層形成後不要部位を除去する方法と異なり、不要部分の除去を行う必要がなく、この除去工程の発塵によるショートのおそれもない。 - 特許庁

The microstructure and a thin-film transistor for controlling the microstructure are integrally formed on the same insulative surface by the same process, to thereby achieve cost reduction.例文帳に追加

さらに微小構造体と、当該微小構造体を制御する薄膜トランジスタとを、同一絶縁表面上に同一工程で一体形成することにより低コスト化ができる。 - 特許庁

Moreover, a conventional process for preparing the tool path data can be omitted by directly deciding the tool position, so that this can be brought into contact with the curved surface, and therefore the productivity can be improved.例文帳に追加

さらに、曲面に接するように直接工具位置を決定するので、従来の工具経路データを作成する過程を省略でき、この点からも生産性が向上する。 - 特許庁

To provide a surface treatment method for metallic shaft by which the adhessiveness of a covering material can be enhanced, the treatment cost can be reduced by eliminating plating treatment process and productivity can be enhanced.例文帳に追加

被覆材の密着性が高く、鍍金処理の工程を排除することにより処理費用が削減され、生産性が高い金属製シャフトの表面加工方法を提供する。 - 特許庁

A solid article 36 is carved by the process and a device 10 in order to provide plural cells 12 carved at an interval in at least a part of the surface of the article 36.例文帳に追加

アーティクル３６の表面の少なくとも一部分に間隔をあけて彫刻された複数のセル１２を提供するために、プロセス及び装置１０が固体アーティクル３６を彫刻する。 - 特許庁

To provide a coating device and a coating method capable of applying a fluorescent liquid to the inside surface of a glass tube by a predetermined length, in a manufacturing process of a cold-cathode discharge tube.例文帳に追加

冷陰極放電管の製造工程において、ガラス管の内面に蛍光液が所定の長さだけ塗布されるようにした蛍光液の塗布装置および塗布方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device for membrane separation and activated sludge process in which prevention of clogging on the membrane surface and the biological reaction can be both efficiently carried out while using a common aeration device.例文帳に追加

共通の曝気装置を用いながら、膜表面の閉塞防止と生物反応とをともに効率良く行わせることができるようにした膜分離活性汚泥処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for rubbing a substrate for liquid crystal device by which a rubbing process can be applied uniformly onto the surface of an alignment layer of the substrate.例文帳に追加

液晶装置用基板の配向膜の表面に対し、均一なラビング処理を実施することが可能な、液晶装置用基板のラビング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This processing method for board has the process of preparing the board 101 on which a laser stopping layer 108 made of a material, which can suppress the permeation of laser beams, is installed on one surface side.例文帳に追加

基板の加工方法は、一方の面側にレーザー光の透過を抑制することが可能な材料からなるレーザーストップ層１０８が設けられた基板１０１を用意することを有する。 - 特許庁

During the polishing process, at least part of acetyl cellulose on the side of the polishing plane P is deacetylated by the slurry, while forming a surface layer 1a.例文帳に追加

研磨加工中に、研磨シート１に含有されたアセチルセルロースのうち少なくとも研磨面Ｐ側のアセチルセルロースの一部がスラリにより脱アセチル化され表面層１ａが形成される。 - 特許庁

To provide a polishing ball of monocrystal or polycrystal silicon having no distortion or residual stress in a working surface while keeping the shape precision before polishing process, and its manufacturing method.例文帳に追加

ポリッシング工程前の形状精度を維持しながら、加工面に歪みや残留応力のない単結晶または多結晶シリコンのポリッシング球、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for efficiently producing an organosiloxane bound vinyl polymer scarcely contaminated with impurities derived from a raw material of an organosiloxane and excellent in appearance and surface characteristics.例文帳に追加

オルガノシロキサン原料に由来する不純物の混入が少なく、外観や表面特性に優れるオルガノシロキサン結合ビニル系重合体を効率よく得る製造する方法を提供する。 - 特許庁

The raised portions extend away from the planar surface 46 in a direction of the central axis 48 and having a shape conforming to a thermal gradient incident on the plate during a combustion process.例文帳に追加

隆起部は各々、中心軸線（４８）の方向に平面表面（４６）から離れるように延び、かつ燃焼過程の間にプレート上に生じた温度勾配に一致する形状を有する。 - 特許庁

In forming the crosslinked polyurethane resin layer 8b and the dry-process cured resin layer 8c, the moist heat-cured resin layer 8a formed on the surface of the polyester fibers 12 suppresses the deformation of the nonwoven fabric 2.例文帳に追加

