「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(93ページ目) - Weblio英語例文検索

After removal of the silicon nitride film 113, a thermal oxidation film 117 and a photo resist 119 are deposited and subjected to a full-surface etch-back process to expose the thermal oxidation film 117 on the element region.例文帳に追加

シリコン窒化膜１１３を除去後、熱酸化膜１１７及びフォトレジスト１１９を堆積し、全面エッチバックを行って、素子領域上の熱酸化膜１１７を露出する。 - 特許庁

In the plastic ampoule 10, at least an inner wall surface side is formed by using a polycycloolefin having a glass transition temperature of not higher than 110°C, and the plastic ampoule 10 is formed by a blow-fill-seal process.例文帳に追加

プラスチックアンプル１０は、少なくとも内壁面側が、ガラス転移温度が１１０℃以下のポリ環状オレフィンを用いたものであり、ブロー・フィル・シール法により形成して得られる。 - 特許庁

This contact structure is prepared by forming a contactor 530 on the surface of a substrate 520 using a micro fabrication process, and comprises the substrate 520 and the contactor 530 formed on the substrate 520.例文帳に追加

コンタクトストラクチャは、基板表面上にマイクロファブリケーション行程を用いてコンタクタを形成することにより作成され、基板と、その基板上に形成されたコンタクタにより構成される。 - 特許庁

To always produce a laminated resin product good in appearance by avoiding the partial contact of a molten resin in a molten resin supply process with a molding surface.例文帳に追加

溶融樹脂を供給する工程における溶融樹脂の成形面に対する部分的な接触を回避することにより常に良好な外観の積層樹脂製品を製造する。 - 特許庁

To provide an oxide film of atom layer level wherein entrance of impurities into an oxidizing process of a silicon crystal surface is suppressed for flatter and evener interface between the oxide film and a semiconductor.例文帳に追加

シリコン結晶表面の酸化工程での不純物混入を抑制し、且つ酸化膜と半導体の界面をより平坦で均一にした原子層レベルの酸化膜を提供すること。 - 特許庁

To provide a printed wiring board and a multilayer printed wiring board which exhibit high junction reliability of an exposed surface in a process of additive wiring transfer using a conductive frame and a high mounting reliability.例文帳に追加

導電性フレームを使ったアディティブ配線転写工法における露出表面の接合信頼性、実装信頼性が高いプリント配線板および多層プリント配線板を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which wiring resistance is stabilized by employing integrated circuit wiring having a W plug where abnormal oxidation on the surface of the W plug is suppressed, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

Ｗプラグ表面の異常な酸化を抑制し、Ｗプラグを有する集積回路配線として配線抵抗の安定した半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

This mushroom bed cultivation method of the mushroom includes performing water spray treatment to a surface of a mushroom bed cultivation culture medium in a mushroom raising process.例文帳に追加

きのこの菌床栽培方法において、きのこの生育工程時に菌床栽培用培養基の表面に散水処理を行うことを特徴とするきのこの菌床栽培方法。 - 特許庁

The grooves in the circumferential direction are formed by mechanical texture processing carried out through a processing solution where very small diamond abrasive grains are dispersed between a process tape and the rotating glass substrate surface.例文帳に追加

周方向の溝は加工テープと回転するガラス基板表面の間に微細ダイヤモンド砥粒を分散させた加工液を介在させて行なうメカニカルテクスチャ加工によって形成されている。 - 特許庁

Since the engraved pattern 4 having a cubic effect is formed on the film 2 sealing the upper surface of the tray 1, the solicitation force of a package is improved without adding a process other than the heat sealing.例文帳に追加

トレー１の上面をシールするフィルム２に立体感のある刻印状の図柄４が形成されるので、パッケージの訴求力が向上し、ヒートシール以外の工程が増加することもない。 - 特許庁

To provide a solid electrolytic capacitor whose series resistance is reduced by a process of enlarging the actual surface area of a sintered pellet made of valvular metal powder, and a manufacturing method for the capacitor.例文帳に追加

弁作用金属の粉末から得る焼結ペレットの実態表面積を大きくして直列抵抗を下げた固体電解コンデンサ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an ultraviolet low-pressure mercury lamp having a light condensing type arc tube shape allowing an application process to the inner surface of an arc tube by a sol-gel method.例文帳に追加

発光管内面へのゾル・ゲル法による塗布工程が可能な集光型形状の発光管形状を有する紫外線低圧水銀ランプを提供することを目的とする。 - 特許庁

The conveyance mechanism 6 is used in the surface treatment apparatus 5 of a substrate material A during the manufacturing process of a circuit substrate; and has rollers 8 and 9, an intermediate charging board 24 and intermediate protrusions 25.例文帳に追加

この搬送機構６は、回路用基板の製造工程中、基板材Ａの表面処理装置５にて使用され、ローラー８，９と介装置板２４と介装突条２５を有している。 - 特許庁

To manufacture each layer of the fuel cell electrode flatly with little roughness on the surface in the manufacturing process of the fuel cell electrode that is formed on the base material.例文帳に追加

基材に形成される基材に形成される燃料電池電極の製造工程において、燃料電池電極の各層を、表面の凹凸が少なく、平坦に製造する。 - 特許庁

To provide a method for forming a mark on the surface of a golf ball, in which the mark can be formed in a simple process using ink jet printing, and attachment force of the mark is improved.例文帳に追加

インクジェット印刷を用いて、簡単な工程でマークが形成でき、かつ、マークの付着力を向上させたゴルフボール表面にマークを形成する方法を提供しようとするものである。 - 特許庁

The method of manufacturing polarizing plate includes a process S8 of disposing a transparent protective layer at least on one surface of the polarizer manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加

本発明に係る偏光板の製造方法は、前記製造方法によって製造された偏光子の少なくとも片面に透明保護層を設ける工程Ｓ８を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a process for producing a ceramic multilayer wiring board in which a wiring conductor layer having a high pattern precision can be formed on the surface and/or internally by simultaneous sintering with an insulation substrate.例文帳に追加

パターン精度の高い配線用導体層を絶縁基体との同時焼成にて表面および／または内部に形成できるセラミック多層配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a printed circuit board capable of forming a partial nickel/gold plated state of good quality, in a short process and manufacturing period at a low cost.例文帳に追加

品質の良い部分的ニッケル／金めっき状態を、短い工程数かつ製造時間で、しかも低コストで形成することができるプリント配線板の表面処理方法の提供。 - 特許庁

In the coating process, a part of the outer peripheral surface 2s of a rodlike first member 2 made of a metal remains coated with an expandable resin 3 and a non-expandable resin 4.例文帳に追加

被覆工程では、棒状で且つ金属製の第１部材２において、その外周面２ｓの一部が、発泡樹脂３及び非発泡樹脂４によって被覆された状態とする。 - 特許庁

One-side mounting surface 101a of a transparent flexible substrate is formed with a wiring pattern and an identification pattern 104b indicating the identification information such as the serial number by a same etching process.例文帳に追加

透明なフレキシブル基板の片側実装面（１０１ａ）に、配線パターンと、シリアルナンバ等の識別情報を表す識別パターン（１０４ｂ）とを同一のエッチング工程で形成する。 - 特許庁

Also, in its manufacturing method, a pressure membrane printing process is used to form the antenna pattern 12 on the surface of the bobbin 11, and the resist glass is sintered on it before being coated with the overcoat 13.例文帳に追加

また、その製造方法では、圧膜印刷工程を用いてボビン１１の外周面にアンテナパターン１２を形成し、その上にレジストガラスを焼結してオーバーコート１３が施されている。 - 特許庁

The toner and foreign matter remaining on the surface of a photoreceptor drum 1 at a transfer process are removed and recovered by a cleaning device 7, and stored in a toner recovering container 11 through a pipe 7b.例文帳に追加

転写工程の際に感光体ドラム１の表面に残留したトナーや異物をクリーニング装置７で除去・回収し、パイプ７ｂを介してトナー回収容器１１に収容する。 - 特許庁

Subsequently, the P-type organic semiconductor layer 7 is formed on the whole surface and the resist 20 is dissolved in an alkaline developer solution and then the P-type organic semiconductor layer is patterned by means of lift off process.例文帳に追加

次いで、Ｐ型有機半導体層７が全面に形成された後、アルカリ現像液によってレジスト２０が溶解させられ、Ｐ型有機半導体層７がリフトオフによりパターン化される。 - 特許庁