架橋ポリウレタン樹脂層８ｂ、乾式硬化樹脂層８ｃの形成時に、ポリエステル繊維１２の表面に形成された湿熱硬化樹脂層８ａが不織布の変形を抑制する。 - 特許庁

Under a thermal process in a nitrogen atmosphere at 900°C, a non-single crystal silicon film is made into single crystal, by epitaxial growth from the main surface of a substrate 1, forming an epitaxial silicon film 85.例文帳に追加

９００℃の窒素雰囲気下で熱処理を行うことで、非単結晶シリコン膜を基板１主面からのエピタキシャル成長によって単結晶化し、エピタキシャルシリコン膜８５を形成する。 - 特許庁

To provide a photomask for photolithography and a method for manufacturing the photomask which prevents deposition of foreign matter or a solder resist on the photomask surface even when the mask is repeatedly used for a baking process.例文帳に追加

焼付工程で繰り返し使用した場合であっても、フォトマスク表面に異物やソルダーレジストが付着しないフォトリソグラフィー用フォトマスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the process (a), a first semiconductor layer and a second semiconductor layer having a band gap larger than that of the first one are successively formed on a main surface of the formation substrate 101.例文帳に追加

工程（ａ）は、形成基板１０１の主面上に第１の半導体層及び該第１の半導体層よりもバンドギャップが大きい第２の半導体層を順次形成する。 - 特許庁

To provide a process cartridge comprising a photoreceptor, a rotary brush abutting on the surface of the photoreceptor and a brush casing, further surely suppressing scattering of toner by the rotary brush.例文帳に追加

感光体、感光体表面に当接する回転ブラシ、及びブラシケーシングを備え、回転ブラシによるトナー飛散をより確実に抑制することができるプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

A first patterning and an etching process are performed to the lower wiring material and the switching material to form a first structure 1102 having an upper surface area and a side area.例文帳に追加

下部配線材料及びスイッチング材料に対して第１パターニング及びエッチングプロセスを行い、上部表面領域及びサイド領域を有する第１構造１１０２を形成する。 - 特許庁

After ion implantation by forming a resist mask 14, the resist mask 14 is removed and the surface of a semiconductor wafer 2 is subjected to a cleaning process including at least pure water rinsing.例文帳に追加

レジストマスク１４を形成してイオン注入を行なった後、レジストマスク１４を除去して半導体ウェハ２表面に対して少なくとも純水リンスを含む洗浄処理を行なう。 - 特許庁

Thereafter, as a flattening process, embedded layers 4 are respectively formed in parts recessed as compared with parts overlapping the lower electrodes 12 on a surface of the polycrystalline silicon layer 2a (fig. (c)).例文帳に追加

その後、平坦化工程として、多結晶シリコン層３ａの表面において下部電極１２に重なる部分に比べて凹んだ部分にそれぞれ埋込層４を形成する（図１（ｃ））。 - 特許庁

To provide a molding mold and a molding method which can promote the functionality of functional particles by exposing them to the surface of a molded product simultaneously with the molding process of a resin material.例文帳に追加

機能性粒子を表面に露出させることによるその機能性の促進を、樹脂材料の成形工程と同時に行う成形用金型及び成形方法を提供する。 - 特許庁

For the after treatment of the permanent depilation processing, an induction roller 3 imparts the weak currents from the main body device 1 to the part of the skin surface subjected to the permanent depilation process.例文帳に追加

導入ローラ３において、本体装置１からの微弱電流を、永久脱毛処理後の手入れを行うために、永久脱毛処理を行った皮膚表面部位に与える。 - 特許庁

To provide a susceptor for manufacturing a semiconductor and a semiconductor-manufacturing device for obtaining the highly reliable semiconduc tor by preventing contamination in a semiconductor-manufacturing process and preventing a temperature gradient from occurring within a surface.例文帳に追加

半導体製造プロセスでの汚染が防止され、面内温度勾配の発生もなく、信頼性の高い半導体が得られる半導体製造用サセプタ、半導体製造装置の提供。 - 特許庁

To reduce surface defect by reducing the density of dislocation of a crystal layer in a process for forming a crystal layer of a nitride semiconductor using a lateral growth technology of seed crystal.例文帳に追加

種結晶による横方向成長技術を用いて窒化物半導体の結晶層を形成する工程において、結晶層の転位密度を低減し、表面欠陥を少なくする。 - 特許庁