The metal thin layer 14 is locally formed in only the central part on the outer surface of the bottom plate of the cylindrical battery case 11 formed in the cylindrical shape with bottom after a can forming process is finished.例文帳に追加

金属薄膜層１４は、製缶工程が終了して有底筒状とされた電池ケース１１に対してその底板部外面の中央部にのみ局部的に形成する。 - 特許庁

To provide a process for producing a thermoplastic resin foam molded product which can prevent the deposition of a decomposition residue of sodium citrate, included in a blowing agent, on the inner surface of a mold.例文帳に追加

発泡剤に含まれているクエン酸ナトリウムの分解残渣が金型の内面に堆積することを防止することが可能な熱可塑性樹脂発泡成形体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The optical characteristics equivalent to that obtained by a polishing processing method are obtained, and further it can be manufactured by a surface treatment process that is simplified more than a coating processing method.例文帳に追加

本発明によれば、研磨処理法によるものと同等の光学特性が得られ、しかもコーテイング処理法よりも簡略化された表面処理工程で製造することができる。 - 特許庁

To reduce the amount of an oligomer generated in melt molding to thereby provide a process for producing a polyester resin composition excellent in the capability of controlling the deposition of an oligomer, surface properties and productivity.例文帳に追加

溶融成型時に発生するオリゴマーを低減し、これにより、析出オリゴマー抑制性、表面性、生産性の優れたポリエステル樹脂組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

A scouring jet 13 discharges process fluid to remove solids and other contaminants from the surface of a sensor such as an infrared analyzer 9 contaminated in a main sample flow 8.例文帳に追加

メイン試料フロー８において汚染された赤外分析器９などのセンサの表面から、固体および他の汚染物質を除去するために、スカワリングジェット１３がプロセス流体を吐出する。 - 特許庁

POLISHING SLURRY, SURFACE TREATMENT METHOD OF GROUP III NITRIDE CRYSTAL, GROUP III NITRIDE CRYSTAL SUBSTRATE, GROUP III NITRIDE CRYSTAL SUBSTRATE WITH EPITAXIAL LAYER, SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS FABRICATION PROCESS例文帳に追加

ポリシングスラリー、ＩＩＩ族窒化物結晶の表面処理方法、ＩＩＩ族窒化物結晶基板、エピタキシャル層付ＩＩＩ族窒化物結晶基板、半導体デバイスおよびその製造方法 - 特許庁

An image forming process of developing, transferring and cleaning is repeatedly performed for every color on the surface of a photoreceptor drum 21 with black toner as undefined toner and three kinds of color toner as spherical toner.例文帳に追加

感光体ドラム２１表面では、不定形トナーであるブラックトナーと、球形トナーである３色のカラートナーとにより、各色毎に現像、転写、クリーニングの画像形成プロセスが繰り返される。 - 特許庁

To provide an optical inspection apparatus capable of identifying a defect of optical characteristics, removing foreign matters from a panel surface during an inspection process, and supplying power to a panel being inspected.例文帳に追加

光学特徴の欠陥を識別でき、かつ検査工程においてパネル表面の異物を除去でき、また検査中のパネルに電力が供給できる光学検査装置を提供すること。 - 特許庁

To suppress deformation of an intermediately processed cylinder liner by steam treatment, in a manufacturing process for a cylinder liner for an internal combustion engine having a steam treated iron oxide coating on its inner peripheral surface.例文帳に追加

内周面に水蒸気処理酸化鉄皮膜を有する内燃機関用シリンダライナの製造工程において、水蒸気処理によるシリンダライナ中間工程品の変形を抑制する。 - 特許庁

To provide a glass-ceramic substrate production process which enables production of a glass-ceramic substrate having high dimensional accuracy by surely restraining sintering shrinkage liable to occur within a laminated surface of each of the constituent glass-ceramic green sheets of a laminate when the laminate is sintered.例文帳に追加

ガラスセラミック・グリーンシートの積層面内での焼結収縮を確実に拘束して、寸法精度の高いガラスセラミック基板を得る方法を提供することである。 - 特許庁

Because the surface subjected to a hot melt process has a small coefficient of friction, the operation to coat the dresser 10 with the heat insulating material 20 becomes easier, and it is possible to reduce generation of wrinkles, etc.例文帳に追加

ホットメルト処理が施された面が、摩擦係数が小さいため、断熱材２０を流し台１０へ被せるときの作業が容易となり、皺等の発生を軽減することができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer whose marking does not exert bad influence upon itself in the middle of manufacture and which is hardly influenced by the surface treatment applied in each process of manufacture of itself.例文帳に追加

製造途中のウエハに悪影響を及ぼさず、かつ、半導体ウエハ製造の各工程で施される表面処理による影響を受けにくい半導体ウエハを提供する。 - 特許庁

Therefore, without distinction of the material of electronic part and undergoing the surface treatment process, the deterioration of strength or bonding lifetime of bonding material 3 under the high temperature environment can be prevented.例文帳に追加

このため、電子部品の材料を問わず、また、表面処理工程を行わなくても、高温環境下での接合材料３における強度劣化や接合寿命の低下を防止できる。 - 特許庁

In a process for cooling the molten metal, the temperature is wholly and uniformly lowered from the wall surface to the central part of the vessel without developing the latent heat caused by the formation of the solidified layer at the initial stage.例文帳に追加

溶融金属を冷却する工程で初期凝固層の形成による潜熱の発生なしに容器の壁面から中心部にわたって全体的に均一に温度が低下する。 - 特許庁

To provide an optical element which needs no new manufacturing process and which can detect required and sufficient reflected light from a part of an exterior surface of the optical element after molding.例文帳に追加

新たな製造工程を必要とすることなく、成形後の光学素子の外表面の一部の面から、必要十分な反射光を検出することが可能な光学素子を提供する。 - 特許庁

In the process of the disk holding releasing operation, the cam follower of the second cam mechanism slides on the inclined part of a cam surface before the first cam mechanism to separate the chucking pulley 51 from the turntable 91.例文帳に追加

ディスク挟持解除動作の過程では、第１カム機構に先行して第２カム機構のカムフォロワーがカム面の傾斜部上を摺動して、チャッキングプーリ51をターンテーブル91から離間させる。 - 特許庁

The process includes a step of annealing 200 under a reductive atmosphere 100 followed by a step of chemical-mechanical polishing on an exposed surface 54 of a working layer 52.例文帳に追加

機能層５２の露出表面５４に対する化学−機械的研磨工程を含み、この研磨工程の実行前に還元性雰囲気１００内での焼鈍工程２００を更に含む方法。 - 特許庁

To provide a pressure-bonding method, in which the elongation of a ceramic multilayer substance is inhibited and density of the inside of the multilayer surface is uniformed in the process for pressure-bonding the ceramic multilayer electronic element.例文帳に追加

セラミック積層電子部品の圧着工程において、セラミック積層体の伸びを抑制し、積層体面内の密度が均一になる圧着方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an apparatus for electroless plating, which reduces the usage of plating solution, maintains a plating process stably, miniaturizes the apparatus, reduces cost, and uniforms film thickness within the surface.例文帳に追加

めっき液の使用量を少なくでき、安定なめっきプロセスが維持でき、装置の小型化と低コスト化が図れ、膜厚の面内均一性が図れる無電解めっき装置を提供すること。 - 特許庁

After a required developing process time lapsed, a rinse liquid feed nozzle 40 is moved from one end of the substrate W to the other to feed a developing solution onto the entire main surface of the substrate W.例文帳に追加

所要の現像処理時間経過後、リンス液供給ノズル４０が基板Ｗの一端側から他端側に移動して、基板Ｗの主面全体に現像液を供給する。 - 特許庁

To provide a lighting system for a moving sidewalk capable of illuminating a sidewalk surface in a more well-lighted manner than a conventional device and being easily manufacturable without requiring a complicated manufacturing process.例文帳に追加

歩道面を従来より明るく照らすことができ、しかも、煩雑な製作工程を要することなく簡便に製作し得るようにした動く歩道の照明装置を提供する。 - 特許庁

A pre-treating method for etching a semiconductor wafer includes a process of applying acid that is one main component of a mixed acid, and functions as a relaxing agent on the surface of the semiconductor wafer before etching P4 is carried out by the use of the mixed acid.例文帳に追加

混酸エッチングＰ_４を行う前に、半導体ウェーハの表面に混酸の１主成分であり緩和剤の働きをする酸を塗布する半導体ウェーハエッチングの前処理方法。 - 特許庁